JPS5916332B2 - 原盤複製用成形型 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ５ 本発明は、おおまかに言えば、レコードの原盤の複
製に関し、特に、金属面に付設された極めて微細な凹部
に、様々な映像情報が記録されているビデオディスクの
原盤から、複製盤用の母盤を造る方法およびその装置に
関するものである。

ｊ０過去数年来、低コストで、かつ、大量生産の可能な
ビデオディスクを、家庭でも扱える安価な再生装置へ掛
けることにより、ディスクに記録された映像情報を、通
常のテレビセットに再生させようとする試みがなされて
いる。ｊ５それ以前では、様々な種類のテープレコーダ
ー、或いは、写真工学的技術を用いて・映像情報を再生
させようとする試みがあつた。

また、最近では、物質の熱可塑性、つまり、薄い金属膜
の熱による表面変化を応用した記録方法も考えられてい
る。■０ 例えば、ジヨン・エス・ウインスローを発明
者とする１９７３年２月２０日出願の米国特許願第３３
３、５６０号には、ビデオディスク原盤の製造法、およ
びその装置が示されている。これによれば、強力なレー
ザー光線を、ビスマスなどの溶融−５点の低い物質から
なる薄膜を施こしたガラス製ディスク上に照射させる仕
組みになつている。レーザー光線の強度は、映像情報に
よつて著しく変化するが、その強弱に関りなく、投射点
のビスマス膜を十分に溶融し得るような強力なものであ
る。ｒｏ尚、ビスマスなど溶融点の低い物質の望ましい
物理的特性として、それがレーザー光線により溶融され
た時、表面張力の働きにより、顕微鏡的な単位の小塊と
なり、その結果、金属コーティングの存在しない不透明
部分を、ディスク上に形成さｊ５せるようなものである
ことが必要である。上記ウインスローの発明によれば、
映像情報を有する凹部、つまり金属コーティングの存在
しない部分の径は、ミクロン単位のものである。しかし
ながら、このようにして製造された原盤から、何十万枚
もの複製盤を、迅速かつ低コストで製作することは殆ん
ど不可能に近く、従つて、デイスク原盤を若干「変型」
して、複製盤を大量、かつ、低コストで生産する方法が
模索されている。

そのような従来技術として、例えば、予め定められたパ
ターンを有する「マスク」を造り、それに、順次写真食
刻技術を施こし、同一のパターンを有する多数の複製面
を造り出す方法がある。このような「マスク」を用いて
、非常に薄い金属膜を有するデイスクにレーザー光線を
照射させれば、「マスク」と同じ凹部パターンがデイス
ク面上に形成される。このようにして、複数の複製盤を
製造することができる。或いは、また、写真腐食製版技
術を利用して、マスクを化学的食刻した後、同一のパタ
ーンを有するデイスクを造る方法もある。

しかしながら、上述の方法は、何れも、その必要経費、
或いは、その所要時間の点で、多くの問題がある。

更に、パターンの大きさは、可視放射光線の波長と、ほ
ぼ一致するため、通常の高速写真複写技術では、光の回
折による甚大な影響を受けることになる。或る視聴覚の
可能な対象物を、通常のテレビセツトをもつて記録・再
生するに際して、磁気テープよりもビデオデイスクの方
が有利である主な点は、デイスクの複製盤は、迅速かつ
大量に生産することができるということに−ある。

このことは、従来のオーデイオレコード盤を複製する場
合と、オーデイキテープを製作する場合とを比較すれば
、より明瞭となる。つまり、レコード盤は、スタンプ加
工によつて、迅速かつ大量に複製できるのに対し、テー
プの場合には、記録された情報を、テープの全長に亘つ
て、順次再記録していかなければならないからである。
以上のことから明らかなように、ビデオデイスクは、ビ
デオテープに較べて、その材料費、情報を再記録するた
めの装置、或いは、そのために必要な時間等の点で、全
て優れていると言える。

