JPH03114732A - 光硬化性多相組成物を使用する立体像形成方法 - Google Patents
光硬化性多相組成物を使用する立体像形成方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
射により光硬化する深さを自己規制することを特徴とす
る光硬化性材料を利用する方法に関する。
されている。ヨーロッパ特許出願(1987年6月6日
、5citex Corporation、 Ltd。
Hull、 Kodama、 Herbertによるも
のとされる種々の方法を含む文献について良く要約され
ている。さらに1988年6月6日にFudimに特許
された米国特許第4,752,498号にも背景が記載
されている。
積を順次に照射することによって段階的に三次元物体の
立体領域を形成することに関する。種々のマスキング技
術の他に直接レーザー描画法、即ち光硬化性ポリマーを
所望のパターンに従ってレーザ・ビームで照射し三次元
モデルを一層ずつ重ねて行く方法も記載されている。
点と露光を一定に保ち剛性の三次元物体の本体部を通じ
て各層上のすべての硬化部分の最終的な厚みを実質的に
一定にする手段とを組み合わせて利用する実用的な方法
を認識していない。
て実用的かつ有用に利用する特定の操作範囲内の重要な
相互関係も認識していない。
存する一定の露光レベルの範囲、光硬化の解像度および
深さに依存する最大加速度でのビームの最短移動距離の
範囲ならびに光硬化性組成物の感度に依存する最大ビー
ム強さの範囲がある。
にホトマスクあるいはラスタ走査を使用することを示唆
しているが、ベクトル走査の場合に露光を一定に保つた
めの解答は示唆していない。ホトマスクを使用すると、
時間、費用が過剰にかかるしラスタ走査も以下に示す多
くの理由のためにベクトル走査に比して望ましいもので
はない。即ち、ラスタ走査では 造形しようとしている物体が全体積のほんの小さな部分
である場合でも全域を走査する必要がある、 たいていの場合に記憶すべきデータ量ががなり大きくな
る、 記憶したデータの取り扱いが全体として難しい、 CADベースのベクトル・データをラスタ・データに変
換する必要がある。
る領域のみを走査すればよく、記憶す゛べきデータ量が
少ないほどデータの取り扱いが容易になりrCADベー
ス機の90%を越える1機種がベクトル・データを発生
し、利用している」(Lasers & 0ptron
ics+ 1989年1月号第8巻第1号56頁)。
った主たる理由は、その利点もさることながら、レーザ
のような現在のたいていの活性放射線線源のために利用
できる偏向システムの光学部材、例えばミラーの慣性゛
に関する問題が内包しているということにある。このよ
うな偏向システムは性質上電気機械式であるから、いか
なるビーム速度を達成する際にもそれに伴う加速度には
限界がある。速度の不均一性が避けられないので露光し
た光硬化性組成物には許容できない程の厚みのバラツキ
が生じる。特に高強度での露光が直前に行われていない
層部分の場合には高いビーム速度を使用する必要があり
、したがって加速時間を長くする必要があり、これがま
た露光組成物の厚みが不均一となる原因となる。低強度
のレーザを使用する場合には立体物体の造形に過剰な時
間がかかるので良い結果が得られない。さらに本発明に
ついて以下の説明で明らかにするような光硬化性組成物
の少なくとも前述の深さと露光レベルとの関係が維持さ
れない限りベクトル走査の有用性はさらに低下する。
する限り非常に一般的な用語を除いて特に配慮はなされ
ていない。
、その主なものとしては深さ方向へ光硬化が過剰になり
それに伴って幅方向への光硬化が不十分となることであ
る。この問題は剛性物体の片持ち部、または他の部分(
基体の真上には存在しない部分)で特にひどくなる。
硬化の幅を規制するために、放射線偏向物質を光硬化性
組成物中に導入することにより、すべての方向により吊
合いのとれた解像度を得ることにより上記の問題を解決
することにある。
Corp、 、 Ltd)には、収縮を減じるための射
線透過粒子を含有する固形化し得る液体を使用した三次
元モデル製作装置が開示されている。
ようなビーム形態のものを使用し一層ずつ直接描画する
ために、光硬化の深さと同時に増加する光硬化の幅を規
制するための放射8 線偏向物質を光硬化性組成物中に含有させ、すべての方
向により吊合いのとれた解像度を得る光硬化性組成物を
利用することにより三次元光硬化した立体像を直接造形
するための方法をその目的とするものである。このよう
にして形成された一体となった三次元物体または部分の
一体性もまた極めて向上したものとなる。
の層の少なくとも一部を光硬化させ、(c)活性放射線
