JPH03120638A - 情報記録ディスクの製造方法 - Google Patents
情報記録ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH03120638A JPH03120638A JP25771389A JP25771389A JPH03120638A JP H03120638 A JPH03120638 A JP H03120638A JP 25771389 A JP25771389 A JP 25771389A JP 25771389 A JP25771389 A JP 25771389A JP H03120638 A JPH03120638 A JP H03120638A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
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- information recording
- phase change
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
CDやCD−ROMのように、ディスク表面に凹凸のパ
ターンを形成することによって情報を記録する再生専用
の情報記録ディスクの製造方法に関し、 製造工程を簡略化して、短時間に情報記録ディスクを製
造することを可能にし、しかも、レジストの塗布・現像
工程及び鍍金工程を不要にして製造工程の管理が容易に
なるようにする情報記録ディスクの製造方法を提供する
ことを目的とし、相変化材料よりなるディスクに、記録
すべき情報に対応して選択的に光照射をなし、この光照
射された前記の相変化材料よりなるディスクを選択的に
エツチングして製造した前記の記録すべき情報に対応す
る凹凸のパターンを有する情報記憶ディスク用原盤を、
金属薄膜を表面に有し軟化しているプラスチック円板上
に押圧する工程をもって構成される。
ターンを形成することによって情報を記録する再生専用
の情報記録ディスクの製造方法に関し、 製造工程を簡略化して、短時間に情報記録ディスクを製
造することを可能にし、しかも、レジストの塗布・現像
工程及び鍍金工程を不要にして製造工程の管理が容易に
なるようにする情報記録ディスクの製造方法を提供する
ことを目的とし、相変化材料よりなるディスクに、記録
すべき情報に対応して選択的に光照射をなし、この光照
射された前記の相変化材料よりなるディスクを選択的に
エツチングして製造した前記の記録すべき情報に対応す
る凹凸のパターンを有する情報記憶ディスク用原盤を、
金属薄膜を表面に有し軟化しているプラスチック円板上
に押圧する工程をもって構成される。
本発明は、CDやCD−ROMのように、ディスク表面
に凹凸のパターン牽形成することによって情報を記録す
る再生専用の情報記録ディスクの製造方法に関する。
に凹凸のパターン牽形成することによって情報を記録す
る再生専用の情報記録ディスクの製造方法に関する。
ガラス円板上にレジストを塗布してレジスト膜を形成し
、これに、記録すべき情報に対応して強度変調されたレ
ーザビームを照射して現像し、例えばポジ型レジストを
使用している場合には、レーザビームを照射された領域
のレジスト膜を除去して、記録すべき情報に対応する凹
凸のパターンをガラス円板上に形成する。
、これに、記録すべき情報に対応して強度変調されたレ
ーザビームを照射して現像し、例えばポジ型レジストを
使用している場合には、レーザビームを照射された領域
のレジスト膜を除去して、記録すべき情報に対応する凹
凸のパターンをガラス円板上に形成する。
次いで、全面にニッケル、コバルト等の薄膜を蒸着した
後、この薄膜を一方の電極として電気メツキをなし、3
00n厚程度の金属膜を形成する。この金属膜をガラス
円板上から剥離すると、記録すべき情報に対応する凹凸
のパターンが形成された情報記録ディスク用原盤が形成
される。
後、この薄膜を一方の電極として電気メツキをなし、3
00n厚程度の金属膜を形成する。この金属膜をガラス
円板上から剥離すると、記録すべき情報に対応する凹凸
のパターンが形成された情報記録ディスク用原盤が形成
される。
この情報記録ディスク用原盤を射出成形機の金型に装着
し、ポリカーボネート等の流動状態のプラスチックを射
出して、プラスチック円板を形成すると、プラスチック
円板の表面に、情報記録ディスク用原盤に形成されてい
る凹凸のパターンが転写される0反射率を高めるため、
プラスチック円板上にアルミニウム、金等の薄膜を、蒸