米国特許願、第７３５，００７号１９６９年１月２７日
出願には、ビニール板からなるデイスク上に、情報をエ
ンボス加工するための装置が開示されている。但し、ビ
ニール板をエンボス加工するための金型、つまり、スタ
ンパ一についての詳細な記載は省略されている。また、
既に特許されたり、特許出願されているビデオデイスク
システムにおける原盤は、前述したように、強度のレー
ザー光線を、比較的融点が低く、表面張力の高い、不透
明な物質からなる薄膜を有する平坦なデイスク上に照射
させることによつて造られている。

このようにして造られた原盤は、その不透明の表面に、
ほぼ円形状好ましくは同心円的螺旋状に断続的に並んだ
不連続な透明部分を有しており、その透明部分に映像情
報を貯蔵し得るようになつている。しかしながら、この
感熱性の不透明薄膜の厚さは、僅か、数百オングストロ
ーム程度であるため、この原盤を直接使用して、スタン
プ加工、圧縮成形加工、射出成形加工、或いは、エンボ
ス加工等により、複製盤を製造することは不可能である
。

１９７３年１０月１田こ出願された、米国特許願第４０
２，６３４号、第４０２，６３６号、および第４０２，
６８６号には、概ね立体的な原盤を製造する方法が開示
されている。

それによれば、相対的な透明、不透明部分の代わりに、
高さ０．７μを最適とする不連続部、つまり凸部が、デ
イスク面上に形成されている。その凸部は、原盤に被覆
した耐光性の物質から成つている。従つて、この耐光性
を有する原盤を用いて、スタンパ一を作製すれば、エン
ボス加工、成形加工、或いはスタンプ加工により、複製
盤を、比較的低コストで、かつ、大量に生産することが
可能となる。本発明は、上記の耐光性を有する原盤から
、陽型の、または、陰型の剛性に富み、かつ高分解能を
有する成形型を製造しようとするものである。

成形型を用いて、可塑性デイスクにエンボス加工スタン
プ加工を施こせば、複製盤を大量に生産することが可能
となる。本発明によれば、まず、無電解メツキ法により
、原盤の表面上に、薄い銀層を形成させて、原盤に導電
性を与える。

次いで、その原盤を成形用マンドレルとして利用し、十
分な厚さと剛性を有する陰型の第１マザーを電気鋳造す
る。尚、銀層を形成する前に、原盤上のビスマス膜を除
去しておくことが必要である。なお、本明細書の中で、
以下度々使用される「マスター」、 「マザー」は、原
盤に対してそれぞれ陽型、陰型の複製盤を示すものとす
る。

ついで、第１マザーの銀層の表面に、不活性処理などの
処理を予め施こして、電鋳された金属層を銀層から離れ
易くし、この第１マザーを成形マンドレルとして用いる
ことにより、多数の第２マスターを形成できる。尚、銀
層の面を不活性にするには、銀面を酸化、または硫化し
て、薄い酸化銀膜、硫化銀膜を形成されればよい。この
酸化鋭硫化銀膜により、銀膜と、その土に電鋳される金
属膜との接着を防止することができる。この第１マザー
から電気鋳造される第２マスターは、そのままスタンプ
加工用、エンボス加工用の陽型成形型（以下、スタンパ
一と総称する）としても用いられ、更には、その第２マ
スターに不活性処理を施こした後、それをマンドレルと
して用いれば、一連のスタンパ一を造るための新たな第
２マザーを形成することもできる。

かくして造られたスタンパ一により、ビニールなどの熱
可塑性物質にスタンプ加工、エンボス加工を加えて、複
製盤を大量に生産することができる。

本発明のスタンプ加工装置によれば、スタンパ一、およ
びビニール板が、密封筐内に設けられた２つの定盤によ
つて支持されており、密封筐内を減圧させることにより
、スタンパ一とビニール板との間の空気を排除するよう
になつている。