にさきに露光した層の上に、光硬化性液体の新たな層を
導入し、そして(d)活性放射線に露光することにより
、前記新たな液体の層の少なくとも一部を光硬化させる 工程からなり、ここで光硬化性液体組成物は、エチレン
系不飽和モノマー、光開始剤、および放射線偏向物質か
らなることを要するものとし、そして前記偏向物質は第
1屈折率を有し前記組成物の残りは第2屈折率を有し、
しかも前記第1屈折率と第2屈折率との差の絶対値が0
以外であることを特徴とする、前記光硬化性液体組成物
の連続層から一体となった三次元物体を正確に造形する
方法である。
下図面の説明と共に詳細に説明する。
えられるようなビーム形態のものを使用して一層ずつ直
接描画するために、エチレン系不飽和モノマー、光開始
剤、および放射線偏向物質からなる光硬化性組成物であ
り、ここで前記偏向物質は第1屈折率を有し前記組成物
の残りは第2屈折率を有し、前記第1屈折率と第2屈折
率との差の絶対値が0以外である光硬化性組成物を利用
することにより三次元の光硬化した立体像を直接造形す
るための方法をその目的とするものである。
は多く提案されている。ヨーロッパ特許出願第250,
121号(Scitex corp、、Ltd 198
7年6月6日付)にはこの技術分野に関する報告につい
て優れた総括がなされ、Hull、 Kodamaおよ
びHerbertによる種々の試みが列挙されている。
ロック図で第1図に図示した。本装置およびその操作を
下記に示す。
力レーザを使用して一定の強度を有する活性放射線のビ
ーム(I2)を供給する。このビー1 ム(12)を変調器(14)に通過させ、そこでその強
度変調をすることが出来る。変調ビーム(12’)は次
いで2枚の鏡を組み合わせたベクトルスキャナーのよう
な偏向装置(16)を通過し各鏡はそれぞれ異なったモ
ータ(24)および(26)により別々に駆動される。
ことによりビームはX方向に偏向され、一方鏡(22)
の回転によりビームはX方向に偏向され、そしてX方向
とX方向とは直角である。即ち活性線ビーム(12’)
は制御可能に偏向されて容器(44)中にある表面(4
6)に存在する光硬化性組成物の所定の部分に向かう。
最も近い薄層(48)の最大層に等しい深さまで光硬化
される。ビームの複合動作は好ましくはベクトル型動作
でありビームはベクトル方式で動作する、または走査さ
れると言われる。電気機械的な偏向装置(16)は慣性
があるので薄層(48)上でのビーム(12” )の速
度もまた慣性および偏向装置(16)の電気機械的な特
性により制限される。
鏡(20)および(22)の偏向は第2コンピユータ制
御装置(34)で制御され、一方製作している固形物体
の形状に対応する画像データは第1コンピユータ制御装
置(30)中に記憶される。
、偏向装置(16)および第1コンピユータ制御装置(
30)と、それぞれ制御/フィードバックライン(50
)、(54)および(58)を経由して接続されている
。コンピュータ制御装置(3o)中に記憶されている画
像データはコンピュータ制御装置(34)に供給され、
処理後モータ(24)および(26)を回転させ、それ
に応じて鏡(20)および(22)を動かしてビームが
薄層(48)上の所定の位置に向かうように偏向させる
。
ードバックは偏向装置によりライン(54)を経由して
第2コンピユータ制御装置(34)に与えられる。
線に露光する方法は一般に2つの方法による。第1の方
法では容器中に液体溜めが有り光硬化性液体を追加して
導入する必要はない。このような場合可動テーブルまた
は床板により液体を支える。まずテーブルまたは床板を
その上に存在した光硬化性液体の部分だけ上昇させそし
て、テーブルまたは床板(41)の端部の周辺および/
またはその下方の容器中に存在する液体の部分だけ上昇
させる(例えばテーブルは液体が使用される時テーブル
の下方に流れるように存在する)。
、テーブルは降下して光硬化性液体の他の層が前の層の
上面に流れ込み、続いて新たに塗布された液層上の所定
の領域が露光される。必要ならば最終的三次元物品の形
状により液体単層より大きな厚さを光硬化してもよい。
体が形成するまで継続する。
ないが、露光工程の後光硬化性液体の新たな量が容器中
に導入され、前に露光されて光硬化した材料と光硬化性
液体との両方を含む層上に新たな液体層を形成させるも
のである。
しろ連続した液体層を光硬化する能力の方にそれが存在
する。
)から一定の短い距離で光硬化性組成物(40)の中に
位置決めされ、そして薄層(48)は表面(46)とテ
ーブル(41)との間におかれる。テープ5− ルの位置決めは配置装置(42)によりなされるが、そ
の位置は次に第1のコンピュータ制御装置(30)によ
