JPH031175Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、湿式脱スケールの場合に、板幅端か
ら外れた研掃材スラリーを受けるためのプロテク
ター装置をを、ノズルヘツダーと一体的に回動し
得るようにした湿式脱スケール装置におけるプロ
テクター装置に関する。

湿式脱スケール装置においては、第１図に示す
ストリツプｓの全幅を完全に脱スケールするた
め、板幅より外側まで研掃材スラリーの投射を行
つている。而して、板幅端より外れた研掃材スラ
リーは、研掃材スラリーが投射されてはならない
機器やチヤンバーに投射され、これら機器やチヤ
ンバーを損傷する虞れがある。このため、従来は
ストリツプｓを基準としてノズルヘツダーａとは
反対の側にプロテクターｂを設置し、該プロテク
ターｂにより、ストリツプｓの板幅端より外れた
研掃材スラリーを受けるようにしている。

しかるに、ノズルヘツダーａにより研掃材スラ
リーを投射されるストリツプｓの板幅は多種類で
あるため、プロテクターｂの大きさを、全ゆる板
幅に対応できるよう大きくしなければならない。
これは、ノズルヘツダー近辺のスペースを狭くし
てスペースの有効利用に支障を来たし、又メンテ
ナンスに不便を来たし、更に設備費が高価にな
る、等の原因になつている。

本考案は上記実情に鑑み、板幅端より外れた研
掃材スラリーを受けるためのプロテクターを小型
にすることを目的としてなしたもので、ストリツ
プ幅方向中心位置近辺を基準にストリツプ平面と
平行な方向へ回動し得るようにたノズルヘツダー
に、長手方向へ所要の間隔で複数のノズルを取付
け、該ノズルから研掃材スラリーをストリツプ平
面に向け投射してストリツプ平面を研掃し得るよ
うにした湿式脱スケール装置において、前記ノズ
ルヘツダーの長手方向両側に、前記ノズルから投
射されてストリツプ板幅端から外れた研掃材スラ
リーを受けるプロテクターを、前記ノズルの研掃
材スラリー投射方向前方に位置し且つ前記ノズル
ヘツダーと一体的に回動し得るよう設けている。
従つて、プロテクターは板幅端から外れた研掃材
スラリーを受けるに必要な最小限の大きさにする
ことができ、湿式脱スケール装置近傍のスペース
が広くなり、他の機器の配置や湿式脱スケール装
置のメンテナンスが容易になる。又ストリツプ板
幅端から外れた研掃材スラリーはプロテクターに
当り研掃エネルギーが消失した後に周辺機器にぶ
つかるため、周辺機器を損傷させる虞れがない。

以下、本考案の実施例を添付図面に基いて説明
する。

第２図〜第４図は湿式脱スケール装置のノズル
ヘツダーをストリツプｓの上方に配設した本考案
の一実施例で、図示しないフレームに回動自在に
装着した中空軸１の下端にベースフレーム２を固
着し、該ベースフレーム２に、軸線がストリツプ
ｓの中心線に対して所要の角度傾いた高圧水ヘツ
ダー４を固着し、該高圧水ヘツダー４の長手方向
に向け、所要の間隔でフラツト型高圧水ノズル５
を多数配設する。前記中空軸１より給水口３、高
圧水ヘツダー４を通つて送給され高圧水ノズル５
から噴出された高圧水は、ストリツプｓの表面に
対して所定の傾きを持ち、且つ隣り合う高圧水ノ
ズル５から噴出された高圧水は一部ラツプするよ
うになつている。又前記中空軸１の回転中心は、
第２図に示すように、平面から見ると略ストリツ
プｓの幅方向中心に位置している。

高圧水ヘツダー４の後面に固着した支持フレー
ム６に、分配ヘツダー７を取付け、該分配ヘツダ
ー７と図示してない適宜のフレームに設置したア
ジテータ８とをフレキシブルホース９により接続
し、分配ヘツダー７には、先端に研掃材ノズル１
０を備えた多数の研掃材ホース１１を接続し、ビ
ーム１４，１５に枢着したリンクプレート１３に
ホルダー１２を介して前記研掃材ノズル１０を取
付け、研掃材ノズル１０から高圧水に供給された
研掃材スラリーを高圧水と共にストリツプ表面に
対して投射し得るようにする。又高圧水ノズル５
を交換した場合、ビーム１４，１５を長手方向へ
移動させることにより、研掃材ノズル１０から高
圧水に供給される研掃材スラリーを高圧水の中央
部に供給し得るようになつている。

高圧水ヘツダー４の両側に支持部材１６を固着
し、該支持部材１６に取付けたプロテクター受け
１７，１７′に、ポリウレタンのようなプロテク
ター１８，１８′を交換自在に取付け、高圧水ヘ
ツダー４長手方向両端側の研掃材ノズル１０から
投射されストリツプｓの板幅端から外れ研掃材ス
ラリーをプロテクター１８，１８′により受け得
るようになつている。