次いで、−ビニール板を軟化温度まで加熱し、かつ加圧
して、スタンパ一の突起に対応する凹部を、ビニール板
表面に、エンボス加工で形成させた後、２つの定盤を冷
却して分離する。かくして造られたビニール複製盤面に
、蒸着法などにより反射性金属膜を設ける。また、その
反射性金属膜の上に、透明なプラスチツク層を設けて、
金属膜を保護するようにしてもよい。尚、このスタンパ
一を利用して、複製盤を圧縮．または射出成形すること
もできる。

この場合、スタンパ一を、加熱・冷却用通孔を内部に備
えた鋳型に取り付ける。デイスタの両面を同時に複製す
る場合は、２つのスタンパ一を用いる。まず、圧縮成形
法による場合、鋳型内の通孔を、蒸気、または、冷却水
により、交互に暖めたり、冷却したりする。

ついで予熱して軟化させたビニール、ポリ塩化ビニール
などの可塑性材料を、１つまたは、２つのスタンパ一の
取り付けられている型内へ入れ、その型を、油圧機など
により、高圧力で加圧する。その圧力を維持しつつ、押
圧されて形成されたデイスクを、冷却水により冷却した
後、金型を開いて、成形品を取り出す。最後に、成形デ
イスクの縁部に残る余分な材料つまり、ばりを取り除く
。射出成形による場合も、金型の通孔を、水などの微温
を有する循環冷却手段により、定温に保つておくことを
除いて、上記方法とほぼ同じである。

金型を密封した後、予め溶融状態になつているビニール
、ポリスチレン、アセタール樹脂等を、液状のまま、金
型の凹孔内に射入する。注入後、樹脂は直ちに硬化する
ので、数秒後、金型を開いて、成形デイスクを取り出す
。この場合、ばりは殆んど形成されず、ばり取り作業を
する必要はない。更に、もうひとつの原盤複製法として
、まず、耐光性を有する原盤から、離型し易い硬化性樹
脂を用いて、陰型のマザーを成形し、次いで、このマザ
ーの表面に導電性を与えた後、これを成形用マンドレル
として用いて、既述した電気鋳造法により、第２マスタ
ーを製造する方法もある。

所で、ビデオデイスクシステムで用いられるデイスクに
は、薄肉で可撓性のあるものと、重い硬質のものとがあ
るが、本発明によるスタンパ一を用いれば、その何れを
も製造することができる。本発明の大きな特徴は、再生
装置に応じて、如何なる形状の複製盤をも製造しうるよ
うに改変することができるという点である。例えば、複
製盤の表面に、突起よりも、むしろ、凹部を設けた方が
、或る再生装置にとつて都合がよい場合、本発明に従え
ば、凹部を有する複製盤を製造することも可能である。
実際の所、情報の記録されているデイスク面上の変形部
の大きさ、形状は、専ら、再生装置に合せて決定しなけ
ればならないため、必要に応じたデイスクを製造できる
ことは大きな利点である。所で、本発明の出願人自身に
より開発されたビデオデイスクシステムでは、光の回折
、反射を応用して、異つた強さの電気信号を発生させる
ような、情報読み取り技術が採用されている。

その場合、デイスク面の突起、または凹部は、プレイヤ
ー装置から発せられる光線を反射させるよりも、むしろ
、回折させる働きを持つている。一方、その突起、また
は凹部を囲む平坦な面は、そこに当る光線全てを、光学
的プレイヤー装置に反射し返すための反射板としての機
能を有している。また、他のビデオデイスクシステムで
は、光学的位相差が利用されでいる。つまり、そのデイ
スクは、相互に旦λ（λは再生放射光線の波長、ｎ゛
４は奇数を示す）だけ離隔した反射面を有し、
光線は、その面で反射すると同時に、デイスク面の不連
続的変形部により回折され、回折した光は、前記反射面
で反射する光と干渉し合い、その結果、それぞれ異つた
信号が、読み取り光学装置に送られるようになつている
。

