JPH0312219A - 有害成分の除去方法 - Google Patents
有害成分の除去方法Info
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- JPH0312219A JPH0312219A JP1144109A JP14410989A JPH0312219A JP H0312219 A JPH0312219 A JP H0312219A JP 1144109 A JP1144109 A JP 1144109A JP 14410989 A JP14410989 A JP 14410989A JP H0312219 A JPH0312219 A JP H0312219A
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- Japan
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- removal
- soda lime
- copper
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有害成分の除去方法に関し、さらに細には半導
体製造工程などから排出されるガス中に含有されるオゾ
ンおよびシランを同時に除去する有害成分の除去方法に
関する。
体製造工程などから排出されるガス中に含有されるオゾ
ンおよびシランを同時に除去する有害成分の除去方法に
関する。
オゾンは、その酸化力を利用して半導体製造工程などで
種々な使われ方をしているが、最近はモノシランまたは
ジシラン（以下総称してシランと記す）と比較的低温で
反応させて酸化シリコン膜析出させる工程（ＣＶＤ）に
使用されている。
種々な使われ方をしているが、最近はモノシランまたは
ジシラン（以下総称してシランと記す）と比較的低温で
反応させて酸化シリコン膜析出させる工程（ＣＶＤ）に
使用されている。
オゾンはＡ ＣＧ Ｉ Ｈ（Ａｍｅｒｃａｎ Ｃｏｎｆ
ｅｒｅｎｃｅｏｆ Ｇｏｖｅｒｍｅｎｔａｌ Ｉｎｄｕ
ｓｔｒｉａｌ ＨｙｇｉｎｉｓＬｓ ）の許容濃度で０
．１ＰＰ−とされており、半導体製造工程では１００ｐ
ｐｎ＋〜５％程度のオゾンが使用されるので、環境を破
壊しないためにガスの排出に先立って除去する必要があ
る。
ｅｒｅｎｃｅｏｆ Ｇｏｖｅｒｍｅｎｔａｌ Ｉｎｄｕ
ｓｔｒｉａｌ ＨｙｇｉｎｉｓＬｓ ）の許容濃度で０
．１ＰＰ−とされており、半導体製造工程では１００ｐ
ｐｎ＋〜５％程度のオゾンが使用されるので、環境を破
壊しないためにガスの排出に先立って除去する必要があ
る。
一方、シランは燃焼範囲が広く、条件によっては空気中
で自然発火するので非常に危険であり、また、許容濃度
も５ｐｐｍとされているので、この処理も不可欠である
。
で自然発火するので非常に危険であり、また、許容濃度
も５ｐｐｍとされているので、この処理も不可欠である
。
従来、オゾンを除去する方法としては、例えばオゾン含
有ガスを繊維状活性炭を用いて分解除去する方法（特開
昭４９−８２５９３号公報）および耐火性無機酸化物担
体に、遷移金属塩を含有する溶液を含浸させ、焼成して
なるオゾン分解触媒を用いる方法（特開昭５３−１４６
８８号公報）などが知られている。
有ガスを繊維状活性炭を用いて分解除去する方法（特開
昭４９−８２５９３号公報）および耐火性無機酸化物担
体に、遷移金属塩を含有する溶液を含浸させ、焼成して
なるオゾン分解触媒を用いる方法（特開昭５３−１４６
８８号公報）などが知られている。
一方、シランを含有するガスを処理する方法としては、
苛性ソーダなどのアルカリ性水溶液でガスを洗浄してシ
ランを除去する湿式法（特開昭５６−８４６１９号公報
）および固形担体に苛性ソーダ水溶液単独またはこれに
過マンガン酸カリウムを加えた水溶液を含浸させてなる
吸収剤にガスを接触させて除去する乾式法（特開昭５８
−１２８１４６号公報）などがある。
苛性ソーダなどのアルカリ性水溶液でガスを洗浄してシ
ランを除去する湿式法（特開昭５６−８４６１９号公報
）および固形担体に苛性ソーダ水溶液単独またはこれに
過マンガン酸カリウムを加えた水溶液を含浸させてなる
吸収剤にガスを接触させて除去する乾式法（特開昭５８
