JPH03120041A - 非磁性金属化ポリエステルフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、グラフィック用途等に使用される非磁性金属
化ポリエステルフィルムに関する。

［従来の技術］ グラフィック用、装飾用に用いられるポリエステルフィ
ルムとして、表面に非磁性金属（たとえばアルミニウム
）の層を積層した非磁性金属化ポリエステルフィルムが
知られている。これらの用途においては、平滑フィルム
表面に非磁性金属の層を積層し、該非磁性金属層の表面
も平滑にした鏡面に近いものが要求されることもあるが
、逆に、高級感等を出すために、非磁性金属層の表面を
艶消しタイプの面としたものが要求されることが多い。

このような艶消しタイプの表面は、通常、表面に微小凹
凸（突起）を形成し、光を適当に乱反射させることによ
って１」られる。非磁性金属の層は、たとえば蒸着等に
より、通常極めて薄い厚さで積層されるから、非磁性金
属層白身で表面突起を形成するのは困難なことが多く、
基材となるポリエステルフィルムの表面に微小突起を形
成し、該表面上に積層される非磁性金属層の表面に、フ
ィルム表面突起をトレースさせて、艶消しのための微小
凹凸を形成することが考えられる。

このような表面に微小凹凸（突起）を形成したフィルム
として、ポリエステルにコロイド状シリカに起因する実
質的に球形のシリカ粒子を含有させた二軸配向ポリエス
テルフィルムが知られている（たとえば特開昭５９−１
７１６２３号公報）。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記のような従来の二軸配向ポリエステ
ルフィルムでは、含有されたシリカ粒子が、フィルムの
厚さ方向全域にわたって略ランダムに分布するため、フ
ィルム表面における含有粒子による突起の密度増大には
限界があり、しかもその突起高さもランダムに相当ばら
つくことになる。そのため、このフィルム表面上に非磁
性金属層を積層した場合、非磁性金属層の表面突起の高
さもばらつくことになり、高さの高い部分が削れやすく
なるとともに、突起による艶消し状態もばらつくことに
なり、表面の光沢度（艶消し度）が不均一になる。また
、非磁性金属層の表面突起の高密度化にも限界がおるた
め、艶消し効果にも限界があり、しかもその密度がばら
つくため、やはり艶消し状態がばらつくことになる。し
たがって、前記従来の二軸配向ポリエステルフィルムで
は、艶消し効果上、および非磁性金属層の耐久性上不十
分なものしか得られなかった。

また別の問題として、一般に樹脂フィルム上に金属層を
積層した場合、両層の物性（とくに熱膨張、熱収縮率）
の違いから、加工工程における熱的負荷等により、製品
となるべき金属化フィルムにカールが生じることが多い
。この点、上述の如く表面突起が形成されたフィルム表
面に極薄の非磁性金属層を設けるようにすると、非磁性
金属層自身があたかも波打つようになるので構造的に上
記熱膨張差、熱収縮差は吸収されやすくなり、カールが
生じにくくなる。しかし前記従来のポリエステルフィル
ムでは、表面突起を高密度に形成できない上、その突起
の高さもばらついているので、カール防止効果も不十分
である。

本発明は、基材フィルム表面の突起の高密度化と高さの
均一化を達成し、その上に積層される非磁性金属層の表
面にも均一な高さの突起を高密度に形成して、その表面
の艶消し効果を高めるとともに均一な艶消し状態を達成
し、ざらに、その非磁性金属層の耐久性を向上し、非磁
性金属化ポリエステルフィルムのカールも抑えることを
目的とする。

［課題を解決するための手段〕 この目的に沿う本発明の非磁性金属化ポリエステルフィ
ルムは、ポリエステルＡと不活性粒子とを主成分とする
フィルムを共押出によりポリエステルＢを主成分とする
フィルムの少なくとも片面に積層した二軸配向ポリエス
テルフィルムの前記ポリエステルＡのフィルム層表面に
、融解熱４０ｃａｌ／９以上の非磁性金属からなる層を
積層した非磁性金属化ポリエステルフィルムであって、
前記不活性粒子の平均粒径が該不活性粒子を含む前記ポ
リエステルＡの積層フィルムの厚さの０．１〜１００倍
であり、該ポリエステルＡの積層フィルム中の前記不活
性粒子の含有量が０．０１〜１０重量％であるものから
成る。