りその中に記憶されたデータに合うように制御される。
ンピユータ制御装置(30)から第2コンピユータ制御
装置(34)に供給され、そこで偏向装置(16)から
得られたフィードバックデータとともに処理され、そし
てそれを制御するための変調装置(14)に供給され、
その結果ビームが薄層(48)の所定の位置にベクトル
方式で動作する場合でも露光は定常を維持する。
41)は第1コンピユータ制御装置(30)からの指令
によって配置装置(42)により所定の短い距離だけ降
下される。第1コンピユータ装置(30)からの同様の
指令に引き続き、層形成手段であるドクターナイフ(4
3)で表面(46)を平滑6− 化の目的で掃引する。次に同様の操作で第2、第3およ
びその次の層を剛性物体が完成するまで製造する。
ビームの形態でありさらに好ましくはレーザ・ビームの
形態であり光として何度も引用されているものまたは他
のものをも意味する。これは特に記載された実施例の観
点において説明をより明確にするためになされる。従っ
て本発明の思想と範囲を限定するとみなされないものと
する。しかしながら好ましい活性放射線は紫外(UV)
、可視および赤外(IR)光を含む光である。これらの
3つの光の波長域の中では紫外線がさらに好ましい。
効果と特徴を受は入れるために非常に重要であり、その
走査はベクトル型、ラスター型および他のいかなる型で
あるかを問わない。
走査をも意味する。しかしながら、これらの異なった型
のうちではベクトル型が好ましい。
光硬化性上ツマ−またはオリゴマーおよび少なくとも1
種の光開始剤を含有すべきである。本発明の目的にとっ
てモノマーおよびオリゴマーと言う用語は実質的に同等
でありそれらは交換可能に使用され得る。
当なモノマーとしてはt−ブチルアクリレート、t−ブ
チルメタクリレート、l、5−ベンタンジオールジアク
リレートおよびジメタクリレート、N、N−ジエチルア
ミノエチルアクリレートおよびメタクリレート、エチレ
ングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、
1.4−ブタンジオールジアクリレートおよびジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレートおよび
ジメタクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリ
レートおよびジメタクリレート、1,3−プロパンジオ
ールジアクリレートおよびジメタクリレート、デカメチ
レングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート
、l、4−シクロヘキサンジオールジアクリレートおよ
びジメタクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジ
アクリレートおよびジメタクリレート、グリセロールジ
アクリレートおよびジメタクリレート、トリプロピレン
グリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、グ
リセロールトリアクリレートおよびトリメタクリレート
、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびトリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
トおよびトリメタクリレート、ポリオキシエチル化トリ
メチロールプロパントリアクリレートおよびトリメタク
リレートおよび米国特許第3,380,831号に開示
されたような同様の化合物、2,2−ジ(p−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンジアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレートおよびテトラメタクリレー
ト、2,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)−プロパン
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、ポリオキシエチル−2,2−ジ(p−ヒドロキシ
フェニル)プロパンジメタクリレート、ビスフェノール
−Aのジー(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロピル)エーテル、ビスフェノール−Aのジー(2−メ
タクリルオキシエチル)エーテル、ビスフェノール−A
のジー(3−アクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル
)エーテル、ビスフェノール−Aのジー (2−アクリ
ルオキシエチル)エーテル、l、4−ブタンジオールの
ジー(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル
)エーテル、トリエチレングリコ0 1!4 −ルジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジ
アクリレートおよびジメタクリレート、1,2.4−ブ
タントリオールトリアクリレートおよびトリメタクリレ
ート、2,2.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオ
ールジアクリレートおよびジメタクリレート、l−フェ
ニルエチレン−1,2−ジメタクリレート、ジアリルフ
マレート、スチレン、l、4−ベンゼンジオールジメタ
クリレート、■、4−ジイソプロペニルベンゼン、およ
び1,3.5− トリイソプロペニルベンゼンが挙げら
れる。
るエチレン系不飽和化合物例えばアルキレンまたは炭素
数2〜15のアルキレングリコールから製造したポリア
ルキレングリコールジアクリレートまたはl −10の
エーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコールおよ
び米国特許第2.927.022号に開示されたもの、
例えば特に端末結合として存在する場合複数の付加重合
可能なエチレン系結合を有するものが上げられる。特に
好ましいモノマーとしてはエトキシル化トリメチロール
プロパントリアクリレート、エチル化ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒ
ドロキシペンタアクリレート、1.10−デカンジオー
ルジメチルアクリレート、ビスフェノール−Aオリゴマ
ー(7)シー(3−アクリルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロピル)エーテル、ビスフェノール−Aオリゴマーのジ
ー(3−メタアクリルオキシ−2−ヒドロキシアルキル
)エーテル、ウレタンジアクリレートおよびメタクリレ
ートおよびそのオリゴマー コブロラクトンアクリレー
トおよびメタクリレート、プロポキシル化ネオペンチル
グリコールジアクリレートおよびメタクリレート、およ
びその混合物が挙げられる。
用な光開始剤は米国特許第2.760,863号に示さ
れており、ビシナルケトアルドニルアルコール例えばベ
ンゾイン、ピバロイン;アクロインエーテル例えばベン
ゾインメチルおよびエチルエーテル、ベンジルジメチル
ケタール;α−メチルベンゾインα−アリルベンゾイン
、α−フェニルベンゾインを含むα−炭化水素−置換一
芳香族アシロイン、l−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ノールケトン、ジェトキシフェノールアセトフェノン、
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル] −
2−モルホリノ−プロパノン−1が含まれる。
2,875.047号、同第3,097,096号、同
第3.074,974号、同第3,097,097号お
よび同第3.145,104号に開示されている光還元
性染料および還元剤、並びに7エナジン、オキサジン、
オキサジン、キノン群の染料、M 1c h l e
rのケトン、ベンゾフェノン、アクリルオキシベンゾフ
ェノン、ロイコ染料を含む水素ドナーを有すル2,4.
5−1−リフェニルイミダゾリルダイマーおよび米国特
許第3,427,161号、同第3.479.185号
および同第3,549.367号に開示されているよう
なその混合物を使用出来る。
62号に開示されているような増感剤である。前記の光
開始剤または光開始剤系は光硬化性組成物の全重量の0
.05〜10重量%で存在する。
すると遊離基を生成する適当な他の光開始系としては共
役した炭素環系内に二つの環内炭素原子を有する化合物
である置換されたまたは置換されていない多核キノン例
えば9.10−アントラキノン、2−メチルアントラキ
ノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアン
トラキノン、オクタメチルアントラキノン、1.4−す
7トキノン、9.10−7エナントラキノン、ベンズア
ントラセン−7,12−ジオン、2.3−す7タセンー
5,12−ジオン、2−メチル−1,4−ナフトキノン
、1,4−ジメチル−アントラキノン、2.3−ジメチ
ルアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2.