−１２８１４６号公報）などがある。
しかしながら、これらはいずれもオゾンまたはシランを
単独に処理する方法であって、排ガス中に含有されるオ
ゾンおよびシランを同時に処理しうるちのではない。
単独に処理する方法であって、排ガス中に含有されるオ
ゾンおよびシランを同時に処理しうるちのではない。
本発明者らは、鋭意研究を続けた結果、シラン類の除去
方法として先に出願した特開昭６２−１５２５１５号公
報におけるソーダライムに銅化合物を担持させてなる除
去剤を応用することにより、シランと同時にオゾンが効
率良く除去できることを見い出し、本発明を完成した。
方法として先に出願した特開昭６２−１５２５１５号公
報におけるソーダライムに銅化合物を担持させてなる除
去剤を応用することにより、シランと同時にオゾンが効
率良く除去できることを見い出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、有害成分としてオゾンおよびシラン
を含有するガスと除去剤とを接触させてオゾンおよびシ
ランを除去する有害成分の除去方法において、ソーダラ
イムにＭ（ＩＩ）化合物を担持させてなる除去剤を用い
ることを特徴とする有害成分の除去方法である。
を含有するガスと除去剤とを接触させてオゾンおよびシ
ランを除去する有害成分の除去方法において、ソーダラ
イムにＭ（ＩＩ）化合物を担持させてなる除去剤を用い
ることを特徴とする有害成分の除去方法である。
本発明は、窒素、水素、アルゴン、ヘリウムおよび空気
などにオゾンおよびシランを含有するガスに適用される
。
などにオゾンおよびシランを含有するガスに適用される
。
本発明によって除去される有害成分はオゾンおよびシラ
ンであり、シランとしてはモノシラン、ジシランおよび
ハロゲン化シランなとである。
ンであり、シランとしてはモノシラン、ジシランおよび
ハロゲン化シランなとである。
本発明で使用するソーダライムは、一般にソーダ石灰と
呼ばれるものであり、理化学事典（岩波書店、１９８３
年７６１頁）に記載されているように、通常、生石灰を
水酸化ナトリウムの濃厚溶液に浸し、加熱して作った強
い塩基性の白色粒状の固形物質である。ソーダライムは
試薬としても日本工業規格Ｋ ８６０３に規定されてい
る。
呼ばれるものであり、理化学事典（岩波書店、１９８３
年７６１頁）に記載されているように、通常、生石灰を
水酸化ナトリウムの濃厚溶液に浸し、加熱して作った強
い塩基性の白色粒状の固形物質である。ソーダライムは
試薬としても日本工業規格Ｋ ８６０３に規定されてい
る。
ソーダライムの化学成分は水酸化カルシウムが主体で、
これに少量の水酸化ナトリウムが含有されている物質で
あり、ソーダライムの名称で市販もされている。
これに少量の水酸化ナトリウムが含有されている物質で
あり、ソーダライムの名称で市販もされている。
これらの市販のソーダライムは不定形の粒状や顆粒状で
あり、１００〜２００°Ｃで水分が遊離されるか、オゾ
ンおよびシラ′ンの除去能力の点からは水分を保有させ
た状態のまま用いることが好ましい。
あり、１００〜２００°Ｃで水分が遊離されるか、オゾ
ンおよびシラ′ンの除去能力の点からは水分を保有させ
た状態のまま用いることが好ましい。
ソーダライムの粒の大きさは、通常１号品として市販さ
れているものは約１．５〜３．５ａ＋ｍ、２号品は約３
．５〜５．５ｍ＋１．３号品は約５．５〜７．０ｍｍで
あり、これらのいずれを用いてもよい。
れているものは約１．５〜３．５ａ＋ｍ、２号品は約３
．５〜５．５ｍ＋１．３号品は約５．５〜７．０ｍｍで
あり、これらのいずれを用いてもよい。
本発明においてソーダライムに担持させる銅（ｎ）化合
物としては、酸化銅、水酸化銅および塩基性炭酸銅など
があり、これらの一種または二種以上の混合物である。
物としては、酸化銅、水酸化銅および塩基性炭酸銅など
があり、これらの一種または二種以上の混合物である。
酸化銅としては本来の酸化銅であるＣｕＯの他に、水和
酸化銅と呼ばれるＣｕＯ−ｎＨ２Ｏという化合物群が知
られているが、いずれも有効である。
酸化銅と呼ばれるＣｕＯ−ｎＨ２Ｏという化合物群が知
られているが、いずれも有効である。
銅（ＩＩ）化合物は、それぞれの化合物について従来公