本発明におけるポリエステルＡは、特に限定されること
はないが、特に、エチレンテレフタレー１〜、エチレン
α、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−４，４
−ジカルボキシレート、エチレン２．６−ナフタレート
単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成
成分とする場合に表面突起の形成、基材フィルムとして
の耐久性がより一層良好となるので望ましい。また、本
発明を構成するポリエステルは結晶性であ、る場合に耐
久性がより一層良好となるのできわめて望ましい。ここ
でいう結晶性とはいわゆる非晶質ではないことを示すも
のであり、定量的には結晶化パラメータにおける冷結晶
化部［ＣＣが検出され、かつ結晶化パラメータΔＴＣ（
］が１５０’Ｃ以下のものである。ざらに、示差走査熱
量計で測定された融解熱（融解エンタルピー変化）がＯ
，１ｃａｌ／　ｇ以上の結晶性を示す場合に耐久性がよ
り一層良好となるのできわめて望ましい。また、エチレ
ンテレフタレートを主要構成成分とするポリエステルの
場合に基材フィルム表面強度がＪ：り一層良好となるの
で特に望ましい。

なお、本発明を阻害しない範囲内で、２種以上のポリエ
ステルを混合しても良いし、ポリエチレンテレフタレー
ト、イソフタレート、ポリシクロヘキサン、ジメチレン
、エチレンテレフタレート等の共重合ポリマを用いても
良い。

本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子の形状は、特に
限定されないが、フィルム中での粒径比（粒子の長径／
短径）が１．０〜１．３の粒子、特に、球形状の粒子の
場合に、最終的に非磁性金属層表面に形成される突起の
高さを均一化しやすく、かつ高密度化しやすいので望ま
しい。

また、本発明のポリニスデルＡ中の不活性粒子はフィル
ム中での単一粒子指数が０．７以上、好ましくは０．９
以上である場合に基材フィルム表面強度がより一層良好
となるので特に望ましい。

本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子の種類は特に限
定されないが、上記の好ましい粒子特性を満足させるに
は好ましい粒子として、コロイダルシリカに起因する実
質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（たと
えば架橋ポリスチレン）などがある。特に１０重量％減
徂時温度（窒素中で熱重量分析装置島津丁Ｇ　−３０Ｍ
を用いて測定。

昇温速度２０’Ｃ，’分）が３８０　’Ｃ以上になるま
で架橋度を高くした架橋高分子粒子が特に望ましい。な
お、コロイダルシリカに起因する球形シリカの場合には
アルコキシド法で製造された、ナ１〜リウム含有吊が少
ない、実質的に球形のシリカが特に望ましい。しかしな
がら、その他の粒子、例えば炭酸カルシウム、二酸化チ
タン、アルミナ等の粒子でもフィルム厚さと平均粒径の
適切なコントロールにより十分使いこなせるものである
。

不活性粒子の大きさは、該不活性粒子を含有する積層フ
ィルム中での平均粒径が該積層フィルム厚さの０．１〜
１００倍、好ましくは１．１〜５０倍、さらに好ましく
は１．９〜３０倍の範囲とされる。平均粒径／フィルム
厚さ比が上記の範囲より小さいと表面に形成される突起
の高さが不均一になり、表面の強度が不良となり、逆に
大きくても表面強度が不良となるので好ましくない。

また、ポリエステルΔ中の不活性粒子のフィルム中での
平均粒径（直径）が０．００７〜１０μｍ、好ましくは
０．０２〜８μｍざらに好ましくは０．１〜５μｍの範
囲である場合に、非磁性金属層表面の艶消し効果、非磁
性金属層の強度がより一層良好となるので望ましい。

つまり、本発明における基材フィルムの積層フィルム府
には、該フィルム厚さ近傍あるいはそれよりも大きな平
均粒径の不活性粒子が含有される。

換吉すれば、極薄積層フィルムに、そのフィルム厚さ近
傍おるいはそれよりも大ぎな平均粒径の微小不活性粒子
が含有される。したがって、二軸配向ポリエステルフィ
ルム全体に対し、その厚さ方向に、実質的に積層フィル
ム層のみに集中して不活性粒子を分布させることができ
る。その結果、積層フィルム中における粒子密度を容易
に高くすることができ、該粒子により形成されるフィル
ム表面の突起の密瓜も容易に高めることができる。