従つて、以上略述したような特徴を有するビデオデイス
クシステムの原盤を複製するには、本発明によつて形成
されたスタンパ一を用いることが最も適切であると言え
る。

以下、本発明を、添附図面に基いて詳細に説明する。

尚、添附の図面は、本発明の一実施例を示すもので、何
ら限定的なものではない。第１図において、符号１０は
、本発明に従つて複製される原盤を示す。

原盤１０は、滑らかで、平坦な表面１２を有し、その表
面１２上には、螺旋形で、かつ、概ね同心円をなす情報
トラツク１６に沿つて、複数の半円形突起１４が配設さ
れている。個々の突起１４は、全体として、概ね円形と
なるように配設されているが、トラツク１６は不連続的
で、隣り合う２つの突起１４の間に、平坦な面１８を有
している。本発明の好ましい実施例では、情報トラツク
１６は螺旋状となるように配設されているが、無論、円
形となるように配設してもよい。また、第１図で示す好
ましい実施例では、各トラツク１６に沿つて、複数の突
起１４が示されているが、その突起１４の代わり（Ｑ凹
部を配設することも可能である。所で、再生用の複製デ
イスクの表面は、放射光線を反射させるためよりも、む
しろ、それを回折させるために、或る特定の形状をして
いるのであつて、突起部と凹部の何れを配設するかは、
専ら、如何なる方法によつて複製盤を作製するかによる
。

つまり、スタンプ加工、エンボス加工、或いは、圧延加
工、成形加工の何れの方法によるか、更には、原盤１０
に対して、陽型或いは陰型の何れの盤を複製するかによ
つて決定されるものである。次に、第２図は、原盤の好
ましい複製法を示す。尚、その原盤は６米国特許願第４
０２，６３６号に記載された方法により作製されるもの
とする。つまり、原盤１０は、滑らかなガラス製デイス
クからなり６そのデイスク上には．映像情報が、非導電
性および、耐光性を有する一連の突起１４の形で記録さ
れている。その突起１４は、ほぼ、０．７μの高さと、
放射方向に対して、１μの幅を有し、ほぼ２μの幅をも
つて、螺旋状に描かれている情報トラツクに沿つて配設
されている。原盤１０の表面には、ビスマスなどの溶融
点が低く、かつ不透明な物質からなる非常に薄い膜が形
成され、そのビスマス膜は、各突起１４の下方に、小孔
を有している。

もし必要ならば、原盤に金属加工を施こす前に、適宜な
化学溶剤、食刻剤を用いて、ビスマス膜を除去すること
ができる。このような原盤１０に金属メツキをすれば、
最初の複製盤を製造するための母盤を直接造ることがで
きる。或いはまた、熱硬化性樹脂を用いて、この原盤１
０から、絶縁性の突起を平坦な基板上に有する陽型の母
盤を造ることもできる。例えば、第２，３図では、エラ
ストマー系材料からなり、原盤に対して、陰型の複製母
型３８が示されている。

まず、母型３８を容易に原盤１０から離型させるために
、原盤１０の表面に、ポリビニールアルコールなどの離
型剤を塗布し、ガラス板のような平坦で硬い基板３２の
表面にプライマー（下塗剤）を塗布する。縁スペーサー
３４と中央スペーサー３６によつて、原盤１０の面と基
板３２の面を相互に離隔させて、一種の積層体が形成さ
れるようにする。シリコンラバ一などの熱硬化性を有す
る液状エラストマー材料を、触媒と混ぜ、済過し、脱ガ
ス化させた後、原盤１０の表面上に注ぐ。

