JPH03126301A - Magnetostatic wave device - Google Patents

Magnetostatic wave device

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JPH03126301A
JPH03126301A JP26574589A JP26574589A JPH03126301A JP H03126301 A JPH03126301 A JP H03126301A JP 26574589 A JP26574589 A JP 26574589A JP 26574589 A JP26574589 A JP 26574589A JP H03126301 A JPH03126301 A JP H03126301A
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JP
Japan
Prior art keywords
width
magnetostatic wave
yig thin
transducer
thin film
Prior art date
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Pending
Application number
JP26574589A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Nishikawa
敏夫 西川
Yohei Ishikawa
容平 石川
Takekazu Okada
岡田 剛和
Satoru Niimura
悟 新村
Hiroaki Tanaka
裕明 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetostatic wave device with a low insertion loss, excellent harmonic mode suppression ratio and a wide pass band width by providing plural ferrimagnetic bases narrow in width and each separated by the intervals in the width direction and input and output transducers in a way of crossing the plural ferrimagnetic bases. CONSTITUTION:YIG thin films 14 as ferrimagnetic bases are formed to one major face of a GGG base 12 and separated by the equal intervals in the width direction and an input parallel strip transducer 16 is provided in a way of crossing one end of each YIG thin film 14. Thus, when a DC magnetic field is applied in a direction orthogonal to the major side of the YIG thin film 14 and a signal is inputted to the input transducer 16, a magnetostatic forward volume wave is stimulated by an electromagnetic wave or the like generated from a strip line 16a and received by a strip line 18a of an output transducer 18 and outputted as a signal. Thus, a magnetostatic wave device width a low insertion loss, excellent harmonic mode suppression ratio and a wide pass band width is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は静磁波装置に関し、特に、たとえばYIG薄
膜などのフェリ磁性基体を有し、たとえばフィルタとし
て用いられる静磁波装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a magnetostatic wave device, and more particularly to a magnetostatic wave device that has a ferrimagnetic substrate such as a YIG thin film and is used, for example, as a filter.

(従来技術) この発明の背景となる従来の静磁波フィルタには、Y、
J、 AtaiiyanおよびJ、 M、 Owens
 らによって1986年IEEE MTT−S Dig
estのP、P、 575〜57Bに発表されているよ
うに、1つのYIG素子上にトランスデユーサを設けそ
のトランスデユーサの構造を工夫して通過帯域幅を制御
したものがある。
(Prior art) Conventional magnetostatic wave filters that form the background of this invention include Y,
J, Ataiiiyan and J, M, Owens
1986 IEEE MTT-S Dig by et al.
EST, P, P, 575-57B, there is a device in which a transducer is provided on one YIG element and the structure of the transducer is devised to control the passband width.

また、J、 D、 Adamらによって1988年IE
EE MTT−SDigestのP、P、 879〜8
82に発表されているように、複数のYIG素子を用い
て1つのフィルタバンクを構成した静磁波フィルタがあ
る。
Also, in 1988 IE by J. D. Adam et al.
EE MTT-SDigest P, P, 879-8
82, there is a magnetostatic wave filter in which one filter bank is constructed using a plurality of YIG elements.

さらに、T、NiN15hikaらによって1989年
IEEEMTT−3DigestのP、P、 153〜
156に発表されているように、YIG薄膜の膜厚を制
御して通過帯域幅を制御した静磁波フィルタや、T、 
NiN15hikaらによって1989年電子情報通信
学会秋季全国大会予稿集に発表されているように、yt
cm膜の幅を制御して通過帯域幅を制御した静磁波フィ
ルタがある。
Furthermore, P, P, 153~ of the 1989 IEEE MTT-3 Digest by T, NiN15hika et al.
156, a magnetostatic wave filter in which the passband width was controlled by controlling the thickness of the YIG thin film, and T,
As announced in the proceedings of the 1989 Autumn National Conference of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, by NiN15hika et al.
There is a magnetostatic wave filter in which the passband width is controlled by controlling the width of the cm film.