また、不活性粒子は、上記積層フィルム中に含有される
ことで、二軸配向ポリエステルフィルム仝体に対し、そ
の厚ざ方向に位首現ル１］されることになり、しかも積
層フィルムの厚さと平均粒径とは前述の如き関係にある
から、該粒子により形成される表面突起の高さは、極め
て均一になる。

上記不活性粒子のポリエステルＡの積層フィルム中の含
有量は、０．０１〜１０重ｑ％の範囲とされる。

この範囲よりも少ないと、形成される突起の密度が低い
ため、目標とする非磁性金属層表面の艶消し効果が得ら
れず、かつ非磁性金属層強度向上効果が不十分となる。

逆に上記範囲よりも多いと、不活性粒子力臂疑集しやす
くなって、凝集粒子が不均一な高さの突起を形成する機
会が多くなるので望ましくない。

このようなポリエステルＡと不活性粒子とを主成分とす
るフィルムがポリエステルＢを主成分とするフィルムに
積層され、基材フィルムが構成される。

ポリエステルＢは、前述のポリエステル八と同様のもの
からなり、ポリエステルＢとポリエステルＡとは同じ種
類のものでも異なるものでもよい。

ポリエステルＡのフィルム層は、ポリエステルＢからな
るフィルム層の両面、又は片面に積層される。つまり、
積層構成がＡ／Ｂ／Ａ、Ａ／Ｂの場合であるが、もちろ
ん、Ａと異なる表面状態を有する０層をＡと反対面に設
けたＡ／Ｂ／Ｃでも、あるいはそれ以上の多層構造でも
よい。（ここで、Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれの樹脂の種類は同
種でも、異種でもよい。また、少なくとも片方の表面は
ＡＩであることが必要である。） ポリエステルＢとしても、結晶性ポリマが望ましく、特
に、結晶性パラメータΔＴｃｇが２０〜１００℃の範囲
の場合に、該ポリエステルＢのフィルム表面の耐スクラ
ッチ性（傷付き防止性）等がより−ｉ良好となるので望
ましい。具体例として、エチレンテレフタレート、エチ
レンα、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−４
，４−ジカルボキシレート、エチレン２．６−ナフタレ
ート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要
構成成分とする場合に耐スクラッチ性が特に良好となる
ので望ましい。ただし、本発明を阻害しない範囲内、望
ましい結晶性を損なわない範囲内で、好ましくは５モル
％以内であれば他成分が共重合されていてもよい。

本発明のポリエステルＢにも、本発明の目的を阻害しな
い範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また
酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機
添加剤が通常添加される程度添加されていてもよい。

ポリエステルＢを主成分とするフィルム中には不活性粒
子を含有している必要は特にないが、このフィルム層が
基材フィルムの一面を形成する場合、平均粒径が０．０
０７〜１０μｍ、特に０．０２〜６μｍの不活性粒子が
０．００１〜０．２重量％、特ニｏ、　ｏ。

５〜０．１５重量％、さらには０．００５〜０．１２重
量％含有されていると、加工工程上、使用上において、
摩擦係数や、耐スクラッチ性がより一層良好となるのみ
ならず、フィルムの巻姿が良好となるのできわめて望ま
しい。含有する不活性粒子の種類はポリエステルＡに望
ましく用いられるものを使用することが望ましい。ポリ
エステルＡとＢに含有される粒子の種類、大きさは同じ
でも異なっていても良い。