3−ジフェニルアントラキノン、レテネキノン、7,8
,9.10−テトラヒドロす7タセンー5,12−ジオ
ン、および1.2,3.4−テトラヒドロベンズアント
ラセン−7,12−ジオンが挙げられる。また、アルフ
ァアミノ芳香族ケトン、トリクロロメチル置換したシク
ロへキサジェノンおよびトリアジンまたは塩素化アセト
フェノン誘導体のようなハロゲン化化合物 、第三アミ
ンの存在下でのチオキサントン、およびチタノセンがあ
る。
硬化の他のメカニズムの適用も本発明の範囲内にある。
重合、縮合重合、付加重合などが挙げられるがこれに制
限されるわけではない。
の成分も光硬化性組成物の中に存在させる事ができる。
般には界面付着促進剤、例えばオルガノシリコンカップ
リング剤、分散剤、界面活性剤、可塑剤、被覆剤例えば
ポリエチレンオキシドなどが挙げられる。可塑剤は液体
、固体、並びにポリマーでよい。可塑剤の例としては、
ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ブチルベン
ジルフタレート、ジベンジルフタレート、アルキルホス
フェート、ポリアルキレングリコール、グリセロール、
ポリ(エチレンオキシド)、ヒドロキシエチル化アルキ
ルフェノール、トリクレジルホスフェート、トリエチレ
ングリコールジアセテート、トリエチレングリコールカ
プレートまたはカブリレート、ジオクチルフタレートお
よびポリエステル可塑剤が挙げられる。
とは明確に区別されるべきである。
されてすでに光硬化したものを意味する。
放射線偏向物質からなる光硬化性組成物であり、ここで
前記偏向物質は第1屈折率を有し前記組成物の残りは第
2屈折率を有し、前記第1屈折率と第2屈折率との差の
絶対値が0以外である前記の光硬化性組成物を利用する
ことによる立体造形技術を意図したものである。
光硬化する深さは光硬化した幅よりも相当大きいがこれ
は主に使用されるビーム例えばレーザのビームなどが良
好に平行にされ合焦されているからである。組成物中の
環境中で照射に対して透明な不活性粒子状物質を添加す
ると一般に重合または光硬化に際し、収縮度が減少する
というような一定の利点が認められ、そして単位体積当
たり収縮される活性組成物の量が減じるため感光度がし
ばしば増加する。
る領域内ならば非常に大きな問題という程ではないが、
これは深さが基体の表面上の液体層の厚みにより主に決
定されるからである。しかしながら、液体の厚みが非常
に大きな片持ちの支持されていない部分ではこれは重大
な欠陥となる。それは光硬化される深さはもはや基体に
より制御または規制がなされないから=27− である。実際にはこの点が普通の二次元像形成と立体即
ち三次元像形成との間の差を最も顕著に示す部分である
。これは制御不可能な露光変動がある場合に、特に重要
でありそのため厚みのバラツキおよび解像度の不良を引
き起こす。
もう一つの問題がある。非常に限定された場合を除き一
つの部分の解像度および公差はすべての次元で比較され
得るべきであることが強く望まれている。一つの次元が
高い解像度を有し他の次元は非常に劣った解像度を有し
ても大した意味をなさないのは、上記の肴な場合を除き
最終的な解像度が必然的に劣ったものとなるからである
。透明な組成物の場合は深さ対幅の比率は高く、そして
即ち幅方向の解像度は深さ方向の解像度よりも高くなる
。実際のところ前記の解像度は寸法に対して逆比例し、
従って深さ対輻の比率が例えば5である場合、他の因子
が積極的な役割を果たさない時には幅の解像度は深さの
解像度より5倍優れている。
なる。深さ二幅の比率の範囲は7:1〜1:lが好まし
く3:l〜1:lがより好ましい。
光度を増加させるという課題はむしろ簡単な仕事のよう
に考えられ、そしてもし感度および他の重要なパラメー
タを考慮しなければその通りである。例えば組成物中に
放射線吸収物質を添加すると幅に対して相当の悪影響を
及ぼす事なく光硬化の深さが減少する。典型的な吸収物
質としては染料である。組成物のモノマーおよびオリゴ
マーも程度は異なるが吸収物質として働く。しかしなが
ら染料または他の吸収物質を使用すると、それらにより
吸収された活性放射線の一部は光硬化を直接促進するた
めには利用されなくなる。
光開始剤を考慮すると、吸収を起こさせるためには光開
始剤は一定の濃度以上でなければならないことが理解さ
れよう。組成物中の光開始剤としての含有量が0から次
第に増加するにつれて感度が増加し同時に深さも増加す
る。これは光硬化した最深部での低い欠乏領域では遊離