(発明が解決しようとする課題) ところが、従来の静磁波フィルタは、いずれも、たとえ
ば3dB以下という低挿入損失と、たとえば50dBと
いう優れた高次モード抑圧比と、3dBにおける通過帯
域がたとえば27MHzという広い通過帯域幅とを同時
に満足するものではなかった。
(Problem to be Solved by the Invention) However, all conventional magnetostatic wave filters have a low insertion loss of, for example, 3 dB or less, an excellent high-order mode suppression ratio of, for example, 50 dB, and a passband of, for example, 27 MHz at 3 dB. However, it has not been possible to simultaneously satisfy a wide passband width.

それゆえに、この発明の主たる目的は、低挿入損失で、
高次モード抑圧比が優れ、通過帯域幅が広い、静磁波装
置を提供することである。
Therefore, the main objective of this invention is to achieve low insertion loss and
It is an object of the present invention to provide a magnetostatic wave device having an excellent higher-order mode suppression ratio and a wide passband width.

(課題を解決するための手段) この発明は、それらの幅方向に間隔を隔てて設けられる
複数の幅の狭いフェリ磁性基体と、複数のフェリ磁性基
体を横切るようにして設けられる入出力用のトランスデ
ユーサとを含む、静磁波装置である。
(Means for Solving the Problems) The present invention includes a plurality of narrow ferrimagnetic substrates provided at intervals in the width direction, and an input/output device provided across the plurality of ferrimagnetic substrates. It is a magnetostatic wave device including a transducer.

(作用) フェリ磁性基体の幅を狭くしても、挿入損失があまり大
きくならなく、しかも、高次モードが抑圧される。
(Function) Even if the width of the ferrimagnetic substrate is narrowed, the insertion loss does not increase so much, and higher-order modes are suppressed.

また、複数のフェリ磁性基体が用いられているので、通
過帯域幅が広がる。
Furthermore, since a plurality of ferrimagnetic substrates are used, the passband width is widened.

(発明の効果) この発明によれば、低挿入損失で、高次モード抑圧比が
優れ、通過帯域幅が広い、静磁波装置が得られる。
(Effects of the Invention) According to the present invention, a magnetostatic wave device with low insertion loss, excellent high-order mode suppression ratio, and wide passband width can be obtained.

この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
The above objects, other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of embodiments with reference to the drawings.

(実施例) 第1A図はこの発明の一実施例を示す要部平面図であり
、第1B図はその側面図である。
(Embodiment) FIG. 1A is a plan view of a main part showing an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a side view thereof.

この静磁波装置10は、台としてたとえば5つの000
5体12,12.  ・・を含む。これらのGGG基体
12は、それぞれ、たとえば長さ20鶴2幅1重1の大
きさに形成され、幅方向に等間隔を隔てて配置される。
This magnetostatic wave device 10 has, for example, five 000 units as a stand.
5 bodies 12, 12. ··including. These GGG bases 12 are each formed to have a length of 20 squares, 2 widths, and 1 layer, respectively, and are arranged at equal intervals in the width direction.

さらに、これらのGGG基体12の一方主面には、それ
ぞれ、フェリ磁性基体としてのYIGi膜14膜形4さ
れる。なお、これらのYIG薄膜14は、それぞれ、た
とえば長さ20mm、幅1 am、厚さ113μmの大
きさに形成される。したがって、これらのYIG薄膜1
4は、幅方向に等間隔を隔てて配置されることになる。
Further, on one main surface of each of these GGG substrates 12, a YIGi film 14 as a ferrimagnetic substrate is formed. Note that each of these YIG thin films 14 is formed to have, for example, a length of 20 mm, a width of 1 am, and a thickness of 113 μm. Therefore, these YIG thin films 1
4 are arranged at equal intervals in the width direction.

この実施例におけるそれぞれのGGG基体12およびY
IG薄膜14は、たとえば、板状のGGG基板の一方主
面にYIGを液相エピタキシャル(L P E)成長さ
せたものを切断することによって形成される。
Each GGG substrate 12 and Y in this example
The IG thin film 14 is formed, for example, by growing YIG on one main surface of a plate-shaped GGG substrate by liquid phase epitaxial (LPE) and cutting it.

