JPH03126643A - 熱線反射ガラスの製造方法及び塗布液 - Google Patents
熱線反射ガラスの製造方法及び塗布液Info
- Publication number
- JPH03126643A JPH03126643A JP26208789A JP26208789A JPH03126643A JP H03126643 A JPH03126643 A JP H03126643A JP 26208789 A JP26208789 A JP 26208789A JP 26208789 A JP26208789 A JP 26208789A JP H03126643 A JPH03126643 A JP H03126643A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- glass
- chelate compound
- compound
- acetylacetone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本、発明は熱線反射ガラスの製造方法及びその塗布液に
関するものである。
関するものである。
［従来の技術］
酸化チタン被膜の物性は塗布方法やガラスの温度等、作
業条件の他に、使用されるチタン化合物や溶剤の種類な
どによって大きく影響される。特にチタン化合物の種類
とその構造は酸化チタン被膜の物性に与える影響が強い
事が知られている。これらの点に配慮して、四塩化チタ
ンや無機チタンを用いる方法（例えば特開昭５６−１６
０３４４）、チタンアルコキシドを用いる方法（例えば
特開昭５６−１４５１３６）、チタンアシレートをモノ
マー又は縮合物、或いは混合した形で用いる方法（例え
ば特開昭６Ｏ−４０１７１）等が提案されている。しか
しこれらの方゛法では、処理工程中で腐蝕性ガスが発生
したり、処理液の安定性が小さく、塗布性が悪いと言う
欠陥が認められる。更に塗布時の付着効率が低いと塗膜
面にムラが残る又は／及び白斑状の塗布ムラが発生する
事や、形成された被膜の化学的安定性と光線反射率等の
光学特性が充分でない等の欠点があったと言う事は当業
者周知の事であった。これらの欠点を回避するため、塗
布方法や、塗布時の溶剤組成の改良で欠点を軽減する試
みと共に各種のキレート化合物を用いる方法も多く提案
されている。
業条件の他に、使用されるチタン化合物や溶剤の種類な
どによって大きく影響される。特にチタン化合物の種類
とその構造は酸化チタン被膜の物性に与える影響が強い
事が知られている。これらの点に配慮して、四塩化チタ
ンや無機チタンを用いる方法（例えば特開昭５６−１６
０３４４）、チタンアルコキシドを用いる方法（例えば
特開昭５６−１４５１３６）、チタンアシレートをモノ
マー又は縮合物、或いは混合した形で用いる方法（例え
ば特開昭６Ｏ−４０１７１）等が提案されている。しか
しこれらの方゛法では、処理工程中で腐蝕性ガスが発生
したり、処理液の安定性が小さく、塗布性が悪いと言う
欠陥が認められる。更に塗布時の付着効率が低いと塗膜
面にムラが残る又は／及び白斑状の塗布ムラが発生する
事や、形成された被膜の化学的安定性と光線反射率等の
光学特性が充分でない等の欠点があったと言う事は当業
者周知の事であった。これらの欠点を回避するため、塗
布方法や、塗布時の溶剤組成の改良で欠点を軽減する試
みと共に各種のキレート化合物を用いる方法も多く提案
されている。
［発明の解決しようとする課題］
従来の提案されている方法で使用されているキレート化
合物の配位子としてはアセチルアセトン、オクチレング
リコール、トルエタノールアミン、アセト酢酸エステル
等を用いた方法（例えば特装５４−３２００７）や特定
の構造のアルコキシチタンキレートを用いる方法（特装
５７−４７１３７）や２種以上のキレートを混合して使
用する方法（特装５６−１９２９８）を用いる方法等が
提案されている。これらのキレート化合物を用□いた方
法では、例えばアセチルアセトンキレートを用いた時、
付着効率は良いが被膜特性が不満足で′あり、オクチレ
ングリコールを用いた時は被膜特性はよいが塗布ムラや
白斑が発生し易く外観が悪く商品適性に欠けるという欠
点があった。
合物の配位子としてはアセチルアセトン、オクチレング
