JPH0311565A - 電極の接続構造 - Google Patents

電極の接続構造

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Publication number
JPH0311565A
JPH0311565A JP1147044A JP14704489A JPH0311565A JP H0311565 A JPH0311565 A JP H0311565A JP 1147044 A JP1147044 A JP 1147044A JP 14704489 A JP14704489 A JP 14704489A JP H0311565 A JPH0311565 A JP H0311565A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
substrate
electrodes
resin layer
synthetic resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP1147044A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiromasa Tsukamoto
弘昌 塚本
Hisashi Shin
新 久司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP1147044A priority Critical patent/JPH0311565A/ja
Publication of JPH0311565A publication Critical patent/JPH0311565A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
  • Multi-Conductor Connections (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、IC(集積回路、IntegratedCi
rcuit)などの半導体素子が形成された集積回路基
板とプリント基板、フレキシブル基板、あるいはセラミ
ック基板などの回路基板とを電気的に接続するなめに好
適に実施される電極の接続構造に関する。
従来の技術 I Cなどの半導体集積回路基板と、これが実装される
回路基板との各電極の接続においては通常、W B (
1’1ire Dondi+1g)方式、T A B 
(TapeAuLotnaLed Donding)方
式、F (?、 (Flip Chip)方式などが採
られている。近年では実装面積の縮小化、接続時間の短
縮化、接続長の短小化などの点において有利なFC方式
が注目されている。
FC方式とは、ICなとの半導体集積回路基板に半田金
属材料などから成るバユ・プと呼ばれる突起電極を設け
て他方の回路基板と対向させた状態で、この突起電極を
加熱溶融して前記他方の回路基板の電極に接続する構造
である。
発明が解決しようとする課題 従来のFC方式による側基板間の接続においては、■一
方基板にバリア、メタル層の形成および半田金属材料に
よるバンブを形成する工程と、■他方基板に親半田金属
を形成する工程との2工程が少なくとも必要であり、コ
ス■・高になる。
接6時の接ぎ強度としては、半田金属と親半田金属との
メタラジカル接芹は強固ではあるが、半田金属と親半田
金属の接合による内部応力の発生や、側基板間の膨張率
の差に起因する熱応力による接続部の応力発生のため、
信顆性面で不安定要素が生じていた。
本発明σ)目的は、生産性が優れており、しかも信頼性
か向上された電極の接続構造を提供することである。
課題を解決するための手段 本発明は、接続されるべき一対の電極間に、液状金属を
介在して封止したことを特徴とする電極の接続構造であ
る。
作  用 本発明に従えば、接続されるべき一対の電極間には、液
状金属が介在され、これによって前記−対の電極が電気
的に導通される。したか−)で、ワイヤーポジディング
接続方法のようなワイヤーポンデイ〉・グ工程の削減、
現状のフリップチッグボンディング接な方法におけるバ
ンブ形成工程の削減ができ、さらにはストレスフリー構
造、すなわち応力の発生がない構造の接きが可能になる
。そのため生産性が向上され、また接きの信頼性が向上
される。
実施例 第1図は、本発明の一実施例の断面図である。
半導体集積回路などの−・方の基板1に形成されている
、たとえばAN−3iなどの金属材料から成る電極2は
、その半導体集積回路の基板1か搭載されるセラミック
などの材1’E+から成るもう1−)の基板3Fの導体
である電極4とは、液状金属5を介在して電気的に導通
される。この液状金属5は、たとえば水銀などである。
液状金属5は、電気絶縁性自戒樹脂材料などから成る封
止部材8によって封止される。
第1図に示される電極の接続構造グ)製造手順を第2(
21を参照して述I\る。先ず、第2図(1)で示され
るように半導体4A積回路の基板1上には、電極2がパ
ターン形成されている。セラミックなとの材料から成る
基板3上には、電極2に接続されるべきもう1−)の電
極4が形成されている。この電f!4は、たとえばAN
2 、Ti、Cu、NiT j / Wなどで構成され
てもよい。このような電極4は、エツチングおよび印刷
などによ−)てパターン形成される。電極4は、それと
−木的な導体4aに連なって延びて、配線される。電極
2.4を電気的に接続するために、第2図(2)で示さ
れるように、その基板3上の電極4およびそれに連なる