着法、スパッタ法等を使用して形成し、その上に紫外線
硬化樹脂を塗布して硬化し、保護膜を形成する。
し、ポリカーボネート等の流動状態のプラスチックを射
出して、プラスチック円板を形成すると、プラスチック
円板の表面に、情報記録ディスク用原盤に形成されてい
る凹凸のパターンが転写される0反射率を高めるため、
プラスチック円板上にアルミニウム、金等の薄膜を、蒸
着法、スパッタ法等を使用して形成し、その上に紫外線
硬化樹脂を塗布して硬化し、保護膜を形成する。
従来技術に係る情報記録ディスクの製造方法は、製造工
程数が多く製造工程が複雑である。また、製造過程にお
いてレジストや鍍金液等の液体を使用する必要があるた
め、製造工程の管理が難しい。
程数が多く製造工程が複雑である。また、製造過程にお
いてレジストや鍍金液等の液体を使用する必要があるた
め、製造工程の管理が難しい。
特に、鍍金液の管理には特別の配慮が必要である。
本発明の目的は、この欠点を解消することにあり、製造
工程を簡略化して、短時間に情報記録ディスクを製造す
ることを可能にし、しかも、レジストの塗布・現像工程
及び鍍金工程を不要にして製造工程の管理が容易になる
ようにする情報記録ディスクの製造方法を提供すること
にある。
工程を簡略化して、短時間に情報記録ディスクを製造す
ることを可能にし、しかも、レジストの塗布・現像工程
及び鍍金工程を不要にして製造工程の管理が容易になる
ようにする情報記録ディスクの製造方法を提供すること
にある。
上記の目的は、相変化材料よりなるディスク(2)に、
記録すべき情報に対応して選択的に光照射をなし、この
光照射された前記の相変化材料よりなるディスク(2)
を選択的にエツチングして製造した前記の記録すべき情
報に対応する凹凸のパターンを有する情報記憶ディスク
用原盤(5)を、金属薄1lK(7)を表面に有し、軟
化しているプラスチック円板(6)上に押圧する工程を
有する情報記録ディスクの製造方法によって達成される
。
記録すべき情報に対応して選択的に光照射をなし、この
光照射された前記の相変化材料よりなるディスク(2)
を選択的にエツチングして製造した前記の記録すべき情
報に対応する凹凸のパターンを有する情報記憶ディスク
用原盤(5)を、金属薄1lK(7)を表面に有し、軟
化しているプラスチック円板(6)上に押圧する工程を
有する情報記録ディスクの製造方法によって達成される
。
報記録ディスク用原盤5が形成される。
表面にアルミニウム等の金属薄膜7が形成されているプ
ラスチック円板6を加熱軟化させ、その円板6にこの情
報記録ディスク用原盤5を押圧すれば、プラスチック円
板6とその上に形成されている金属薄膜7とに、記録す
べき情報に対応する凹凸のパターンが形成され、情報記
録ディスクが完成する。
ラスチック円板6を加熱軟化させ、その円板6にこの情
報記録ディスク用原盤5を押圧すれば、プラスチック円
板6とその上に形成されている金属薄膜7とに、記録す
べき情報に対応する凹凸のパターンが形成され、情報記
録ディスクが完成する。
C作用〕
ガラス等の円板1上にインジニウムアンチモン合金等の
相変化材料の薄膜2を形成し、これに記録すべき情報に
対応して強度変調されたレーザビーム4を照射すると、
光照射された領域の相変化材料の結晶構造が変化してエ
ツチングレートが低下する。その結果、レーザビームを
照射された相変化材料の薄膜セをエツチングすると、光
照射されなかった領域の相変化材料の薄膜が選択的にエ
ツチング除去され、ガラス等の円板1上に記録すべき情
報に対応する凹凸のパターンを有する情〔実施例〕 以下、図面を参照しつ一1本発明の一実施例に係る情報
記録ディスクの製造方法について説明する。
相変化材料の薄膜2を形成し、これに記録すべき情報に
対応して強度変調されたレーザビーム4を照射すると、
光照射された領域の相変化材料の結晶構造が変化してエ
ツチングレートが低下する。その結果、レーザビームを
照射された相変化材料の薄膜セをエツチングすると、光
照射されなかった領域の相変化材料の薄膜が選択的にエ
ツチング除去され、ガラス等の円板1上に記録すべき情
報に対応する凹凸のパターンを有する情〔実施例〕 以下、図面を参照しつ一1本発明の一実施例に係る情報
記録ディスクの製造方法について説明する。
第2図参照
外径130■、厚さ1.2−のガラス円板1上に、イン
ジニウム35%とアンチモン65%とを含有するインジ
ニウムアンチモン合金の薄膜2をスパッタ蒸着法等を使
用して一110nm厚に形成した後、インジニウムアン
チモン合金の薄膜2の表面に塵が付着しないようにカバ
