JPH0311773A - 冷媒ガス放出装置 - Google Patents
冷媒ガス放出装置Info
- Publication number
- JPH0311773A JPH0311773A JP1145191A JP14519189A JPH0311773A JP H0311773 A JPH0311773 A JP H0311773A JP 1145191 A JP1145191 A JP 1145191A JP 14519189 A JP14519189 A JP 14519189A JP H0311773 A JPH0311773 A JP H0311773A
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- JP
- Japan
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- pressure
- gas
- helium
- valve
- vessel
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- Granted
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- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は、液体ヘリウム等の極低温冷媒を使用する極低
温装置の低圧作動形冷媒ガス放出装置に関する。
温装置の低圧作動形冷媒ガス放出装置に関する。
（従来の技術）
ＭＲＩなどの超電導装置において、超電導マグネットは
液体ヘリウム容器に収容され、液体ヘリウム中に浸漬さ
れる。液体ヘリウムは、断熱構造を通して外部から侵入
する伝導、ふく射熱により蒸発する。この蒸発ヘリウム
ガスは大気に放出するか１回収装置で回収される。この
蒸発ヘリウムガスは１分温度が低いので、電流供給用ガ
ス冷却電流リードやふく射熱シールドの冷却に使用され
る。
液体ヘリウム容器に収容され、液体ヘリウム中に浸漬さ
れる。液体ヘリウムは、断熱構造を通して外部から侵入
する伝導、ふく射熱により蒸発する。この蒸発ヘリウム
ガスは大気に放出するか１回収装置で回収される。この
蒸発ヘリウムガスは１分温度が低いので、電流供給用ガ
ス冷却電流リードやふく射熱シールドの冷却に使用され
る。
一方、蒸発ヘリウムガスを大気放出する場合、ヘリウム
容器の放出口が直接大気に開口するため、大気の拡散侵
入や、大気圧の変化、液体ヘリウムの温度変化などによ
る大気の吸引、放出により、大気が凍結、固化して閉塞
を生し、重大な支障をきたすことがあった。
容器の放出口が直接大気に開口するため、大気の拡散侵
入や、大気圧の変化、液体ヘリウムの温度変化などによ
る大気の吸引、放出により、大気が凍結、固化して閉塞
を生し、重大な支障をきたすことがあった。
これを克服するため、ヘリウム放出口に逆止弁などを取
り付けるが、逆止弁の動作圧が安定せず。
り付けるが、逆止弁の動作圧が安定せず。
しかもバネ式のため動作圧力が高くなり、ヘリウムガス
が間歇的に放出されたり、ヘリウム容器の内圧が必要以
上に高くなりヘリウム液温が上昇して、超電導コイルを
不安定にする恐れがあった。
が間歇的に放出されたり、ヘリウム容器の内圧が必要以
上に高くなりヘリウム液温が上昇して、超電導コイルを
不安定にする恐れがあった。
（発明が解決しようとする課題）
本発明の解決しようとする課題は、大気放出口から大気
が拡散侵入することを防止し、さらに冷媒容器内圧と大
気圧との間の微差圧で作動する冷媒ガス放出装置の提供
にある。
が拡散侵入することを防止し、さらに冷媒容器内圧と大
気圧との間の微差圧で作動する冷媒ガス放出装置の提供
にある。
上記課題を解決することによって、冷媒容器からの蒸発
ガスの連続的放出と、大気の拡散侵入による凍結、閉塞
を防止を可能にする低圧作動形冷媒ガス放出装置を提供
し、超電導極低温装置の安定かつ、安全な運転をはかる
ことを目的とする。
ガスの連続的放出と、大気の拡散侵入による凍結、閉塞
を防止を可能にする低圧作動形冷媒ガス放出装置を提供
し、超電導極低温装置の安定かつ、安全な運転をはかる
ことを目的とする。
（課題を解決するための手段）
本発明の冷媒ガス放出装置は、冷媒収容容器の内圧が大
気圧に対して負になるとき密栓し、正になるとき開口す
るように自重式構造体を、冷媒ガス放出路に直列に複数
個設置し、各弁構造体が浮力で上昇する冷媒ガスを滞留
させるようなラビリンスを形成した構成とする。
気圧に対して負になるとき密栓し、正になるとき開口す
るように自重式構造体を、冷媒ガス放出路に直列に複数
個設置し、各弁構造体が浮力で上昇する冷媒ガスを滞留
させるようなラビリンスを形成した構成とする。
（作用）
このような構成にすると、冷媒ガスの圧力が大気圧を上
回ったときに冷媒ガスのみが弁を通して外へ流れる。ま
た、ラビリンスを形成しているので流路が長く、大気が
逆流することがない。
回ったときに冷媒ガスのみが弁を通して外へ流れる。ま
た、ラビリンスを形成しているので流路が長く、大気が
逆流することがない。
（実施例）
図において、１は第１の弁構造体、２は第１の弁座、３
は第２の弁構造体、４は第２の弁座。
は第２の弁構造体、４は第２の弁座。
５は液体ヘリウム容器、６は蒸発ヘリウムガス。
７は液体ヘリウム、８は大気である。
■の第１弁構造体は２の第１の弁座の上に自重で乗り、
ヘリウムガス６を封止する。３の第２の弁構造体は、４
の第２の弁座の上に自重で乗り、ヘリウムガス６を封止
する。弁座２，４はそれぞれ、液体ヘリウム容器５に固
定され、弁構造体１゜３と蒸発ヘリウム流路中で直列に
配置され、かつ。
ヘリウムガス６を封止する。３の第２の弁構造体は、４
の第２の弁座の上に自重で乗り、ヘリウムガス６を封止
する。弁座２，４はそれぞれ、液体ヘリウム容器５に固
定され、弁構造体１゜３と蒸発ヘリウム流路中で直列に
配置され、かつ。
ラビリンス流路を形成している。
９はフッ素樹脂その他による弁体で、弁構造体。
弁座の１．２，３．４はステンレスなどの金属材料から
成る。
成る。
なお、図示されないが、ヘリウム容器５の内圧の急激な
変化や、大きな圧力上昇に対し、弁構造体１，３が飛ば
ないような押えを必要とすることはいうまでもない。