次いで、基板３２を、そのプライマー塗布面が下向きに
なるように、２つのスペーサー３４，３６上に設置して
、圧力と熱をかけ、エラストマー材料を硬化させると、
複製母型３８が形成される。かくして形成された母型３
８は、その厚さが３５５．６μ（１４ミル）で、原盤１
０とは逆形状の表面３９を有している。次に、熱硬化性
を有する、ポリウレタン或いは、アクリル系、エポキシ
系樹脂などの液状樹脂を、複製母型３８上に注入し、熱
、放射光線、或いは、触媒により、その注入樹脂を重合
させると、母型３８の表面３９とは逆形状、つまり、原
盤に対して陽型の第１マスター４６を形成することがで
きる。

尚、樹脂膜４０は、マイラ−ポリエステルの基板４２の
上に支持されており、厚さは、一般に、３μから７μで
、ほぼ５μ位が望ましい。液状樹脂を、母型３８に注入
した後、ローラー部材により、圧力を基板４２上にかけ
、注入樹脂内に気泡が残らないようにし、更に、樹脂が
凹部４４内を確実に満たすようにする。

かくして形成された第１マスター４６は、第４図示の如
く、基板４２上に支持された複数の絶縁性突起４７を有
している。

この第１マスター４６に、以下記述するように、メツキ
加工を施こして、最初の複製盤を造るための第１マザー
を作製することもできる。尚、原盤の成形注型法の詳細
は、米国特許願第４０６，６８６号に開示されている。

次に、第５図では、原盤１０、或いは、第１マスター４
６の表面に金属加工を施こし、それに導電性を与えるた
めの金属メツキ加工第一工程が示されている。

原盤１０または、第１マスター４６上に金属膜を形成す
るには、真空蒸着法、無電解メツキによる付着法、或い
は、金属蒸気を衝撃させて付着する法（スパツタ一法）
などによる。

そのうち、鏡面を造る時と同様、無電解メツキにより銀
層を原盤１０または、第１マスター４６面に付着させる
方法が望ましい。当初の銀メツキ層４８の厚さは、導電
性を有し得る程度の厚さでよい。ほぼ、０２５μ（０．
０１ミノ（ハ）から５０．８μ（２ミノ（ハ）の間であ
れば、次の電解メツキによる金属層形成工程を容易にす
ることができるからである。このように銀メツキの施こ
された原盤１０及び第１マスター４６は、成型用マンド
レルとして機能し、これにより、陰型の第１マザー５２
を電気鋳造することができる。

つまり、銀メツキ層４８を陰極に連結し、銅またはニツ
ケルの金属塩が溶解している電解メツキ槽内に設置して
、銅層、ニツケル層をその上に形成させる。銅、ニツケ
ルを用いるのは、第１マザー５２に、自己保持のための
充分な厚さと強度を与えるためである。本発明の一実施
例では、まず、銀メツキ層４８を陰極とし、銅の溶解し
ているメツキ槽に入れ、その銀メツキ層４８上に銅メツ
キ層４９を形成させる。

銅メツキ層４９の厚さは、銀メツキ層４８を支えるに充
分な厚さであることが必要で、５０．８μ（２ミル）か
ら２５４μ（１０ミル）の間、特にそのうち、約１５２
．４μ（６ミル）位が適当である。その銅メツキした原
盤１０または、第１マスター４６を、更に、ニツケル槽
に浸漬し、銅メツキ層４９の上にニツケルメツキ層５０
を形成させ、第１マザー５２の強さを高める。

ニツケルメツキ層５０の厚さは、２５．４μから２５４
μ（１−１０ミル）の間で１２７μ（５ミル）位が適当
である。次に、原盤１０または、第１マスター４６から
、ニツケル、銅、銀層からなる重層体、つまり、第１マ
ザー５２を離型し、銀メツキ層４８に付着している硬化
性樹脂の残滓を除去する。一方、原盤１０のガラス面を
清浄にし、磨いた後、ビスマスを塗布して、前述した方
法により再使用する。この第１マザー５２は、前述した
複製母型３８と同じ表面形状を有し、第１マスター４６
を成形するための原型ともなる。この陰型の第１マザー
５２を成型用マンドレルとして、更に、第２マスターを
電気鋳造することができる。