ー膜3をもって保護する。
ジニウム35%とアンチモン65%とを含有するインジ
ニウムアンチモン合金の薄膜2をスパッタ蒸着法等を使
用して一110nm厚に形成した後、インジニウムアン
チモン合金の薄膜2の表面に塵が付着しないようにカバ
ー膜3をもって保護する。
上記の円板lを周速1.4m/sをもって回転し、記録
すべき情報に対応して強度変調された波長780n−の
レーザビーム4をガラス円板1上に形成されたインジニ
ウムアンチモン合金のEll!2上に照射する。このと
きのレーザの照射電力は、円板表面においてピーク値8
mWが適切である。なお、カバー膜3はインジニウムア
ンチモン合金の薄[2の表面に直接接触するように設け
てもよ(、あるいは、第2図に図示するように、空隙9
を介して設けてもよいが、空隙9を介して設けた方が、
照射電力は少な(てすむ。
すべき情報に対応して強度変調された波長780n−の
レーザビーム4をガラス円板1上に形成されたインジニ
ウムアンチモン合金のEll!2上に照射する。このと
きのレーザの照射電力は、円板表面においてピーク値8
mWが適切である。なお、カバー膜3はインジニウムア
ンチモン合金の薄[2の表面に直接接触するように設け
てもよ(、あるいは、第2図に図示するように、空隙9
を介して設けてもよいが、空隙9を介して設けた方が、
照射電力は少な(てすむ。
第3図参照
カバー膜3を除去し、インジニウムアンチモン合金の薄
膜2の形成されたガラス円板1をスパッタエツチング装
置に装入し、圧力が3mTorrとなるようにアルゴン
ガスを導入しながらエツチングをする。なお、アルゴン
ガスにヘリウムまたはネオンを添加しても、エツチング
効率が僅かに変わるだけで、特に大きな変化はないこと
が確認されている。エツチング電力を200Wとし、6
0秒間エツチングをなして、第3図に示すように、ガラ
ス円板1上にインジニウムアンチモン合金よりなる凹凸
のパターン21が形成された情報記録ディスク用原盤5
を形成する。
膜2の形成されたガラス円板1をスパッタエツチング装
置に装入し、圧力が3mTorrとなるようにアルゴン
ガスを導入しながらエツチングをする。なお、アルゴン
ガスにヘリウムまたはネオンを添加しても、エツチング
効率が僅かに変わるだけで、特に大きな変化はないこと
が確認されている。エツチング電力を200Wとし、6
0秒間エツチングをなして、第3図に示すように、ガラ
ス円板1上にインジニウムアンチモン合金よりなる凹凸
のパターン21が形成された情報記録ディスク用原盤5
を形成する。
第4図参照
一方、平坦なポリカーボネートよりなり、直径が120
腫であり、厚さが1.2園であるプラスチック円板6を
射出成形法を使用して製造し、このプラスチック円板6
の表面に、スパッタリング法を使用して厚さが1100
nであるアルミニウム薄膜7を形成する。
腫であり、厚さが1.2園であるプラスチック円板6を
射出成形法を使用して製造し、このプラスチック円板6
の表面に、スパッタリング法を使用して厚さが1100
nであるアルミニウム薄膜7を形成する。
第1図参照
前記の情報記録ディスク用原!15を、凹凸のパターン
21が形成されている面を上にして金型8の下半部に装
着して190℃に加熱し、この上に前記のアルミニウム
薄膜7が形成されているプラスチック円板6を、アルミ
ニウムFIIM7が形成されている面が情報記録ディス
ク用原盤5の凹凸のパターン21が形成されている面と
接触するように載置し、約50Kg/dの圧力を印加し
て10秒間加圧する。
21が形成されている面を上にして金型8の下半部に装
着して190℃に加熱し、この上に前記のアルミニウム
薄膜7が形成されているプラスチック円板6を、アルミ
ニウムFIIM7が形成されている面が情報記録ディス
ク用原盤5の凹凸のパターン21が形成されている面と
接触するように載置し、約50Kg/dの圧力を印加し
て10秒間加圧する。
第5図参照
プラスチック円板6を金型8から取り出すと、第5図に
示すように、表面にアルミニウム薄lN17の形成され
たプラスチック円板6に、情報記録ディスク用原盤の凹
凸のパターンが良好に転写されることが確認されている
。紫外線硬化樹脂を全面にスピンコードして硬化して情
報記録ディスクを完成し、この情報記録ディスクをCD
プレーヤにかけて記録されている信号(音楽)を再生す
ると、極めて良好に再生することができることが確認さ
れている。
示すように、表面にアルミニウム薄lN17の形成され
たプラスチック円板6に、情報記録ディスク用原盤の凹
凸のパターンが良好に転写されることが確認されている