基の数が増加するために、ざらにポリマーが形成される
からである。照射により過剰量の光開始剤による相当程
度の妨害が始まる場合のみ光硬化する深さが減少するよ
うになる。
れは生成した遊離基の濃度が増加するにつれ分子量が減
少し、従って構造的な性質が低下するからである。同時
に遊離基が過剰の場合には遊離基が互いに結合し始め、
光開始剤と31 しての役目を果たすことなくエネルギーをまさしく吸収
することが考えられる。即ち光開始剤の量は限定された
方法で光硬化する深さを規制する手段として作用するこ
とが出来るが、同時に起こる望ましくない現象によりこ
の目的のためにそれ単独で使用された場合は、その有用
性がかなり減じる。
質の分離した相を利用して光の屈折または反射または散
乱またはこれらの任意の組み合わせ(以下放射線偏向と
称する)を含む条件下で深さ7幅の関係を制御するもの
である。
離した相の含量が増加する程、幅が増加するが深さは犠
牲となる。活性放射線は吸収されないが、まさしく偏向
されるので、活性放射線の相当する損失は起こらず、そ
れ故に感度の実質的な損失はない。即ち本発明の好まし
い2 実施態様において利用される放射線偏向物質は光硬化性
組成物を不透明にするので光硬化性組成物の環境中で実
質的に非透明性である。
象はそれらが起こる境界内の環境、条件の中で試験され
る場合にのみ重要であることに注目するのが本質的であ
る。例えば媒体中に分散された粉末はもしそれが放射線
を本質的に吸収しないばかりでなく実質的にそれが媒体
と同じ屈折率を有するため粉末の各粒子と媒体との界面
またはその周りで光の偏向が起こらないならば放射線に
対して透明である。同じ粉末を実質的に屈折率の異なる
液体中に分散した場合は半透明または不透明(粉末を含
有する媒体を直接通過する光の少なくとも一部分を妨げ
る)に見え、換言すればそれが非透明性であるように見
える。即ち半透明でも不透明でも通過する光の量に関す
る吸収としては最終結果は同じとなる。
は下記に示すように多くのファクター並びに得られるバ
ランスの関数であり、しかも特定の状態に依存する、そ
の時に「最適」であるとみなされた構成との兼合いであ
る。従っていかにして最適な特性を達成出来るかを示す
ために絶対的な値を与えようとするのは適当ではなかろ
う。むしろ画業の技術者が本発明を実施するにはこれら
のファクターを支配する相関関係を示し、そして技術者
が所望とする結果のために最適であるとみなすような特
性の一部を選択するのがはるかに正確であろう。光硬化
性組成物の中に放射線偏向物質の適当量があり、光硬化
する深さを少なくとも10%、より好ましくは少なくと
も20%そして更に好ましくは40%減少させるのが好
ましい。また深さ二輻の比率は前記の添加によって増加
しないのが好ましい。
程度に依存して5〜70重量%である。
物中の偏向物質の量は10〜60重量%の範囲が好まし
く、20〜50重量%が最も好ましい。
低減および感度の増加のために望ましい。
分散し、または乳化した放射線偏向物質の分離した相の
各々独立した単位をここで「粒子」と呼ぶ場合、最大粒
子径は平均粒子径として測定して光硬化する深さより小
さくなければならないが幅については必ずしもその必要
はない。実質的に総ての粒子が光硬化の深さよりも小さ
いのが好ましいがまた粒子の少なくとも90%が光硬化
した深さの半分より小さいのも好ましく、さらに粒子の
少なくとも90%が光硬化した深さの10分の1より小
さいのが好ましい。
ムの放射線の波長の約半分より大きいのが好ましい。波
長の約半分のところでは粒子の散乱収率は最大値を与え
、それは粒子サイズが小さくなるにつれて急速に減少す
る。他方では粒子サイズが放射線の波長の約半分を越え
て増加するにつれて散乱収率も、その速度は遅いが低下
し始める。さらに粒子サイズが増加する程、屈折および
反射の現象が優勢になる。実際上はすべての粒子が実質
的に同じ大きさを有するのは限定された状態のみであり
、この場合単分散と称せられる。一般に粒子サイズには
分布があるので活性放射線の偏向はすべての形の組み合
わせが可能である。また粒子の屈折率が高い程、散乱が
高くなるのを考慮にいれると実際には偏向物質中の含有
量を増減することにより所望とする任意の不透明度を達
成出来、これは即ち光硬化する深さを制御することにな
る。
った屈折率を持たなければならない。
ましく、少なくとも0.02異なっているのがより好ま
しく、そして少なくとも0.04異なったものがさらに
好ましい。
高く、そして前記混合物は上記の限定した範囲内に有る