まず、銀メツキ層４８が、その上に電鋳される第２マス
ターから容易に離れるように、銀メツキ層４８の表面を
、酸素ガス、オゾン、或いは、硝酸、ポタシウム過マン
ガン酸等の弱性酸化剤で酸化して不活性にしておく。

次いで、第７図で示すように、第１マザー５２を陰極に
連結し、ニツケルメツキ槽に浸漬し、銀メツキ層４８上
に、ニツケル層５４を形成させる。

そのニツケル層５４の厚さは、５０．８μ（２ミル）か
ら２５４μ（１０ミル）で、通常は、１２７μ（５ミル
）が適当である。そして、更にその上に、銅メツキ層５
６及びニツケルメツキ層５８を順次形成させ、原盤１０
に対して陽型の第２マスター６０を造る（第８図）。

この第２マスター６０をマンドレルとして、同要領を繰
返すことにより、更に新たな第２マザー６２を形成する
。更に、このようにして造られた第２マスター６０、ま
たは、第２マザー６２を、マンドレルとして用いること
により、第９図で示すような、ニツケル層６４、銅層６
６、ニツケル層６８の３層からなり、陽型、または陰型
のスタンパー７０を複数個電鋳することができる。

陽型のスタンパー７０を形成するには、陽型の第２マス
ター６０から造られた陰型の第２マザー６２を用いれば
よい。かくして形成された、原盤１０の突起１４と同形
状の複製突起７２を有するスタンパー７０は、硬い面を
有していて、ポリビニールクロライド等の熱可塑性のあ
るビニール樹脂を材料とする複製盤を、成形加工、スタ
ンプ加工、或いはエンボス加工法によつて、大量生産す
るための金型面として用いられる。第１０図で、ビニー
ル製の複製盤をスタンプ加工により複製する方法および
装置を示す。

まず、ビニール板８０を、第１定盤８３に支持された金
属製ダイヤフラム８２と、第２定盤８４の下面に取付け
られたスタンパー７０の型面、つまり突起７２を有する
側の面との間に位置させるこの装置９０全体は、密封筐
８６内に収納されており、排気孔８８を介して、筐８６
内の内圧を減少させ、ビニール板８０とスタンパー７０
の間の空気を取り除くようになつている。

次いで、第１定盤８３、第２定盤８４をもつて、ダイヤ
フラム８２に圧力を加えつつ、装置９０を熱して、ビニ
ール板８０を可塑状態にし、それに、スタンパー７０の
突起７２によるエンボス加工を加える。

かくして、原盤１０の突起１４と対応する凹部を有した
複製盤を製造することができる。また、スタンパー７０
が、陰型である場合も、上述の装置９０、或いは、射出
、または圧縮成形加工により、第１１図で示すような複
製盤９６を製造することができる。好ましい実施例によ
ると、この複製盤９６は、不連続的に並んだ複数個の突
起９４を有し、各突起９４は、平坦面９８により包囲さ
れている。

複製盤９６の面には、平坦面９８の反射効率、および、
各突起９４の光回折率を高めるために、アルミニウムな
どの反射性金属膜１００が蒸着されている。尚、必要に
応じて、金属膜１００の上に、更に、透明なプラスチツ
ク膜１０２を設け、その膜１００の剥離、摩耗を防ぐよ
うにしてもよい。