。紫外線硬化樹脂を全面にスピンコードして硬化して情
報記録ディスクを完成し、この情報記録ディスクをCD
プレーヤにかけて記録されている信号(音楽)を再生す
ると、極めて良好に再生することができることが確認さ
れている。
なお、実施例においては、相変化材料としてインジニウ
ムアンチモンを使用する場合について説明したが、イン
ジニウムアンチモン以外にも、下記に列記する材料を使
用した場合にも、同一の効果が得られることが実験によ
り確認されている。
ムアンチモンを使用する場合について説明したが、イン
ジニウムアンチモン以外にも、下記に列記する材料を使
用した場合にも、同一の効果が得られることが実験によ
り確認されている。
Te−Ge。
Te−3s。
Te−Ge−3e。
Q e −S e 5
sb−s。
In−3b−Ge。
In−3b−3n。
Te0xGeSn。
In−B15
Te−Ge−3b。
Te−3e−3b。
Ge−3゜
5e−Sb。
In−3b−Te。
Ga−3b。
Te、−Ge−3n。
Pb−5n。
B玉−Te。
また、プラスチック円板6に形成する金属薄膜7の材料
として、アルミニウムに代えて、金を使用しても同一の
効果が得られることが実験により確認されている。
として、アルミニウムに代えて、金を使用しても同一の
効果が得られることが実験により確認されている。
以上説明せるとおり、本発明に係る情報記録ディスクの
製造方法においては、相変化材料よりなるディスクに、
記録すべき情報に対応して選択的に光照射をなし、光照
射された領域を除く領域の相変化材料を選択的にエツチ
ング除去して、記録すべき情報に対応する凹凸のパター
ンを有する情報記録ディスク用原盤を作成し、これを、
表面に金属薄膜が形成され、加熱軟化されているプラス
チック円板上に押圧して情報記録ディスクを作成するこ
と−されているので、大掛かりな射出成形装置を使用す
る必要がなく、また、プラスチック円板上に凹凸のパタ
ーンを転写した後で、その上に反射率を高めるための金
属薄膜を形成する必要がなく、さらには、レジスト塗布
・現像工程及び鍍金工程が不要であるため、製造工程が
大幅に簡略化され、また、製造工程管理も容易になって
、得られる経済的利益が大きい。
製造方法においては、相変化材料よりなるディスクに、
記録すべき情報に対応して選択的に光照射をなし、光照
射された領域を除く領域の相変化材料を選択的にエツチ
ング除去して、記録すべき情報に対応する凹凸のパター
ンを有する情報記録ディスク用原盤を作成し、これを、
表面に金属薄膜が形成され、加熱軟化されているプラス
チック円板上に押圧して情報記録ディスクを作成するこ
と−されているので、大掛かりな射出成形装置を使用す
る必要がなく、また、プラスチック円板上に凹凸のパタ
ーンを転写した後で、その上に反射率を高めるための金
属薄膜を形成する必要がなく、さらには、レジスト塗布
・現像工程及び鍍金工程が不要であるため、製造工程が
大幅に簡略化され、また、製造工程管理も容易になって
、得られる経済的利益が大きい。
なお、相変化材料よりなる薄膜の形成されているディス
クと、金属薄膜の形成されているブランクプラスチック
円板とを予め多数用意しておき、情報記録ディスクを製
造する際には、予め用意されている相変化材料よりなる
薄膜が形成されているディスクに、記録すべき情報に対
応して凹凸のパターンを形成して情報記録ディスク用原
盤を作成し、これを予め用意されているブランクプラス
チック円板上に押圧すればよいので、多数の品種を短時
間に製造するために極めて有効である。
クと、金属薄膜の形成されているブランクプラスチック
円板とを予め多数用意しておき、情報記録ディスクを製
造する際には、予め用意されている相変化材料よりなる
薄膜が形成されているディスクに、記録すべき情報に対
応して凹凸のパターンを形成して情報記録ディスク用原
盤を作成し、これを予め用意されているブランクプラス
チック円板上に押圧すればよいので、多数の品種を短時
間に製造するために極めて有効である。
第1図は、本発明の一実施例に係る情報記録ディスクの
製造方法において、情報記録ディスク用原盤をプラスチ
ック円板に押圧している状態を示す断面図である。 第2図は、相変化材料にレーザビームを照射している状
態を示す断面図である。 第3図は、情報記録ディスク用原盤の断面図である。 第4図は、プラスチック円板の断面図である。 第5図は、本発明の一実施例に係る情報記録ディスクの
製造方法を実施して製造した情報記録ディスクの断面図
である。 1・・・ガラス円板、 2・・・相変化材料(インジニウムアンチモン合金)の