リコール、トルエタノールアミン、アセト酢酸エステル
等を用いた方法（例えば特装５４−３２００７）や特定
の構造のアルコキシチタンキレートを用いる方法（特装
５７−４７１３７）や２種以上のキレートを混合して使
用する方法（特装５６−１９２９８）を用いる方法等が
提案されている。これらのキレート化合物を用□いた方
法では、例えばアセチルアセトンキレートを用いた時、
付着効率は良いが被膜特性が不満足で′あり、オクチレ
ングリコールを用いた時は被膜特性はよいが塗布ムラや
白斑が発生し易く外観が悪く商品適性に欠けるという欠
点があった。
［課題を解決するための手段］
本発明は、ガラスにチタンキレート化合物を含む溶液を
スプレー塗布等で塗布して酸化チタン被膜を形成し熱線
反射ガラスを製造する方法においてガラスの変形が許容
範囲内に収まる温度域で処理出来て、反射特性、耐酸性
、耐アルカリ性、及び耐擦傷性が良く、白斑欠点や塗布
ムラがない商品価値の高い改良された酸化チタン被膜を
もつ熱線反射ガラスの製造法及びこれに用いる塗布液を
提供する事を目的とするものである。
スプレー塗布等で塗布して酸化チタン被膜を形成し熱線
反射ガラスを製造する方法においてガラスの変形が許容
範囲内に収まる温度域で処理出来て、反射特性、耐酸性
、耐アルカリ性、及び耐擦傷性が良く、白斑欠点や塗布
ムラがない商品価値の高い改良された酸化チタン被膜を
もつ熱線反射ガラスの製造法及びこれに用いる塗布液を
提供する事を目的とするものである。
即ち、本発明は高温のガラス表面にチタンキレート化合
物を含む溶液を塗布し、熱１分解させて、該表面に酸化
チタン被膜を形成させる方法において、上記チタンキレ
ート化合物としてアセチルアセトンとオクチレングリコ
ールをチタンに配位するキレート配位子とし、実質的に
Ｔｉ−ＯＲ基（Ｒは１価のアルキル基を示す）の残留が
なく、示差熱分析で、熱分解による最初のピークが３０
０℃以上の化合物を用いることを特徴とする熱線反射ガ
ラスの製造方法を提供するものである。
物を含む溶液を塗布し、熱１分解させて、該表面に酸化
チタン被膜を形成させる方法において、上記チタンキレ
ート化合物としてアセチルアセトンとオクチレングリコ
ールをチタンに配位するキレート配位子とし、実質的に
Ｔｉ−ＯＲ基（Ｒは１価のアルキル基を示す）の残留が
なく、示差熱分析で、熱分解による最初のピークが３０
０℃以上の化合物を用いることを特徴とする熱線反射ガ
ラスの製造方法を提供するものである。
本発明者は、酸化チタン被膜の形成、焼結過程と関連要
因を更に詳しく解析、研究し直した結果、■高温ガラス
にスプレーされたチタン化合物を含む溶液の液滴から溶
剤が脱離し易い分子構造をもったチタン化合物である事
、■スプレーされた液滴が高温のガラス表面で気液平衡
状態を形成し液相部分がガラス表面を濡らして塗膜を形
成、均一化して分解生成した酸化チタン膜に、気相状態
のチタン化合物が吸着拡散され分解して焼結され緻密な
酸化チタン被膜を形成する時、チタン化合物が高温のガ
ラス表面で気液平衡状態を維持出来る程度に高い熱分解
性を示す化合物である事が重要である事を見出した。
因を更に詳しく解析、研究し直した結果、■高温ガラス
にスプレーされたチタン化合物を含む溶液の液滴から溶
剤が脱離し易い分子構造をもったチタン化合物である事
、■スプレーされた液滴が高温のガラス表面で気液平衡
状態を形成し液相部分がガラス表面を濡らして塗膜を形
成、均一化して分解生成した酸化チタン膜に、気相状態
のチタン化合物が吸着拡散され分解して焼結され緻密な
酸化チタン被膜を形成する時、チタン化合物が高温のガ
ラス表面で気液平衡状態を維持出来る程度に高い熱分解
性を示す化合物である事が重要である事を見出した。
この様な分子構造と熱分解性を示すチタン化合物につい
て研究した結果、４価６配位のチタンの結合配位塵が安
定なキレート基で充足されている事。更に示差熱分析に
おいて熱分解温度を低下させるＴｉ−ＯＲ基を含まない
事。付着効率の点からアセチルアセトン基を含み又熱分
解温度の点からオクチレングリコール基をもつ、チタン
キレート化合物が好ましい事を解明した。
て研究した結果、４価６配位のチタンの結合配位塵が安
定なキレート基で充足されている事。更に示差熱分析に
おいて熱分解温度を低下させるＴｉ−ＯＲ基を含まない