変化や、大きな圧力上昇に対し、弁構造体１，３が飛ば
ないような押えを必要とすることはいうまでもない。
ヘリウム容器５の内圧が大気８より高いときは、第１の
弁構造体１が、その自重に応じた圧力で開口し、蒸発ガ
ス６は第２の弁座４内に放出される。
弁構造体１が、その自重に応じた圧力で開口し、蒸発ガ
ス６は第２の弁座４内に放出される。
弁座４内の圧力が第２の弁構造体３の自重に見合う圧力
に達すると３は開口し、蒸発ヘリウムガス６は大気中に
放出される。
に達すると３は開口し、蒸発ヘリウムガス６は大気中に
放出される。
このときの放出圧力は、弁構造体１，３の自重と、弁体
９の開口面積によって変化するから、調整可能である。
９の開口面積によって変化するから、調整可能である。
次に、ヘリウム容器５の内圧が大気８より低いときは、
弁構造体１，３は自重により、蒸発ガス６を封止し、弁
座４内はヘリウムガスで満たされる。
弁構造体１，３は自重により、蒸発ガス６を封止し、弁
座４内はヘリウムガスで満たされる。
以上のような作用により、ＭＲｌなどの超電導装置のよ
うに極めて少ないヘリウム蒸発量（０，ＩＱ／ｈ以下）
に対しても、弁構造体の自重調整によりほぼ連続的にヘ
リウムガスの放出ガスを行うことが出来ると共に、ヘリ
ウム容器の内圧が大気圧に等しいか、低い場合に於ても
、複数の弁構造体の設置により第１の弁構造体が常にヘ
リウムガス中にあり、また微差圧で弁９が閉となるから
、大気の直接導入、拡散侵入を防止出来る。
うに極めて少ないヘリウム蒸発量（０，ＩＱ／ｈ以下）
に対しても、弁構造体の自重調整によりほぼ連続的にヘ
リウムガスの放出ガスを行うことが出来ると共に、ヘリ
ウム容器の内圧が大気圧に等しいか、低い場合に於ても
、複数の弁構造体の設置により第１の弁構造体が常にヘ
リウムガス中にあり、また微差圧で弁９が閉となるから
、大気の直接導入、拡散侵入を防止出来る。
以上により、超電導装置において、微差圧でほぼ連続的
に作動し、かつ、大気の導入のほとんど無い冷媒ガス放
出装置を提供出来るから、ガス冷却電流リードやふく射
熱シールドの安定冷却が可能で、安定かつ安全な超電導
装置とすることが出来る。
に作動し、かつ、大気の導入のほとんど無い冷媒ガス放
出装置を提供出来るから、ガス冷却電流リードやふく射
熱シールドの安定冷却が可能で、安定かつ安全な超電導
装置とすることが出来る。
図は本発明の実施例の冷媒ガス放出装置の断面図である
。 １ ・第１の弁構造体 ２・第１の弁座３・・・第２の
弁構造体 ４・・・第２の弁座５ ・ヘリウム容器
６・・・蒸発ヘリウムガス８・・大気 ９・
・・弁体
。 １ ・第１の弁構造体 ２・第１の弁座３・・・第２の
弁構造体 ４・・・第２の弁座５ ・ヘリウム容器
６・・・蒸発ヘリウムガス８・・大気 ９・
・・弁体
Claims (1)
- 冷媒収容容器の内圧が大気圧に対して負になるとき密栓
し、正になるとき開口するようにした自重式弁構造体を
冷媒ガス放出路に直列に複数個設置し、各弁構造体が浮
力で上昇する冷媒ガスを滞留させるようなラビリンスを
形成したことを特徴とする冷媒ガス放出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1145191A JP2760572B2 (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 冷媒ガス放出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1145191A JP2760572B2 (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 冷媒ガス放出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0311773A true JPH0311773A (ja) | 1991-01-21 |
| JP2760572B2 JP2760572B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=15379530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1145191A Expired - Lifetime JP2760572B2 (ja) | 1989-06-09 | 1989-06-09 | 冷媒ガス放出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2760572B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012080009A (ja) * | 2010-10-05 | 2012-04-19 | Mayekawa Mfg Co Ltd | 寒剤導入量制御弁 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63119208A (ja) * | 1986-11-06 | 1988-05-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | クライオスタツト |
-
1989
- 1989-06-09 JP JP1145191A patent/JP2760572B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63119208A (ja) * | 1986-11-06 | 1988-05-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | クライオスタツト |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012080009A (ja) * | 2010-10-05 | 2012-04-19 | Mayekawa Mfg Co Ltd | 寒剤導入量制御弁 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2760572B2 (ja) | 1998-06-04 |
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