知の種々の方法で調製することができる。例えば硫酸銅
、硝酸銅、塩化銅または酢酸銅などの銅（ＩＩ）塩と水
酸化アルカリとの中和反応によって調製される水酸化銅
、および水酸化銅と炭酸アルカリとの中和反応によって
調製される塩基性炭酸銅、あるいはこのようにして調製
された水酸化銅または塩基性炭酸銅を焼成して得られる
酸化銅などである。
知の種々の方法で調製することができる。例えば硫酸銅
、硝酸銅、塩化銅または酢酸銅などの銅（ＩＩ）塩と水
酸化アルカリとの中和反応によって調製される水酸化銅
、および水酸化銅と炭酸アルカリとの中和反応によって
調製される塩基性炭酸銅、あるいはこのようにして調製
された水酸化銅または塩基性炭酸銅を焼成して得られる
酸化銅などである。
これらの銅（ＩＩ）化合物のソーダライムに対する担持
量は、Ｃｕとして、通常は０．１〜５０％、好ましくは
１〜３０％である。銅としての担持量が０．１％よりも
少ない場合には、オゾンの除去が困難となり、シランの
除去効率も低下する。
量は、Ｃｕとして、通常は０．１〜５０％、好ましくは
１〜３０％である。銅としての担持量が０．１％よりも
少ない場合には、オゾンの除去が困難となり、シランの
除去効率も低下する。
一方、担持量を５０％よりも大きくすると銅（ＩＩ）化
合物の剥離が生じ易くなるばかりでなく、シランの濃度
が高いときには発熱によって温度が上昇し、粉化や銅（
ＩＩ）化合物の金属銅への還元などが生じてオゾンおよ
びシラン共に除去能力が低下する。
合物の剥離が生じ易くなるばかりでなく、シランの濃度
が高いときには発熱によって温度が上昇し、粉化や銅（
ＩＩ）化合物の金属銅への還元などが生じてオゾンおよ
びシラン共に除去能力が低下する。
銅（ＩＩ）化合物のソーダライムに対する担持量がＣｕ
として５％以下の場合には、出発物質として硫酸銅、硝
酸銅、塩化銅または酢酸銅などを水溶液の形でソーダラ
イムに含浸させて銅（ＩＩ）化合物をソーダライム上に
析出させることができる。しかし、この方法よりも前記
したように酸基を中和して得られる化合物とじてがら担
持させる方が好ましい。
として５％以下の場合には、出発物質として硫酸銅、硝
酸銅、塩化銅または酢酸銅などを水溶液の形でソーダラ
イムに含浸させて銅（ＩＩ）化合物をソーダライム上に
析出させることができる。しかし、この方法よりも前記
したように酸基を中和して得られる化合物とじてがら担
持させる方が好ましい。
担持方法としては乾式法と湿式法があり、いずれを用い
てら除去剤として十分な効果が得られる。乾式法として
は、例えば酸化銅、塩基性炭酸銅などの銅（ＩＩ）化合
物の粉末をソーダライムにまぶすことによって容易に担
持させることができる。湿式法としては、例えばＩＲ（
［）化合物のペーストをソーダライムにまぶす方法があ
るが、ソーダライムにまぶしながら乾燥させる必要があ
るので、工業的には乾式法に比較して若干不利である。
てら除去剤として十分な効果が得られる。乾式法として
は、例えば酸化銅、塩基性炭酸銅などの銅（ＩＩ）化合
物の粉末をソーダライムにまぶすことによって容易に担
持させることができる。湿式法としては、例えばＩＲ（
［）化合物のペーストをソーダライムにまぶす方法があ
るが、ソーダライムにまぶしながら乾燥させる必要があ
るので、工業的には乾式法に比較して若干不利である。
本発明において、除去剤は主成分がソーダライム中の水
酸化カルシウムと銅（ＩＩ）化合物であるため苛性アル
カリなどのような潮解性はなく、また除去筒に充填した
場合にも再析出などによって充填筒が閉塞することもな
く、長期間の使用に耐える。
酸化カルシウムと銅（ＩＩ）化合物であるため苛性アル
カリなどのような潮解性はなく、また除去筒に充填した
場合にも再析出などによって充填筒が閉塞することもな
く、長期間の使用に耐える。
また、ガス中にオゾンおよびシランの他にアルシン、ホ
スフィン、セレン化水素およびジボランなどの水素化物
ガスが含有されている場合にはこれらも同時に除去でき
るという利点もある。
スフィン、セレン化水素およびジボランなどの水素化物
ガスが含有されている場合にはこれらも同時に除去でき
るという利点もある。
本発明において除去剤は、通常は除去筒に充填され、こ