さらに、各YIG薄膜14の一端部を横切るよう−にし
て、入力用の平行ストリップトランスデユーサ16が設
けられる。この実施例では、トランスデユーサ16は、
幅方向に間隔を隔てて設けられるたとえば5つの細長い
ストリップライン16a、15a、  ・・を含み、こ
れらのストリップライン16aは、各’yMGil膜1
4の一方端部を横切るように配置される。
Further, a parallel strip transducer 16 for input is provided across one end of each YIG thin film 14. In this embodiment, the transducer 16 is
It includes, for example, five elongated strip lines 16a, 15a, . . . provided at intervals in the width direction, and these strip lines 16a each
4 is placed across one end of the 4.

同様に、たとえば5つのストリップライン18a、11
3a、  ・・を有する出力用の平行ストリップトラン
スデユーサ18が、各YIGI膜14の他端部を横切る
ようにして設けられる。
Similarly, for example, five strip lines 18a, 11
An output parallel strip transducer 18 having 3a, . . . is provided across the other end of each YIGI film 14.

この静磁波装置IOには、たとえばY I G薄膜14
の主面に直交する方向に、直流磁界が印加される。その
状態で、入力用のトランスデユーサ16に信号を入力す
れば、そのトランスデユーサ16のストリップライン1
6aから発生する電磁波などによって、体積前進静磁波
(MSFVW)が励起される。また、この体積前進静磁
波は、各YIG薄膜14上で出力用のトランスデユーサ
18側に伝搬される。そして、その体積前進静磁波は出
力用のトランスデユーサ18のストリップライン18a
で受信され、そのトランスデユーサ18から信号として
出力される。
This magnetostatic wave device IO includes, for example, a Y I G thin film 14.
A direct current magnetic field is applied in a direction perpendicular to the main surface of. In this state, if a signal is input to the input transducer 16, the strip line 1 of that transducer 16
A volumetric forward magnetostatic wave (MSFVW) is excited by electromagnetic waves generated from 6a. Further, this volumetric forward magnetostatic wave is propagated on each YIG thin film 14 toward the output transducer 18 side. Then, the volumetric forward magnetostatic wave is transmitted to the strip line 18a of the output transducer 18.
The signal is received by the transducer 18 and output as a signal.

この実施例では、YIG薄膜14の幅が狭いため、高次
モードの抑圧比が高められる。さらに、YIG薄膜14
の膜厚さが113μmと挿入損失を良好にするために十
分な厚みを有するので、低挿入損失となる。
In this embodiment, since the width of the YIG thin film 14 is narrow, the suppression ratio of higher-order modes is increased. Furthermore, YIG thin film 14
The film thickness is 113 μm, which is sufficient to improve insertion loss, resulting in low insertion loss.

しかも、この実施例では、複数のYIGI膜14膜設4
られているので、通過帯域幅も広くなる。
Moreover, in this embodiment, a plurality of 14 YIGI films 4
The passband width is also widened.

すなわち、この静磁波装置lOの周波数特性を第2図に
示し、この静磁波装置10と比べてYIG薄膜14が1
つしか設けられていない静磁波装置の周波数特性を第3
図に示すように、この静磁波装置lOでは、YIG薄膜
14が1つしか設けられていない静磁波装置と比べて、
その通過帯域の幅が広い。
That is, the frequency characteristics of this magnetostatic wave device 10 are shown in FIG. 2, and compared to this magnetostatic wave device 10, the YIG thin film 14
The frequency characteristics of the magnetostatic wave device, which is the only one installed, are
As shown in the figure, in this magnetostatic wave device 1O, compared to a magnetostatic wave device in which only one YIG thin film 14 is provided,
Its pass band is wide.

第4A図は第1A図および第1B図に示す実施例の変形
例を示す要部平面図であり、第4B図はその側面図であ
る。
FIG. 4A is a plan view of a main part showing a modification of the embodiment shown in FIGS. 1A and 1B, and FIG. 4B is a side view thereof.

この実施例では、第1A図および第1B図に示す実施例
と比べて、特に、5つのYIG薄膜14が1つの板状の
0005体12の一方主面に幅方向に等間隔を隔てて形
成されている。この実施例におけるYIG薄膜14は、
たとえば、GGG基体12の一方主面にYrGを成長さ
せたものをエツチングによって形成することができる。
In this embodiment, five YIG thin films 14 are formed on one main surface of one plate-shaped 0005 body 12 at equal intervals in the width direction, compared to the embodiment shown in FIGS. 1A and 1B. has been done. The YIG thin film 14 in this example is:
For example, YrG can be grown on one main surface of the GGG substrate 12 and formed by etching.