上述の如き不活性粒子を含有するポリエステルＡと、ポ
リエステルＢとが共押出により積層され、シート状に成
形された後二軸に延伸され、二軸配向ポリエステルフィ
ルムとされる。本発明における共押出による積層とは、
不活性粒子を含有するポリエステルＡと、ポリエステル
Ｂとをそれぞれ異なる押出装置で押出し、口金から積層
シートを吐出する前にこれらを積層することをいう。こ
の積層は、シート状に成形、吐出するための口金内（た
とえばマニホルド）で行ってもよいが、前述の如く積層
フィルム層が極薄であることから、口金に導入する前の
ポリマ管内で行うことが好ましい。とくに、ポリマ管内
の積層部を、矩形に形成しておくと、幅方向に均一に積
層できるので特に好ましい。ポリマ管内矩形積層部で積
層された溶融ポリマは、口金内マニホルドでシー１−幅
方向に所定幅まで拡幅され、口金からシート状に吐出さ
れた後、二輪に延伸される。したがって、たとえ二輪配
向後の積層フィルム層が極薄であっても、ポリマ管内矩
形積層部では、不活性粒子含有ポリエステルポリマを、
かなりの厚さで積層することになるので、容易にかつ精
度よく積層できる。

また、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて
は、不活性粒子を含む積層フィルム側の表層の不活性粒
子による粒子濃度比が０．１以下であることが好ましい
。この表層粒子濃度比は、後述の測定法に示す如く、フ
ィルム表面突起を形成する不活性粒子がフィルム表面に
おいて如何にポリエステルＡの薄膜で覆われているかを
示すものであり、粒子がフィルム表面に実質的に直接露
出している度合が高い程表層粒子濃度比が高く、表面突
起は形成するがポリエステルＡの薄膜に覆われている度
合が高い程表層粒子澹度比は低い。突起を形成する不活
性粒子がポリエステルＡの薄膜で覆われていることによ
り、不活性粒子が高密度に極薄積層フィルム層に分イロ
している状態にあっても、該粒子が該積；習フィルム層
、ひいてはポリエステルＢのベースフィルム層にしっか
りと保持されることになる。したがって、表層粒子ｔＡ
ａ比を上記値以下とすることにより、粒子の脱落等が防
止されて、フィルム表面の耐久性か高く維持され、ざら
にはその上に積層される非磁性金属層の耐久性も高く維
持される。このような表層粒子濃度比は、共押出による
積層を行うことによって達成可能となる。ちなみに、コ
ーティング方法によっても、本発明と同様の密度の表面
突起を有するフィルム、すなわち、ポリエステルＢのフ
ィルム層に対し極薄厚さで樹脂層をコーティングし、該
樹脂層内に不活性粒子を含有させることは可能であるが
、表層粒子濃度比か茗しく高くなり（つまり粒子が実質
的に表面に直接露出する重合が著しく高くなり）、本発
明フィルムに比べ表面の極めて脆いものしか得られない
。

上記の如き、含有不活性粒子により表面に均一かつ高密
度に突起の形成された基材フィルムのポリエステルＡ側
の表面に非１チエ性金属膜が積層される。

本発明における非磁性金属としては、融解熱４０ｃａ＋
７ｇ以−Ｌのものを対象とし、代表的なものとして、ア
ルミニウム、銅、タングステン、ニッケル、マンガン等
が挙げられるが、グラフィック用途、装飾用途で特に多
用されているのはアルミニウムである。また、非磁性金
属膜の厚さとしでは、０．０１〜０．６μｍ程度が一般
的でおり、非磁性金属膜の形成法としては、スパッタリ
ング法、蒸着法、イオンブレーティング法、メツキ法、
塗イ５法等各種ある。

このように、本発明においては、均一な高さでかつ高密
度に突起の形成された、基材フィルムのポリエステルＡ
側の表面に非磁性金属の薄層か積層され、該突起により
非磁性金属膜が支持されて非磁性金属膜自身の強度が向
上されるとともに、基材フィルムの表面突起によりＩ’
ｌｌの非磁性金属膜の層を介して実質的に略等しいサイ
ズで非磁性金属膜の表面にも突起が形成（トレース）さ
れ、非磁性金属膜の表面の艶消し効果が著しく高められ
ると同時に、均一な突起高さの削れにくい耐久性の高い
表面を形成することができる。また、均一な高さでかつ
高密度な突起を有するフィルム面上に非磁性金属膜が積
層されるから、非磁性金属膜は細かくかつ均一にうねっ
た層となり、該層と基材フィルム層との間に物性差があ
ったとしても、熱膨張、熱収縮等の差が上記うねり構造
によって吸収され、非磁性金属化ポリエステルフィルム
としてカールが発生しなくなる。