れに有害成分を含有するガスを流して除去剤と接触させ
ることにより、カス中の有害成分が除去される。
れに有害成分を含有するガスを流して除去剤と接触させ
ることにより、カス中の有害成分が除去される。
ガスの流速には特に制限はないが、例えばオゾンとシラ
ンを合わせた濃度が１０〜１００％のときには、ガスの
空筒線速度（ＬＶ）は、通常は１０ｃｍ／ｓｅｃ以下、
好ましくは１ｃｍ／ｓｅｃ以下であり、また、濃度が１
０％未満のときには空筒線速度（ＬＶ）は２００ｃｍ
／ ｓｅｃ以下とすることが好ましい。なお、オゾンと
シランは共に爆発性の混合気をつくるのでその範囲は避
けなければならない。
ンを合わせた濃度が１０〜１００％のときには、ガスの
空筒線速度（ＬＶ）は、通常は１０ｃｍ／ｓｅｃ以下、
好ましくは１ｃｍ／ｓｅｃ以下であり、また、濃度が１
０％未満のときには空筒線速度（ＬＶ）は２００ｃｍ
／ ｓｅｃ以下とすることが好ましい。なお、オゾンと
シランは共に爆発性の混合気をつくるのでその範囲は避
けなければならない。
本発明において処理されるガスは、通常は乾燥状態であ
るが、湿潤状態であっても除去筒内で結露するほど湿っ
ていなければよい。
るが、湿潤状態であっても除去筒内で結露するほど湿っ
ていなければよい。
ガスと除去剤との接触温度は、通常は１００°Ｃ以下で
ある。これよりも高温になるとソーダライム中に定常的
に含まれている水分の逸散などにより、除去能力が低下
することがある。通常は６０°Ｃ以下の常温でよく、特
に加熱や冷却する必要はない。
ある。これよりも高温になるとソーダライム中に定常的
に含まれている水分の逸散などにより、除去能力が低下
することがある。通常は６０°Ｃ以下の常温でよく、特
に加熱や冷却する必要はない。
また、処理時の圧力は常圧、減圧、加圧のいずれでもよ
く、−船釣には２０Ｋｇ／ ｃｒｄ ａｂｓであり、好
ましくは０．００１〜１０Ｋｇ／ ｃｏ！ ａｂｓの範
囲である。
く、−船釣には２０Ｋｇ／ ｃｒｄ ａｂｓであり、好
ましくは０．００１〜１０Ｋｇ／ ｃｏ！ ａｂｓの範
囲である。
本発明の浄化方法は、半導体製造工程などから排出され
る排ガス中に有害成分として含有されるオゾンおよびシ
ランを同時に、しかも効率良く除去することができる。
る排ガス中に有害成分として含有されるオゾンおよびシ
ランを同時に、しかも効率良く除去することができる。
また、乾式法であり、装置は基本的には除去剤を充填し
た除去筒だけであるため、コンパクトであり、狭い空間
などにも容易に設置することができる。
た除去筒だけであるため、コンパクトであり、狭い空間
などにも容易に設置することができる。
実施例１
硫酸銅と水酸化ナトリウムのそれぞれの水溶液を混合し
て水酸化鋼の沈殿を生成させた。この沈殿物の水洗を３
回繰返した後、１５０℃で５時間乾燥し、次いで３００
°Ｃで１０時間焼成して酸化銅（Ｃｕｂ）を得た。この
酸化銅を市販の１号ソーダライムにまぶして８ｗｔ％に
なるように担持させて除去剤を調製した。
て水酸化鋼の沈殿を生成させた。この沈殿物の水洗を３
回繰返した後、１５０℃で５時間乾燥し、次いで３００
°Ｃで１０時間焼成して酸化銅（Ｃｕｂ）を得た。この
酸化銅を市販の１号ソーダライムにまぶして８ｗｔ％に
なるように担持させて除去剤を調製した。
第１図に示したように内径１９＋ｕ＋φ、長さ３００Ｉ
ＩＩＩｌｌの石英製の筒１に、下から順に、インジゴを
変色成分とするオゾン検知剤２（検知下限０．ｌｐｐｍ
＞を１ｃ＠（充填量２．８ｄ、２ｇ）、除去剤３を５
ｃｍ（１４巌、１３ｇ ） 、検知剤４を１ ｃｍ、除
去剤５を５ ｃｔｎ、検知剤６を１ｃｍと順次積み重ね
て充填し、除去筒７とした。
ＩＩＩｌｌの石英製の筒１に、下から順に、インジゴを
変色成分とするオゾン検知剤２（検知下限０．ｌｐｐｍ
＞を１ｃ＠（充填量２．８ｄ、２ｇ）、除去剤３を５
ｃｍ（１４巌、１３ｇ ） 、検知剤４を１ ｃｍ、除
去剤５を５ ｃｔｎ、検知剤６を１ｃｍと順次積み重ね
て充填し、除去筒７とした。
除去筒７に０．５％のオゾンを含有する酸素を常温（２
０°Ｃ）で８５０ｍ ／ ｍｉａ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ
／ ｓｅｃ ）で上から下へと流通させて検知剤２が変
色するまでの時間を測定したところ、３１００分であっ
た。
０°Ｃ）で８５０ｍ ／ ｍｉａ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ
／ ｓｅｃ ）で上から下へと流通させて検知剤２が変
色するまでの時間を測定したところ、３１００分であっ
た。
これをオゾン処理能力に換算すると４６５１７１除去剤
である。
である。
引続き、この除去筒７の出口にモノシランの測定範囲が
０〜１５ＰＰＩｌｌの検知器（ＴＯ−４０００；バイオ
ニクス■製〉を取付け、０．５％のモノシランを含有す
るアルゴンを常温（２０°Ｃ）で８５０ ｒｎＱ／ ｒ
ｒｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ ／ ｓｅｃ ）で流通させて
モノシランの濃度が５ｐｐｍに達するまでの時間を測定
したところ １１０分であった。これをモノシランの処
理能力に換算すると１６．５ｆｆｌ ／ １除去剤であ
る。
０〜１５ＰＰＩｌｌの検知器（ＴＯ−４０００；バイオ
ニクス■製〉を取付け、０．５％のモノシランを含有す
るアルゴンを常温（２０°Ｃ）で８５０ ｒｎＱ／ ｒ
ｒｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ ／ ｓｅｃ ）で流通させて
モノシランの濃度が５ｐｐｍに達するまでの時間を測定
したところ １１０分であった。これをモノシランの処
理能力に換算すると１６．５ｆｆｌ ／ １除去剤であ
る。
実施例２
実施例１で使用したと同様の除去筒７に０．５％のモノ
シランを含有するアルゴンを常温（３０℃）で８５０ｍ
／ ｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ ／ ｓｅｃ ）で流通さ
せてモノシランの濃度が５ｐｐｍに達するまでの時間を
測定したところ１１０分であった。これをモノシランの
処理能力に換算すると１６．５ρ／ｇ除去である。
シランを含有するアルゴンを常温（３０℃）で８５０ｍ
／ ｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ ／ ｓｅｃ ）で流通さ
せてモノシランの濃度が５ｐｐｍに達するまでの時間を
測定したところ１１０分であった。これをモノシランの
処理能力に換算すると１６．５ρ／ｇ除去である。
引続き、この除去筒７に０．５％のオゾンを含有する酸
素を常温（２０℃）で８５０ｍ ／ ｍ１ｌ（Ｌ Ｖ５
ｃｍ ／ ｓｅｅ ）で流通させて検知剤２が変色する
までの時間を測定したところ、３０００分であった。
素を常温（２０℃）で８５０ｍ ／ ｍ１ｌ（Ｌ Ｖ５
ｃｍ ／ ｓｅｅ ）で流通させて検知剤２が変色する
までの時間を測定したところ、３０００分であった。
これをオゾン処理能力に換算すると４５０１７１除去剤
である。
である。
実施例３
実施例１で使用したと同様の除去筒７に０．１％のモノ
シランと０．０１％のオゾンを含有するアルゴン（酸素
を含む）を常温（２０℃）で８５０頑／ ｔｍ （Ｌ
Ｖ ５Ｃ１ｌ ／ ｓｅｅ ）で流通させてモノシラン
の濃度が５ρｐ諷に達するまでの時間および検知剤２が
変色するまでの時間を測定したところ、モノシランにつ
いては５５０分で０．５ｐｐｍに達したが、オゾンにつ
いてはこの時点では検知剤の変色はなく、破過するまで
に至らなかった。
シランと０．０１％のオゾンを含有するアルゴン（酸素
を含む）を常温（２０℃）で８５０頑／ ｔｍ （Ｌ
Ｖ ５Ｃ１ｌ ／ ｓｅｅ ）で流通させてモノシラン
の濃度が５ρｐ諷に達するまでの時間および検知剤２が
変色するまでの時間を測定したところ、モノシランにつ
いては５５０分で０．５ｐｐｍに達したが、オゾンにつ
いてはこの時点では検知剤の変色はなく、破過するまで
に至らなかった。
比較例１
実施例で使用した除去剤の代わりに、１号ソーダライム
のみを充填し、これに０．５％のオゾンを含有する酸素
を常温（２０℃）で８５０減／１１１ｉＩＩ（ＬＶ ５
ｃ＋＋＋／ｓｅｃ ）で流通させて検知剤２が変色する
までの時間を測定したところ、１分３７秒であった。こ
れをオゾン処理能力に換算すると０．２１．、／ρ除去