事。付着効率の点からアセチルアセトン基を含み又熱分
解温度の点からオクチレングリコール基をもつ、チタン
キレート化合物が好ましい事を解明した。
この種の化合物は示差熱分析の標準的条件で分析した時
、熱分解温度は３００℃以上となる。
、熱分解温度は３００℃以上となる。
この化合物をスプレー法で塗布するため、炭化水素、エ
ステル等の通常的に使用される有機溶剤で、スプレーの
容易な温度に溶解し、通常４５０℃〜６５０℃に加熱さ
れた硝子にスプレーし、酸化チタン被膜を形成する方法
が本発明である。
ステル等の通常的に使用される有機溶剤で、スプレーの
容易な温度に溶解し、通常４５０℃〜６５０℃に加熱さ
れた硝子にスプレーし、酸化チタン被膜を形成する方法
が本発明である。
本発明に用いられるチタンキレート化合物は、チタンテ
トラアルコキシド、例えばチタンテトラエトキシド、チ
タンテトライソプロポキシド、チタンテトラｎ−プロポ
キシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ
−８ｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔブトキ
シド、チタンテトライソブトキシド、チタンテトラ−ｔ
ｅｒｔアミロキシド、チタンテトラ−ヘキソキシド、チ
タンテトラ−オクトキシド等のチタンテトラアルコキシ
ドやその混合物を単独又は混合して使用することが出来
る。特にキレート化反応を完結させる操作をし易い炭素
数４以下の低級アルコキシドが好ましい。
トラアルコキシド、例えばチタンテトラエトキシド、チ
タンテトライソプロポキシド、チタンテトラｎ−プロポ
キシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ
−８ｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔブトキ
シド、チタンテトライソブトキシド、チタンテトラ−ｔ
ｅｒｔアミロキシド、チタンテトラ−ヘキソキシド、チ
タンテトラ−オクトキシド等のチタンテトラアルコキシ
ドやその混合物を単独又は混合して使用することが出来
る。特にキレート化反応を完結させる操作をし易い炭素
数４以下の低級アルコキシドが好ましい。
キレート化反応はアセチルアセトンとオクチレングリコ
ールを少くとも合計で３モル量又はそれ以上とチタンア
ルコキシド１モル量を反応させ、Ｔｉ−ＯＲ基が配位子
で置換されるまで反応させて行なう事が出来る。この反
応は生成するアルコールを系外に除去しつつ行なうとか
、加水分解反応を併用する等の方法でも容易に行なう事
が出来る。生成されたキレート化合物がＴｉ−ＯＲ基を
実質的に残存しない事はＮＭＲ分析の他、標準的条件で
行なった示差熱分析による熱分解を示す最初のピークが
３００℃以上の高い温度を示す事によっても確認出来る
。
ールを少くとも合計で３モル量又はそれ以上とチタンア
ルコキシド１モル量を反応させ、Ｔｉ−ＯＲ基が配位子
で置換されるまで反応させて行なう事が出来る。この反
応は生成するアルコールを系外に除去しつつ行なうとか
、加水分解反応を併用する等の方法でも容易に行なう事
が出来る。生成されたキレート化合物がＴｉ−ＯＲ基を
実質的に残存しない事はＮＭＲ分析の他、標準的条件で
行なった示差熱分析による熱分解を示す最初のピークが
３００℃以上の高い温度を示す事によっても確認出来る
。
キレート化反応においてアセチルアセトンの比率が多く
なると塗布時の付着効率は良くなるが、形成された皮膜
の物性は好ましくないので、そのＴｉに配位するアセチ
ルアセトンの平均モル数は０．５〜２．５モルが望まし
い。オクチレングリコールのチタンに配位する平均モル
数が多いと熱分解温度は高くなるが、塗布作業時に白斑
が生成し易くなるのでその平均モル数は０．５〜２．５
である事が望ましい。
なると塗布時の付着効率は良くなるが、形成された皮膜
の物性は好ましくないので、そのＴｉに配位するアセチ
ルアセトンの平均モル数は０．５〜２．５モルが望まし
い。オクチレングリコールのチタンに配位する平均モル
数が多いと熱分解温度は高くなるが、塗布作業時に白斑
が生成し易くなるのでその平均モル数は０．５〜２．５
である事が望ましい。
その量は合計でのモル比がチタンアルコキシドから出発