次に本発明の非磁性金属化ポリエステルフィルムの製造
方法について説明する。

まず、ポリエステルＡに不活性粒子を含有せしめる方法
としては、重合後、重合中、重合耐のいずれでも良いが
、ポリマにベント方式の２軸押用機を用いて練り込む方
法が本発明範囲の表面形態のフィルムを得るのに有効で
ある。また、粒子の含有量を調節する方法としては、上
記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時に
不活性粒子を実質的に含有しないポリエステルで希釈し
て粒子の含有量を調節する方法が本発明範囲の表面形態
のフィルムを得るのに有効である。さらにこの粒子高温
度マスターポリマの溶融粘度、共重合成分などを調節し
て、その結晶化パラメータ八ＴＣｇを３０〜８０°Ｃの
範囲にしておく方法は延伸破れなく、本発明範囲の表面
形態のフィルムを（７るのに有効である。

かくして、不活性粒子を含有するペレッＩ−Ａを十分乾
燥したのち、公知の溶融押出機に供給し、ポリエステル
の融点以上分解点゛以下の温度で溶融し、もう一方の実
質的に不活性粒子を含有しないポリエステルＢ（種類は
不活性粒子を含有づるポリエステルと同一で必っても異
なっていてもよい）を前述の如き積層用装置に供給し、
スリット状のダイからシート状の押出し、キャスティン
グロール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。

すなわち、２または３台の押出機、２または３層用の合
流ブロックあるいは口金を用いて、これらのポリエステ
ルポリマを積層する。合流ブロック方式を用いる場合は
積層部分を前述の如く矩形のものとし、両ポリニスデル
の溶融粘度の差（絶対値）をＯ〜２０００ポイズ、好ま
しくは○〜１０００ボイズの範囲にしておくことが本発
明範囲の表面形態のフィルムを安定して、幅方向の斑な
く、工業的に製造するのに有効である。

次にこの複層の未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸舵面
せしめる。二軸延伸の方法は同時二軸延伸、逐次二軸延
伸法のいずれでもよいが、長手方向、幅方向の順に延伸
する逐次二軸延伸法の場合に本発明範囲の表面形態のフ
ィルムを安定して、幅方向の斑なく、工業的に製造する
のに有効である。逐次二軸延伸の場合、長手方向の延伸
を、３段階、特に４段階以上に分けて、４０〜１５０℃
の範囲で、かつ、１０００〜５００００％／分の延伸速
度で、３〜６１８行なう方法は本発明範囲の表面形態を
有するフィルムを得るのに有効である。幅方向の延伸温
度、速度は、８０〜１７０℃、１０００〜２００００％
／分の範囲が好適である。延伸倍率は３〜１０倍が好適
である。また必要に応じてさらに長手方向、幅方向の少
なくとも一方向に延伸することもできる。

いずれにしても不活性粒子を含有するきわめて薄い層を
設けてから、面積延伸倍率（長手方向倍率Ｘ幅方向倍率
）として９倍以上の延伸を行なうことが本発明のポイン
トである。次にこの延伸フィルムを熱処理する。この場
合の熱処理条件としては、幅方向に弛緩、微延伸、定長
下のいずれかの状態で１４０〜２８０℃、好ましくは１
６０〜２２０’Ｃの範囲で０．５〜６０秒間が好適であ
るが、熱処理にマイクロ波加熱を０１用することによっ
て本発明範囲の表面形態を有するフィルムが得られやす
くなるので望ましい。

本発明の基材製法の特徴は、特殊な方法で調製した特定
範囲の熱特性を有する高）農度粒子ポリマを用いて、不
活性粒子を含有するきわめて薄い層を設けた後にフィル
ムを二軸延伸することであり、製膜工程内で、フィルム
を一軸延伸した後、コーティングなどを施しさらに延伸
する方法、あるいは二軸延伸フィルムにコーティングし
て作られる積層フィルムでは本発明フィルムの性能には
遠く及ばず、また、コスト面でも本発明フィルムが優れ
ている。

かくして得られた二軸配向ポリエステルフィルムを用途
に応じて適当な幅にスリットして基材フィルムとし、該
基材フィルムのポリエステルＡ層側の表面に、非磁性金
属膜が積層されて非磁性金属化ポリエステルフィルムが
作製される。非磁性金属膜は、たとえばアルミニウムよ
りなり、前述の如き各種方法により形成可能である。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。