斯かる構成において、高圧水ヘツダー４内に供
給された高圧水は、各高圧水ノズル５よりフラツ
トな扇形状に噴射せしめられ、一方、アジテータ
８からの研掃材スラリーは、ホース９により分配
ヘツダー７内に送給され、ここで分配された後、
各ホース１１を介して各研掃材ノズル１０から前
記高圧水の中心へ向け直角に噴射され、而して研
掃材スラリーが高圧水に満遍なく乗つた状態でス
トリツプｓの表面に投射され、酸化スケールが除
去される。

一方、高圧水ヘツダー４の長手方向両側の研掃
材ノズル１０から噴射され高圧水ノズル５より噴
出された高圧水に乗りストリツプｓの表面に投射
された研掃材スラリーの一部は、ストリツプｓに
衝突せずにストリツプｓの下方に投射され、プロ
テクター１８，１８′に受けられる。従つて、湿
式脱スケール装置の近辺の機器等に衝突すること
がなく、該機器等の損傷を防止し得られる。

又、ストリツプｓの板幅が変ると、高圧水ヘツ
ダー４等は中空軸１を中心に水平方向へ旋回させ
られ、新たな板幅に合わせて湿式脱スケール装置
の位置調整が行われる。従つて、プロテクター１
８，１８′もストリツプｓの板幅に合わせて高圧
水ヘツダー４等と一緒に一体的に回動し、位置の
修正がなされるため、板幅から外れた研掃材スラ
リーは必ずプロテクター１８，１８′により受け
ることができる。

第５図〜第７図は湿式脱スケール装置のノズル
ヘツダーをストリツプｓの下方に配設した本考案
の他の実施例であり、適宜の基礎に回転自在に枢
着した高圧水ヘツダー１９に前記実施例と同様な
フラツト型高圧水ノズル２０を取付け、又各高圧
水ノズル２０に対応して研掃材ノズルを設け、高
圧水ヘツダー１９の長手方向両側に、支持部材２
１のストリツプｓよりも上方に位置するようプロ
テクター受け２２，２２′を取付け、該プロテク
ター受け２２，２２′にポリウレタンのようなプ
ロテクター受け２３，２３′を交換自在に取付け
る。

斯かる構成とした場合には、研掃材スラリーは
高圧水に乗つて下方からストリツプｓの下面に投
射されるが、板幅端から外れた研掃材スラリーは
プロテクター２３，２３′に衝突する。従つて上
方の機器や天井等に研掃材スラリーが衝突するこ
とはない。

なお、本考案は上述の実施例に限定されるもの
ではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲内で
種々変更を加え得ることは勿論である。

本考案の湿式脱スケール装置におけるプロテク
ター装置によれば、プロテクターは湿式脱スケー
ル装置の高圧水ヘツダー等と一緒にストリツプ平
面に対して平行な方向へ回動するため、高圧水ヘ
ツダーを板幅に合わせ調整すれば、プロテクター
も自動的に板幅に応じて位置修正される。従つ
て、プロテクターは小さくても、ストリツプの最
大板幅から最小板幅にまで使用できる。このた
め、湿式脱スケール装置近傍のスペースを有効に
利用でき、又湿式脱スケール装置のメンテナンス
も容易に行うことができる。又ストリツプ板幅端
部から外れた研掃材スラリーはプロテクターに当
り研掃材エネルギーが消失した後に周辺機器にぶ
つかるため、周辺機器を損傷させる虞れがない。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の湿式脱スケール装置におけるプ
ロテクター装置の説明図、第２図は本考案の湿式
脱スケール装置におけるプロテクター装置の一実
施例の説明用平面図、第３図は第２図の−方
向矢視図、第４図は第２図の−方向矢視図、
第５図は本考案の湿式脱スケール装置にけるプロ
テクター装置の他の実施例の説明用平面図、第６
図は第５図の方向矢視図、第７図は第６図の
方向矢視図を示す。 図中４は高圧水ヘツダー、５はフラツト型高圧
水ノズル、１０は研掃材ノズル、１６は支持部
材、１７，１７′はプロテクター受け、１８，１
８′はプロテクター、１９は高圧水ヘツダー、２
０はフラツト型高圧水ノズル、２１は支持部材、
２２，２２′はプロテクター受け、２３，２３′は
プロテクターを示す。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ストリツプ幅方向中心位置近辺を基準にストリ
   ツプ平面と平行な方向へ回動し得るようにしたノ
   ズルヘツダーに、長手方向へ所要の間隔で複数の
   ノズルを取付け、該ノズルから研掃材スラリーを
   ストリツプ平面に向け投射してストリツプ平面を
   研掃し得るようにした湿式脱スケール装置におい
   て、前記ノズルヘツダーの長手方向両側に、前記
   ノズルから投射されてストリツプ板幅端から外れ
   た研掃材スラリーを受けるプロテクターを、前記
   ノズルの研掃材スラリー投射方向前方に位置し且
   つ前記ノズルヘツダーと一体的に回動し得るよう
   設けたことを特徴とする湿式脱スケール装置にお
   けるプロテクター装置。