この実施例でも、第1A図および第1B図に示す実施例
と同様に、低挿入損失で高次モードの抑圧比が優れ通過
帯域幅が広い。
Similarly to the embodiments shown in FIGS. 1A and 1B, this embodiment also has a low insertion loss, an excellent suppression ratio of higher-order modes, and a wide passband width.

なお、上述の各実施例では、5つのYIG薄膜14の幅
が同じ寸法に形成されかつ各YIG薄膜14が等間隔を
隔てて配置されているが、各YIG薄膜14の幅は異な
る寸法に形成されてもよく、また、それらのYIG薄膜
14は異なった間隔を隔てて配置されてもよい。さらに
、YIG薄Jli14の数や厚みを任意に変更してもよ
い。
In each of the above embodiments, the five YIG thin films 14 are formed to have the same width and are arranged at equal intervals, but the widths of the YIG thin films 14 are formed to have different widths. The YIG thin films 14 may also be arranged at different intervals. Furthermore, the number and thickness of YIG thin Jli 14 may be changed arbitrarily.

また、上述の各実施例では、トランスデユーサとして平
行ストリップトランスデユーサを用いたが、この発明で
は、他の形状のトランスデユーサが用いられてもよい。
Further, in each of the above-described embodiments, parallel strip transducers are used as transducers, but transducers of other shapes may be used in the present invention.

さらに、YIGi膜14に印加する直流磁界の方向を、
任意に変更してもよい。たとえば、YIG薄膜14の主
面に平行でかつ静磁波の伝搬方向に対して直角な方向に
磁界を印加してもよい。この場合、YIG薄膜I4上に
は、表面静磁波(MSSW)が伝搬される。あるいは、
YIG薄膜14の主面と平行でかつ静磁波の伝搬方向と
平行な方向に磁界を印加してもよい。この場合、YIG
薄膜14には、体積後退静磁波(MSBVW)が伝搬さ
れる。
Furthermore, the direction of the DC magnetic field applied to the YIGi film 14 is
It may be changed arbitrarily. For example, a magnetic field may be applied in a direction parallel to the main surface of the YIG thin film 14 and perpendicular to the propagation direction of the magnetostatic wave. In this case, a surface magnetostatic wave (MSSW) is propagated on the YIG thin film I4. or,
A magnetic field may be applied in a direction parallel to the main surface of the YIG thin film 14 and parallel to the propagation direction of the magnetostatic waves. In this case, YIG
A volume-backward magnetostatic wave (MSBVW) is propagated through the thin film 14 .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1A図はこの発明の一実施例を示す要部平面図であり
、第1B図はその側面図である。 第2図は第1A図および第1B図に示す実施例の周波数
特性を示すグラフである。 第3図はYIG薄膜が1つしか設けられていない静磁波
装置の周波数特性を示すグラフである。 第4A図は第1A図および第1B図に示す実施例の変形
例を示す要部平面図であり、第4B図はその側面図であ
る。 図において、10は静磁波装置、14はYIG薄膜、1
6および18はトランスデユーサを示す。 第1A図
FIG. 1A is a plan view of essential parts showing an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a side view thereof. FIG. 2 is a graph showing the frequency characteristics of the embodiment shown in FIGS. 1A and 1B. FIG. 3 is a graph showing the frequency characteristics of a magnetostatic wave device provided with only one YIG thin film. FIG. 4A is a plan view of a main part showing a modification of the embodiment shown in FIGS. 1A and 1B, and FIG. 4B is a side view thereof. In the figure, 10 is a magnetostatic wave device, 14 is a YIG thin film, 1
6 and 18 indicate transducers. Figure 1A

Claims (1)

【特許請求の範囲】  それらの幅方向に間隔を隔てて設けられる複数の幅の
狭いフェリ磁性基体、および 前記複数のフェリ磁性基体を横切るようにして設けられ
る入出力用のトランスデューサを含む、静磁波装置。
[Claims] A magnetostatic wave comprising a plurality of narrow ferrimagnetic substrates provided at intervals in the width direction, and an input/output transducer provided across the plurality of ferrimagnetic substrates. Device.
JP26574589A 1989-10-11 1989-10-11 Magnetostatic wave device Pending JPH03126301A (en)

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