（１）粒子の平均粒径 フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法（
たとえばヤマトＨ学製Ｐ　Ｒ−５０３型）で除去し粒子
を露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが
粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥ
Ｍ　（走査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒子
によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（た
とえばケンブリッジインス１〜ルメントＩ４ＱＴＭ９０
０　）に結び付け、観察箇所を変えて粒子ｖ１５０００
個以上で次の数値処理を行ない、それによって求めた数
平均径りを平均粒径とする。

Ｄ＝ΣＤｉ／Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相光径、Ｎは個数である。

（２）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し
、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量
に対する比率（小量％）をもって粒子含有■とする。場
合によっては赤外分光法の併用も有効である。

（３）ガラス点移転Ｔｇ、冷結晶化温度ＴＣＣ，ＣＣ化
パラメータ△Ｔｃ　ｇ、融点 パーキシエルマー社製のＤＳＣ（示差走査熱帛計）■型
を用いて測定した。ＤＳＣの測定条イ１は次の通りであ
る。すなわち、試料１０ｍ３をＤＳＣ装置にセットし、
３００℃の温度で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷
する。この急冷試料を１０°Ｃ／分で昇温し、ガラス転
移点Ｔｇを検知する。ざらに昇温を続け、ガラス状態か
らの結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃ
とした。さらに昇温を続け、融解ピーク温度を融点とし
た。また、ＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ＞を結晶化
パラメータΔＴＣｇと定義する。

（４）表面突起の平均高さ ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス■製１と断面測定装置［ＰＭＳ−１、■リ
オニクス（１１Ｍ］においてフィルム表面の平坦面の高
さをＯとして走査したときの突起の高さ測定値を画像処
理装置［Ｉ　ＢＡＳ２０００、カールツァイス■製］に
送り、画像処理装置上にフィルム表面突起画像を再構築
する。次に、この表面突起画像で突起部分を２値化して
得られた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の
高さとし、これを個々の突起について求める。この測定
を場所をかえて５００回繰返し、突起個数を求め、測定
された全突起についてその高さの平均値を平均高さとし
た。また走査型電子顕微鏡ｉ鏡の倍率は、１０００〜８
０００倍の間の値を選択する。なお、場合によっては、
高精度光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹＫＯ社製ＴＯ
ＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２００倍、高解像度九
メラ使用が有効）を用いて得られる高さ情報を上記ＳＥ
Ｍの値に読み替えて用いてもよい。

（５）表層粒子濃度比 ２次イオンマススペクトル（ＳＩＭＳ）を用いて、フィ
ルム中の粒子に起因する元素の内のもっとも高Ｑ度の元
素とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、
厚さ方向の分析を行なう。

ＳＩＭＳによって測定される最表層粒子濃度〈深さＯの
点）における粒子濃度Ａとさらに深さ方向の分析を続け
て得られる最高濃度Ｂの比、Ａ／Ｂを表層粒子濃度比と
定義した。測定装置、条１１は下記のとおりである。

■　測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、＾ＴＯＭ１にへ社製　Ａ−ＤＩＤ八３へ００■　
測定条件 １次イオン種　二０２＋ １次イオン加速電圧：１２にＶ １次イオン電流：　２００ｎＡ ラスター領域　：　４００μｍ口 分析領域：ブート３０％ 測定真空度：　６．Ｏｘｌｏ”　ＴｏｒｒＥ　−Ｇ　Ｕ
　Ｎ　：　０．５ＫＶ−３，０へ（６〉単一粒子旧教 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ＞で写真観
察し、粒子を検知する。観察倍率を１０００００倍程度
にすれば、それ以上分けることができない１個の粒子が
観察できる。粒子の占める全面積をＡ、その内２個以上
の粒子が凝集している凝集体の占める面積をＢとした時
、（Ａ−Ｂ）／Ａをもって、単一粒子指数とする。ＴＥ
Ｍ条件は下記のとおりてあり１視野面積：２μＴｒＬ２
の測定を場所を変えて、５００視野測定する。

・装置二日本電子製ＪＥＭ−１２００ＥＸ・観察倍率：
　１０００００倍 ・切片厚さ：約１０００オングストローム（７）粒径比 上記（１〉の測定において個々の粒子の長径の平均値／
短径の平均値の比である。