剤となる。
のみを充填し、これに０．５％のオゾンを含有する酸素
を常温（２０℃）で８５０減／１１１ｉＩＩ（ＬＶ ５
ｃ＋＋＋／ｓｅｃ ）で流通させて検知剤２が変色する
までの時間を測定したところ、１分３７秒であった。こ
れをオゾン処理能力に換算すると０．２１．、／ρ除去
剤となる。
比較例２
硝酸マンガン［Ｍｎ（ＮＯ３）２・６ＨｚＯ１７，２６
ｇを２０ｍＱの水に溶かし、この水溶液に市販の粒状ア
ルミナ４０ｇを混合してよくかき混ぜた後、１００℃で
１時間乾燥した。このものを電気炉に入れて空気中６５
℃で５時間加熱焼成し、除去剤とした。
ｇを２０ｍＱの水に溶かし、この水溶液に市販の粒状ア
ルミナ４０ｇを混合してよくかき混ぜた後、１００℃で
１時間乾燥した。このものを電気炉に入れて空気中６５
℃で５時間加熱焼成し、除去剤とした。
この除去剤を実施例と同様に筒１に充填し、これに０．
５％のモノシランを含有するアルゴンを常温（２０℃）
で８５０−／ ｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ ／ ｓｅｃ ）
で流通させて検知剤２が変色するまでの時間を測定した
ところ、瞬時に５ｐｐｍに達した。モノシランの処理能
力は全く無かった。
５％のモノシランを含有するアルゴンを常温（２０℃）
で８５０−／ ｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｍ ／ ｓｅｃ ）
で流通させて検知剤２が変色するまでの時間を測定した
ところ、瞬時に５ｐｐｍに達した。モノシランの処理能
力は全く無かった。
比較例３
除去剤として活性炭を使用し、実施例と同様にして除去
試験を行った。
試験を行った。
０．５％のモノシランを含有するアルゴンを常温で８５
０ｄ ／ ｙｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｎ ／ ｓｅｅ ）で
流通させ、出口ガス中のモノシランが５ρＰＩ１１に達
するまでの時間を測定したところ、２０分であった。モ
ノシランの処理能力は３わ勺除去剤となる。また、この
除去剤を空気中に取出すと間もなく燃え出した。
０ｄ ／ ｙｍ （Ｌ Ｖ ５ｃｎ ／ ｓｅｅ ）で
流通させ、出口ガス中のモノシランが５ρＰＩ１１に達
するまでの時間を測定したところ、２０分であった。モ
ノシランの処理能力は３わ勺除去剤となる。また、この
除去剤を空気中に取出すと間もなく燃え出した。
第１図は除去筒の縦断面図である。
図面の各番号は以下の如くである。
１、筒 ２．４および６、検知剤
３および４．除去剤 ７．除去筒
Claims (1)
- 有害成分としてオゾンおよびシランを含有するガスと除
去剤とを接触させてオゾンおよびシランを除去する有害
成分の除去方法において、ソーダライムに銅（II）化合
物を担持させてなる除去剤を用いることを特徴とする有
害成分の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1144109A JP2691927B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 有害成分の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1144109A JP2691927B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 有害成分の除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0312219A true JPH0312219A (ja) | 1991-01-21 |