限り露光した時さらに高い屈折率の差を与えるのが好ま
しい。より高い感度が得られる。
か実質的に透明となる例さえもある。
と操作可能にするためには放射線偏向物質をかなり多量
に必要とする。
体との屈折率の差が増加するとき;放射線偏向物質の含
有量が増加したとき;粒子径が減少したとき: 活性放射線の照射の結果屈折率の差が増加するとき: に起こる。
粒子径および屈折率に必要とされる範囲内にある粉末で
ある。光硬化性組成物の中で実質的に不溶性の粒子状有
機ポリマー化合物および光硬化性組成物の中で実質的に
不溶性の粒状無機化合物も含まれる。比較的非反応性の
酸化物および水酸化物のような酸素含有無機化合物が好
ましい。炭化物および窒化物並びにフッ化カルシウムの
ようなフッ化物も使用される。
使用され得るモノマーの例のリスト中で挙げたものの一
つのような架橋したモノまたは多官能のモノマーである
ポリアミド、ポリイミド、フルオロポリマーおよびその
混合物である。特に好ましいものとしては米国特許第4
.414,278号のような架橋したポリアクリレート
、ポリメタクリレート、ポリテトラフルオロエチレン、
ポリフルオロエチレンプロピレン、ポリフルオロアルコ
キシフルオロエチレンとテトラフルオロエチレンとのコ
ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびその混
合物並びに粉末状工業用プラスチックが挙げられる。
ウム、ケイ素、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウムの酸
化物および水酸化物のような反応性の余りない酸化物お
よび水酸化物および=39 その化学的または物理的混合物が挙げられる。
ニウム酸化物およびケイ素酸化物の混合物とは全く別の
化合物であり、一方これらの二つの酸化物の物理的混合
物とはケイ素酸化物とアルミニウム酸化物とが反応せず
に組み合わせたものである。アルカリまたはアルカリ土
類のようなより反応性のある他の酸化物および水酸化物
もその化学的混合物がしかるべき程度に非反応性である
限り、酸化物および水酸化物の化学的混合物として使用
してもよい。例えばカルシウムアルミノシリケートは酸
化カルシウム、酸化ケイ素および酸化アルミニウムの化
学的混合物であり、反応性ではないが化学的混合物中に
反応性酸化カルシウムを含有している。慣用のガラス類
もまた反応性および比較的非反応性酸化物両方を含有し
てはいるが不活性な化学的混合物としてのよい例である
。カーボネート特0 にアルカリ土類のカーボネートも本発明の実用のために
は有用である。
使用する分散剤および液体の偏向物質を乳化するために
使用する乳化剤も均一性、安定性などに関して重要な役
割を果たす。これらは粒子またはミセルの大きさに、つ
まりその放射線偏向特性に対する組成物の挙動に影響を
及ぼす。
物質の効果を示した。露光が増加するにつれ深さはプラ
トーに近づく。透明組成物である実施例2の試料の場合
は第2図に示すように試験した露光範囲内ではそのよう
なプラト−はなかった。前に論じたように屈折率を考慮
すれば、モノマー性トリメチロールプロパントリアクリ
レ−) (TMPTA)中で架橋したTMPTAの場合
は光硬化の深さを良好に自己規制する特性を与えるため
に放射線偏向物質の含有量は増加する必要がある(実施
例5)。
に示すが本発明を限定したりその範囲を制限するものと
解釈されないものとする。
製した。
×13八“×11Oミル厚)(約32.5X 32.5
x2.7mm)に注入した。過剰な液体はドクターナイ
フの刃によって除去した。この液体を上述のようにアル
ゴンイオンレーザビームの350〜360nmを利用し
て長方形パターン(1g/ + a” x 1’/ 2
”)(約38X 36mm)に露光した。
し、吸い取り乾燥させた。パターンの厚みを測定し照射
量刑にプロットした。
で混合した。
アクリレート)50 トフェノン) 試料は実施例1に示したように調製した。光硬化の深さ
と露光の関係を第2図に示した。露光された試料は透明
のままであった。
で混合した。
ト) 24.0 PlasLhall 4141(トリエチレングリコー
ルカプレート−カブリレート) 12.0 架橋したTMPTAビーズ(米国特許 のように調製) 40.0 Irgacure 651(2,2−ジメトキシ2−フ
ェニルアセトフェノン) 1.6試料は実施例1
に示したように調製した。光硬化の深さと露光の関係を
第3図に示した。この試料は光硬化の前後で不透明であ