した時には通常３で行なう事が望ましいが加水分解反応
を併用した時には３以下でも反応を行なうことが出来る
。又特に望むならば３以上のモル比で行なう事も出来る
。このようにして合成した化合物の１例を示せば、アセ
チルアセトンをＡＡ、オクチレングリコールをＯＧと表
すと、Ｔｉ （ＡＡ） ＋ （ＯＧ） ２． Ｔｉ （
ＡＡ） ｗ （ＯＧ）、Ｔｉ （ＡＡ） ＋、 ｓ （
ＯＧ） ＋６などが挙げられる。
した時には通常３で行なう事が望ましいが加水分解反応
を併用した時には３以下でも反応を行なうことが出来る
。又特に望むならば３以上のモル比で行なう事も出来る
。このようにして合成した化合物の１例を示せば、アセ
チルアセトンをＡＡ、オクチレングリコールをＯＧと表
すと、Ｔｉ （ＡＡ） ＋ （ＯＧ） ２． Ｔｉ （
ＡＡ） ｗ （ＯＧ）、Ｔｉ （ＡＡ） ＋、 ｓ （
ＯＧ） ＋６などが挙げられる。
スプレー塗布する時は、トルエン、キシレン、灯油、ｎ
−ヘキサン等の炭化水素やハロゲン化炭化水素類、ギ酸
メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のカルボン酸エステル類、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランの様なエーテル類、メタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノール等のアルコール類、トリエ
チルアミン、ブチルアミン、アニリン等のアミン類等を
単独又は２種以上混合してスプレー用溶液を調合して使
用する事が出来る。
−ヘキサン等の炭化水素やハロゲン化炭化水素類、ギ酸
メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のカルボン酸エステル類、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランの様なエーテル類、メタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノール等のアルコール類、トリエ
チルアミン、ブチルアミン、アニリン等のアミン類等を
単独又は２種以上混合してスプレー用溶液を調合して使
用する事が出来る。
溶液中のＴｉＯ２が２０％以上になると粘度が上昇して
スプレー作業に支障が出る。又ＴｉＯ２が０．１％以下
の時は所定の膜厚を得るために多量の溶液を塗布する必
要が生じ、作業効率が悪いだけでなく、ガラス温度の変
化による好ましくない影響も出るので、０．１％以上、
特に好ましくは０．２〜１０％の範囲にチタン化合物を
溶解させる事が望ましい。
スプレー作業に支障が出る。又ＴｉＯ２が０．１％以下
の時は所定の膜厚を得るために多量の溶液を塗布する必
要が生じ、作業効率が悪いだけでなく、ガラス温度の変
化による好ましくない影響も出るので、０．１％以上、
特に好ましくは０．２〜１０％の範囲にチタン化合物を
溶解させる事が望ましい。
本発明において、酸化チタン被膜の形成はガラスの温度
を６５０℃以上に上げるとガラスの変形が大きく、外観
上商品価値を害なう。又４５０℃以下では生成した酸化
チタン被膜の物性が著しく低下し好ましくないのでスプ
レー作業は４５０℃〜６５０℃の温度域で行なう事が望
ましい。
を６５０℃以上に上げるとガラスの変形が大きく、外観
上商品価値を害なう。又４５０℃以下では生成した酸化
チタン被膜の物性が著しく低下し好ましくないのでスプ
レー作業は４５０℃〜６５０℃の温度域で行なう事が望
ましい。
この方法をフロートガラス製造時のオンラインで適用す
る時には公知の方法例えば特装５Ｂ−１８５４７に記載
された様な方法で容易に適用出来る。オンラインで別途
ガラス板を加熱し、スプレーを行って本発明の熱線反射
ガラスの製造を行うことも出来ることは言うまでもない
ことである。
る時には公知の方法例えば特装５Ｂ−１８５４７に記載
された様な方法で容易に適用出来る。オンラインで別途
ガラス板を加熱し、スプレーを行って本発明の熱線反射
ガラスの製造を行うことも出来ることは言うまでもない
ことである。
本発明において、チタンキレート化合物を含む溶液の塗
布法としては、スプレー塗布法、ロールコータ−法、メ
ニスカスコーター法、浸漬引き上げ法、刷は塗り法等の