このプラスチツク膜１０２により、突起９４に記録され
た情報を読み取る光線の焦点面に、擦跡、指紋等が与え
る影響を防止することができる。又、本発明による成形
型は銅又はニツケル層等電鋳金属層を複数に積層したも
のであり、それ自体が充分な厚昧と強度を持ち、自己保
持性を有するものであるから、従来のスタンパ一及び打
抜型部材が堅固な支持体の裏打ちを必要とするのに比較
して、本発明では成形型に付属する大きな裏打ち支持体
を必要としない優れた利点があり、更に上記本発明は、
このような利点のために、打抜き型として使用するほか
、更に複写用ビデオデイスクの生産に向けて母型として
利用できる優れた利点を有している。以上比較的脆い材
質からなる原盤から、母型を成形し、最終的にスタンパ
一を形成する過程、および、そのスタンパ一により複製
壁を製造する方法等について述べてきた。無論、それら
の記載は、単に本発明の一実施例に過ぎず、本発明の技
術精神、範囲から逸脱することなく、その他様々な変更
が可能であることは言うまでもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に従つて、複製される原盤の部分斜視
図、第２図は、原盤から、エラストマー系樹脂の陰型母
型を形成するための装置の一部を示す縦断面図、第３図
は、第２図で示す母型の一部縦断面図、第４図は、第２
，３図で示す母型から形成される第１マスターの縦断面
図、第５図は、第１マスターに金属加工を施こし、第１
マザーを形成した状態を示す断面図、第６図は、第１マ
スターから離型された第１マザーの断面図、第７図は、
第１マザーに、金属膜を電鋳して、第２マスターを形成
する要領を示す縦断面図、第８図は、第１マザーから離
型された第２マスターの断面図、第９図は、スタンパ一
の部分断面図、第１０図は、本発明のスタンパ一を用い
てスタンプ加工するための装置の概念図、第１１図は、
本発明の方法、および装置により形成された複製盤の部
分斜視図。 １０・・・・・・原盤、１２・・・・・・表面、１４・
・・・・・突起、１６・・・・・・情報トラツク、１８
・・・・・・面、３２・・・・・・基板 ３４，３６・
・・・・・スペーサー、３８・・・・・・複製母型 ３
９・・・・・・表面、４０・・・・・・樹脂膜、４２・
・・・・・基板 ４４・・・・・・凹部、４６・・・・
・・第１マスター、４７・・・・・・突起、４８・・・
・・・銀メツキ層、４９，５６，６６・・・・・・銅メ
ツキ層、５０，５４，５８，６４，６８・・・・・・ニ
ツケル層、５２・・・・・・第１マザー ６０・・・・
・・第２マスター ６２・・・・・・第２マザー、７０
・・・・・・スタンパ一 ７２・・・・・・突起、８０
・・・・・・ビニール板、８２・・・・・・ダイヤフラ
ム、８３，８４・・・・・・定盤、８６・・・・・・密
封筐、８８・・・・・・排気孔、９０・・・・・・スタ
ンプ加工装置、９４・・・・・・突起、９６・・・・・
・複製盤、９８・・・・・・平坦面、１００・・・・・
・反射性金属膜、１０２・・・・・・プラスチツク膜。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ビデオディスク盤を、スタンプ加工、エンボス加工
   または注型法により複製するための成形型であつて、充
   分な厚味と強度を持ち自己保持性を有する複数に積層し
   た電鋳金属層から構成されると共に、滑らかで光を反射
   する平坦な表面を有し該表面には円形又は螺旋形の情報
   トラックに沿つて光を回折するに好適な突起部又は凹部
   を不連続的に配置し、該突起部又は凹部自体の長さ及び
   平坦な隣接間隔の距離によつて、再生するビデオ情報を
   表わすようにした原盤複製用成形型。 ２ 上記積層した電鋳金属層の少くとも一つの層は銅で
   ある特許請求の範囲１の成形型。 ３ 上記積層した電鋳金属層の少くとも一つの層はニッ
   ケルである特許請求の範囲１の成形型。 ４ 上記金属層の厚味は各々５０．８μ（２ミル）〜５
   ０８μ（２０ミル）であり自己保持性を有つものである
   特許請求の範囲第１項の成形型。