った。
で混合した。
に調製) 40.0 Irgacure 651(2,2−ジメトキシ2−フ
ェニルアセトフェノン) 0.4試料は実施例1
に示したように調製した。光硬化の深さと露光の関係を
第5図に示した。前記の試料は光硬化の前後で不透明で
あった。
) 50.0 50.0 50.0 Triton X −100(オクチルフェノールポリ
エーテルアルコール) 1.0 1.0 1.0 Irgacure 651(2,2−ジメトキシ2−フ
ェニルアセトフェノン) 0.93 0.6 0.54 アJl、77アルミナ(平均粒径2.4μm7ALCO
A社) 132.0ポリテトラフロオロエチレン粉末 (平均粒径3.0μm MicroPowders社)
50.0 ポリエチレン粉末(平均粒径2μm。
間最高速で撹拌した。
J / c m 2.6Bの場合17.4mJ/c、
m2、そして6Cの場合32.5mJ/ cm”であっ
た。
、露光の前後で不透明であった。試料6Aは上記で示し
たように優れた感度を与えlこ 。
組成物の連続50層から三次元物体の造形を行った。線
源として波長350〜360のアルゴンイオンレーザ−
を利用した。レーザビーの直径は1インチの1000の
5(約屹12mm)であった。各層の厚さは1インチの
1000のlO(約0−25mm)であった。
施態様によってこれを要約して示すことが出来る。
射線に露光することにより、光硬化性液体の層の少なく
とも一部を光硬化さ47 せ、 (c)活性放射線にさきに露光した層の上に、光硬化性
液体の新たな層を導入し、そして(d)活性放射線に露
光することにより、前記新たな液体の層の少なくとも一
部を光硬化させる 工程からなり、ここで光硬化性液体組成物は、エチレン
系不飽和モノマー、光開始剤、および放射線偏向物質か
らなることを要するものとし、そして前記偏向物質は第
1屈折率を有し前記組成物の残りは第2屈折率を有し、
しかも前記第1屈折率と第2屈折率との差の絶対値が0
以外であることを特徴とする、前記光硬化性液体組成物
の連続層から一体となった三次元物体を正確に造形する
方法。
記載の方法。
。
。
性の粒子状の有機ポリマー化合物である前項7記載の方
法。
性の粒子状の無機化合物である前項7記載の方法。
項2記載の方法。
物およびその混合物から選択された前項10記載の方法
。
合わせてなる前項2記載の方法。
る前項1記載の方法。
部。
た装置のブロック図である。 第2図は透明な光硬化性組成物の場合の光硬化した深さ
と露光との典型的な・関係を示したもので−ある。 第3図は放射線偏向物質を含有する光硬化性組成物の場
合の光硬化した深さと露光との典型的な関係を示したも
のである。 第4図は第3図で示した光硬化性組成物でありその中に
放射線偏向物質を含有していない場合の光硬化した深さ
と露光との関係を示したものである。 第5図は放射線偏向物質を含有する光硬化性組成物の場
合の光硬化した深さと露光との典型的な関係を示したも
のである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)(a)光硬化性液体の層を形成させ、 (b)活性放射線に露光することにより、光硬化性液体
の層の少なくとも一部を光硬化させ、 (c)活性放射線にさきに露光した層の上に、光硬化性
液体の新たな層を導入し、そして(d)活性放射線に露
光することにより、前記新たな液体の層の少なくとも一
部を光硬化させる 工程からなり、ここで光硬化性液体組成物は、エチレン
系不飽和モノマー、光開始剤、および放射線偏向物質か
らなることを要するものとし、そして前記偏向物質は第
1屈折率を有し前記組成物の残りは第2屈折率を有し、
しかも前記第1屈折率と第2屈折率との差の絶対値が0
以外であることを特徴とする、前記光硬化性液体組成物
の連続層から一体と なった三次元物体を正確に造形する方法。 2)工程(c)および(d)を連続して繰り返す請求項
1記載の方法。 3)前記偏向物質が乳化液である請求項2記載の方法。 4)前記偏向物質が分散された固体である請求項2記載
の方法。 5)分散された固体が光硬化性組成物中で実質的に不溶
性の粒子状の有機重合性化合物である請求項4記載の方
法。 6)分散された固体が光硬化性組成物中で実質的に不溶
性の粒子状の無機化合物である請求項4記載の方法。 7)前記偏向物質が残りの組成物よりも高い屈折率を有
する請求項1記載の方法。
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