| JP2691927B2 JP2691927B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=15354395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1144109A Expired - Fee Related JP2691927B2 (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 有害成分の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691927B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5374322A (en) * | 1992-07-09 | 1994-12-20 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of manufacturing high strength steel member with a low yield ratio |
| EP0642822A4 (en) * | 1993-03-17 | 1995-08-16 | Nippon Oxygen Co Ltd | METHODS FOR REMOVING AND DETECTING A HARMFUL COMPONENT. |
| EP0687494A1 (en) * | 1994-06-13 | 1995-12-20 | Japan Pionics Co., Ltd. | Cleaning method for exhaust gas |
| US6706648B2 (en) * | 1995-09-08 | 2004-03-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | APCVD method of forming silicon oxide using an organic silane, oxidizing agent, and catalyst-formed hydrogen radical |
| JP2009207968A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Taiyo Nippon Sanso Corp | シラン系ガスの除害剤及び除害方法 |
-
1989
- 1989-06-08 JP JP1144109A patent/JP2691927B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5374322A (en) * | 1992-07-09 | 1994-12-20 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of manufacturing high strength steel member with a low yield ratio |
| EP0642822A4 (en) * | 1993-03-17 | 1995-08-16 | Nippon Oxygen Co Ltd | METHODS FOR REMOVING AND DETECTING A HARMFUL COMPONENT. |
| EP0687494A1 (en) * | 1994-06-13 | 1995-12-20 | Japan Pionics Co., Ltd. | Cleaning method for exhaust gas |
| US6706648B2 (en) * | 1995-09-08 | 2004-03-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | APCVD method of forming silicon oxide using an organic silane, oxidizing agent, and catalyst-formed hydrogen radical |
| JP2009207968A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Taiyo Nippon Sanso Corp | シラン系ガスの除害剤及び除害方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2691927B2 (ja) | 1997-12-17 |
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