導体=18、ならびに電極4および導体4εtが形成さ
れていない残余の領域7上に、全面に亘−)て、6成樹
脂M8をコーティングして被覆形成する。この6成樹脂
層8は、熱、紫外線および電子線などによって硬化反応
を生じる6成樹脂材料から成り、スピニング法、スプレ
ー法、およびデイラフ法などによって形成される。こう
して、き成樹脂層8を形成した後、硬化反応を促進させ
る熱、紫外線などを付与していわば半硬化状態とする。
その後、第2図(3)て示されるように、ポl−リング
ラフィ、すなわちホトエンチング工程によって半導体回
路基板1の電極2に対応する電極4を参照狩って示すよ
うにして自戒樹脂層8に開口をあけて露出する。
合成樹脂層8が、熱硬化形ポリイミド樹脂であるときに
は、半硬化状態とするために120〜150 ’Cに加
熱させ、ホl〜レジス■・を介して、アルカリ系液また
4、Jヒドラジン液なとて、開口9を形成して電極4を
露出する。
また、き成樹脂層8が紫外線硬化形会成樹脂、たとえば
シリコン、感光性ポリイミド、または感光性アクリル樹
脂なとであるときには、半硬化状態にするために短時間
だけ紫外線光を照射し、適切なエッチャント液を用いて
開口9を形成して電極4を露出させる。
そこで、第2図(3)の状態て、基板3の開口9から露
出している電極4上に液状金属6を印刷方式て、あるい
はまた細長いノズルから供給する、いわゆるディスベン
ザ方式で、充填する。
最後に、基板1,3の電fi2.4を位置なぜして、き
成樹脂層8が熱硬化形であるときには、熱を加え、また
紫外線硬化形であるときには、紫外線光を与えて、その
合成樹脂層8を本硬化させるとともに、基板1と6成樹
脂R8との密着を促進させ、また合成樹脂層8ならびに
基板3、電極4および導体4aとの間を密着促進させ、
密着強度を向上する。この密着時に、その密着強度を向
」二するために、基板」、3を相互の近接方向に加圧し
てもよい。、二のようにして、基板1,3とは、機械的
に一体的となり、電極2,4は液状金属5を介して電気
的に接続される。
こび)ようなtM成によれは、在来のフリッブヂソプボ
〉ディングの基板と比較し、バンプ作業の工程が不必要
となることと、基板に親半田金属のパターン形成が不要
となることにより、コスト低減か可能となる。さらに、
半田バ〉フ゛作製時に、半田メツキ酸のバンプ形成およ
び集積回路との接6時において、接6部、ずなわぢ電極
2.4間は、応力のないストレスフリーの椙造となるた
め、大幅に信頼性向上を図ることが可能となる。
6成樹脂層Sに代えてその池の電気絶縁性材料が用いら
れてもよい。
発明の効果 Lブ」二のように本発明によれば、一対の電極間に液状
金属を介在して封止して、これら一対の電極を電気的に
導通するようにしたので、製造が容易であり、生産性が
1憂れてJ〕す、しかもその電極などに応力か発生ずろ
ことがなく、これによ−)て信頼性が向上される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の−・実施例の断面図、第2図は第1図
に示される実施例の製造工程を示す断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 接続されるべき一対の電極間に、液状金属を介在して封
    止したことを特徴とする電極の接続構造。
JP1147044A 1989-06-09 1989-06-09 電極の接続構造 Pending JPH0311565A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1147044A JPH0311565A (ja) 1989-06-09 1989-06-09 電極の接続構造

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JP1147044A JPH0311565A (ja) 1989-06-09 1989-06-09 電極の接続構造

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0311565A true JPH0311565A (ja) 1991-01-18

Family

ID=15421243

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1147044A Pending JPH0311565A (ja) 1989-06-09 1989-06-09 電極の接続構造

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JP (1) JPH0311565A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100457062B1 (ko) * 2002-07-23 2004-11-12 동아전기부품 주식회사 블로워 레지스터
JP2022011898A (ja) * 2020-06-30 2022-01-17 イリソ電子工業株式会社 コネクタ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100457062B1 (ko) * 2002-07-23 2004-11-12 동아전기부품 주식회사 블로워 레지스터
JP2022011898A (ja) * 2020-06-30 2022-01-17 イリソ電子工業株式会社 コネクタ

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