すなわち、下式で求められる。

長径＝ΣＤ１ｉ／Ｎ 短径＝ΣＤ２ｉ／Ｎ Ｄｌ　ｉ　、Ｄ２ｉはそれぞれ個々の粒子の長径（最大
径）、短径（最短径）、＼は総個数である。

（８）積層されたフィルム中の熱可塑性樹脂Ａ層の厚さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ＞を用いて、フィル
ム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリ
エステルの炭素元素の濃度比（Ｍ”／Ｃ＋）を粒子濃度
どじ、ポリエステルＡ層の表面から深さ（厚さ）方向の
分析を行なう。表層では表面という界面のために粒子濃
度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる
。本発明フィルムの場合は深さ［Ｉ］でいったん極大値
となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲
線をもとに極大値の粒子濃度の１／２になる深さ［Ｉ［
］　　（ここでＩＩ＞Ｉ＞を積層厚さとした。

条件は測定法（５）と同様である。

なお、フィルム中にもっとも多く含有する粒子が有機高
分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面
からエツチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）、
ＩＲ（赤外分光法）あるいはコンフォーカル顕微鏡など
で、その粒子濃度のデプスプロファイルを測定し、上記
同様の手法から積層厚さを求めても良い。

（９）非磁性金属層表面の艶消し効果 艶消し効果を、表面の光沢度によって評価した。

つまり、光沢度が高い程艶消し効果は悪く、光沢度が低
い程艶消し効果が良い。光沢度の測定は、標準光源から
の光を、規定の角度で試料面に当て、正反射成分を受光
器で測定することにより行う。

上記規定の角度は、入射角６０度とし、受光器で正反射
成分を測定するので、受光角も６０度とする。

光沢度の基準としては、次に規定する基準面、次基準面
又は二次基準面を用いる。

（イ）基準面は、屈折率１，５６７のガラス表面とし、
この場合の値を１００　　（％）として表す。

（ロ）−次基準面は、屈折率が既知の透明又は黒色カラ
スの平滑面とする。

（ハ）二次基準面は、高光沢、中光沢及び低光沢の光沢
度をもつ光沢板で、−次基準面によって校正したものと
する。

試験片の大きさは１００　Ｘ　１００　ｒｔｖｎ以上と
し、３個の試験片の測定の平均値をとる。上記受光器を
含む光沢度測定装置の標準校正を一次基準面又は二次基
準面を用いて行った後、各試料の測定を行う。

（１０）非磁性金属膜の耐久性 幅１／２インチの非磁性金属化ポリエステルフィルムを
テープ走行試験機を使用して、ガイドピン（表面粗度：
Ｒａで１００ｎｒｎ＞上を走行させる（走行速度１００
０ＴｒＬ／分、走行回数１０パス、巻き付は角：６０’
、走行張カニ２ＪＪ）。この時、非磁性金属膜表面に入
った傷を顕微鏡で観察し、幅２．５μｍ以上の１カがテ
ープ幅あたり２本未満は優、２本以上１０本未満は良、
１０本以上は不良と判定した。

優が望ましいが、良でも実用的には使用可能である。

（１１）カール 非磁性金属化フィルムから５００　Ｘ５００　ｍｍの正
方形の試料を切り出し、そのカールの状態を下記の５段
階に分類し、ＤとＥはカール：良好、Ａ、Ｂ、Ｃはカー
ル：不良と判定した。

Ａ：完全に筒状を呈するもの。

Ｂ：Ａに近い状態だが、筒の一部が開口しているもの。

Ｃ二Ｂの開口部が広がったものであるが、側面の最長部
を円の直径とできるもの。

Ｄ：Ｃの開口部がざらに広がったものであり、側面の最
長部を円の直径とはできないもの。

Ｅ：カールの全くないもの、またはほとんどないもの。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１〜７、比較例１〜５ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因するシリカ粒子を含有するエチレングリコー
ルスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリー
を１９０’Ｃで１．５時間熱処理した俊、テレフタル酸
ジメヂルとニスデル交換反応後、重縮合し、該粒子を０
．３〜５５重量％含有するポリエチレンテレフタレート
（以下ＰＥＴと略記する）のベレットを作った。このペ
レットを用いてポリエステル八を調製し、また、常法に
よって、実質的に不活性粒子を含有しないＰＥＴを製造
し、ポリエステルＢとした。これらのポリマをそれぞれ
１８０　’Ｃで３時間減圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）　Ｌ／た
。