is、 凹凸のパターン、 カバー膜、 レーザビーム、 情報記録ディスク用原盤、 プラスチック円板、 金属薄膜、 金型、 空隙。
製造方法において、情報記録ディスク用原盤をプラスチ
ック円板に押圧している状態を示す断面図である。 第2図は、相変化材料にレーザビームを照射している状
態を示す断面図である。 第3図は、情報記録ディスク用原盤の断面図である。 第4図は、プラスチック円板の断面図である。 第5図は、本発明の一実施例に係る情報記録ディスクの
製造方法を実施して製造した情報記録ディスクの断面図
である。 1・・・ガラス円板、 2・・・相変化材料(インジニウムアンチモン合金)の
is、 凹凸のパターン、 カバー膜、 レーザビーム、 情報記録ディスク用原盤、 プラスチック円板、 金属薄膜、 金型、 空隙。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 相変化材料よりなるディスク(2)に、記録すべき情報
に対応して選択的に光照射をなし、該光照射された前記
相変化材料よりなるディスク(2)を選択的にエッチン
グして製造した前記記録すべき情報に対応する凹凸のパ
ターンを有する情報記憶ディスク用原盤(5)を、金属
薄膜(7)を表面に有し、軟化しているプラスチック円
板(6)上に押圧する 工程を有することを特徴とする情報記録ディスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25771389A JPH03120638A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | 情報記録ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25771389A JPH03120638A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | 情報記録ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03120638A true JPH03120638A (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=17310077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25771389A Pending JPH03120638A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | 情報記録ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03120638A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006043212A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Master substrate and method of manufacturing a high-density relief structure |
| WO2006043209A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Master substrate and method of manufacturing a high-density relief structure |
-
1989
- 1989-10-04 JP JP25771389A patent/JPH03120638A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006043212A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Master substrate and method of manufacturing a high-density relief structure |
| WO2006043209A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Master substrate and method of manufacturing a high-density relief structure |
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