ポリエステルＡを押出機１に供給し３１０’Ｃで溶融し
、さらに、ポリエステルＢを押出機２に供給、２８０℃
で溶融し、これらのポリマを■形積図部を備えた合流ブ
ロックで合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面
湿度３０°Ｃのキャスティング・ドラムに巻きつけて冷
却固化し、片面にポリエステルＡ層を有する２層構造の
未延伸フィルムを作った。この時、それぞれの押出機の
吐出量を調節し総厚さ、ポリエステルＡ層の厚さを調節
した。

（ただし比較例５はＢＩＷ単層）。この未延伸フィルム
を温度８０’Ｃにて長手方向に４．５倍延伸した。

この延伸は２組ずつのロールの周速差で、４段階で行な
った。この−軸延伸フィルムをステンタを用いて延伸速
１９２０００％／分で１００°Ｃで幅方向に４゜０倍延
伸し、定長下で、２００℃にて５秒間熱処理し、総厚さ
６０μＴｎ、ポリエステルＡ層厚さ０．０８〜４μｍの
二軸配向積層フィルムを１９だ。これらのフィルムを１
／２インチ幅にスリットして１４４フイルムとし、該基
材フィルムのポリエステルＡ層の表面に、アルミニウム
よりなる非磁性金属膜を蒸着法により積層して非磁性金
属化ポリエステルフィルムを作成した。

基材フィルムとしての各パラメータは第１表に示したと
おりであり、これらが本発明の範囲内の場合には、光沢
度（艶消し効果）、非磁性金属膜の耐久性、カールの各
特性は第１表に示したとおり良好な値を示したが、そう
でない場合はこれら特性を兼備することはできなかった
。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の非磁性金属化ポリエステ
ルフィルムによるときは、基材フィルムを共押出による
積層二軸配向ポリエステルフィルムとし、特定サイズ、
含有量の不活性粒子を含有するポリエステルＡ１１Ｊの
表面に、高さの均一な突起を高密度で形成し、該突起に
より非磁性金属膜を構造的に強固に支持するとともに、
非磁性金属膜表面にトレースされる突起も高さが均一で
かつ高密度に形成できるようにしたので、むらのないか
つ極めて高い艶消し効果を得ることができ、かつ、非磁
性金属自身の耐久性も大幅に向上でき、しかも非磁性金
属化ポリエステルフィルムとしてカールのない良好な製
品を得ることができる。

また、本発明の非磁性金属化ポリエステルフィルムのＷ
ｌｔＡフィルムとしての二軸配向ポリエステルフィルム
は、製膜工程内で、コーティングなどの操作なしで共押
出により直接複合積層することによって作ったフィルム
であり、製膜工程中あるいはぞの後のコーティングによ
って作られる積層フィルムに比べて、最表層の分子も二
軸配向であるため、上述した特性以外、例えば、表面の
耐削れ性もはるかに優れ、しかもコスト面、品質の安定
性などにおいて有利である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ポリエステルＡと不活性粒子とを主成分とするフィ
   ルムを共押出によりポリエステルＢを主成分とするフィ
   ルムの少なくとも片面に積層した二軸配向ポリエステル
   フィルムの前記ポリエステルＡのフィルム層表面に、融
   解熱４０ｃａｌ／ｇ以上の非磁性金属からなる層を積層
   した非磁性金属化ポリエステルフィルムであって、前記
   不活性粒子の平均粒径が該不活性粒子を含む前記ポリエ
   ステルＡの積層フィルムの厚さの０．１〜１００倍であ
   り、該ポリエステルＡの積層フィルム中の前記不活性粒
   子の含有量が０．０１〜１０重量％であることを特徴と
   する非磁性金属化ポリエステルフイルム。 ２、前記不活性粒子を含むポリエステルＡの積層フィル
   ムの表層の不活性粒子の粒子濃度比が０．１以下である
   請求項１記載の非磁性金属化ポリエステルフィルム。