種々の塗布方法が使用できるが、生産性、均−性等の点
でスプレー塗布法が最も好ましい。
布法としては、スプレー塗布法、ロールコータ−法、メ
ニスカスコーター法、浸漬引き上げ法、刷は塗り法等の
種々の塗布方法が使用できるが、生産性、均−性等の点
でスプレー塗布法が最も好ましい。
［作用］
以上の様に酸化チタン膜形成剤として熱分解温度の高い
特定の化合物を用いて高温度のガラスに゛スプレー塗布
すると均一で色ムラが無く、耐酸性Ｊ耐アルカリ性が高
く、光線反射率の優れた熱線反射ガラスを得る事が出来
る。この形成され酸化チタン膜は緻密で硬度も高いので
処理されたガラスは同時に耐擦傷性にも優れているので
表面保護機能も有している。
特定の化合物を用いて高温度のガラスに゛スプレー塗布
すると均一で色ムラが無く、耐酸性Ｊ耐アルカリ性が高
く、光線反射率の優れた熱線反射ガラスを得る事が出来
る。この形成され酸化チタン膜は緻密で硬度も高いので
処理されたガラスは同時に耐擦傷性にも優れているので
表面保護機能も有している。
［実施例］
合成例−１
チタンテトライソプロポキシド２８４部（部は重量を示
す）にアセチルアセトン２００部とオクチレングリコー
ル１４７部を加えて、加熱撹拌しつつ、液温８０〜１０
０℃で２０分間反応したのち減圧処理してアルコールを
除去させ浅春橙色透明な粘稠酸体３８８部を得た。元素
分析の結果ＴｉＯ３含有量は２０．５％であった。
す）にアセチルアセトン２００部とオクチレングリコー
ル１４７部を加えて、加熱撹拌しつつ、液温８０〜１０
０℃で２０分間反応したのち減圧処理してアルコールを
除去させ浅春橙色透明な粘稠酸体３８８部を得た。元素
分析の結果ＴｉＯ３含有量は２０．５％であった。
’ ”Ｃ−ＮＭＲ分析の結果２６．２．１０２．５〜１
０４．１ｐｐｍ（以上アセチルアセトン） 、１２．４
．１４．２．１４．３゜１ ２３．５． ３３．４． ３７．９． ４８．０． ７
４．２ 〜７６、５゜８７．８〜８８．０ｐｐｍ （
以上オクチレングリコール）にチタン原子に直接配位し
た配位子のピークが観測され、Ｔｉ−０ＣＪｙの吸収は
認められず、又示差熱分析の結果は第１図の通りであり
、熱分解を示す最初のピークは３２５℃であり生成物は
Ｔｉ （ＡＡ） ｔ （ＯＧ） １と帰属出来る化合物
である事が判った。
０４．１ｐｐｍ（以上アセチルアセトン） 、１２．４
．１４．２．１４．３゜１ ２３．５． ３３．４． ３７．９． ４８．０． ７
４．２ 〜７６、５゜８７．８〜８８．０ｐｐｍ （
以上オクチレングリコール）にチタン原子に直接配位し
た配位子のピークが観測され、Ｔｉ−０ＣＪｙの吸収は
認められず、又示差熱分析の結果は第１図の通りであり
、熱分解を示す最初のピークは３２５℃であり生成物は
Ｔｉ （ＡＡ） ｔ （ＯＧ） １と帰属出来る化合物
である事が判った。
合成例−２
チタンテトライソプロポキシド２８８部にアセチルアセ
トン１００部とオクチレングリコール１４７部を加えて
液温８５〜９０℃で３０分還流し反応させた。これにキ
シレン２００部を加え、更に９部の水を加えたイソプロ
ピルアルコール５０部を加えて２０分同温で終了し淡黄
色透明溶液を得た。このキシレンアルコールを含む生成
物の示差熱分析の結果３２８℃の熱分解温度を示した。
トン１００部とオクチレングリコール１４７部を加えて
液温８５〜９０℃で３０分還流し反応させた。これにキ
シレン２００部を加え、更に９部の水を加えたイソプロ
ピルアルコール５０部を加えて２０分同温で終了し淡黄
色透明溶液を得た。このキシレンアルコールを含む生成
物の示差熱分析の結果３２８℃の熱分解温度を示した。
又脱溶物の分析の結果Ｔｉ−０ＣｓＨｙの吸収はなく、
元素分析の結果ＴｉＯｓは２６．８０％であり、（ＯＧ
） 、（ＡＡ） １Ｔｉ−０−Ｔｉ （ＯＧ） １（Ａ
Ａ） ｒと帰属出来た。
元素分析の結果ＴｉＯｓは２６．８０％であり、（ＯＧ
） 、（ＡＡ） １Ｔｉ−０−Ｔｉ （ＯＧ） １（Ａ
Ａ） ｒと帰属出来た。
２
合成例−３
合成例−１と同様にしてチタンテトラブトキシド３４０
部にアセチルアセトン１００部とオクチレングリジール
２８４部を反応させてＴｉＯ□含有量１８、１３％でＴ
ｉ （ＡＡ） １（ＯＧ） ＊に相当する浅春橙色透明
液体４３５部を得た。
部にアセチルアセトン１００部とオクチレングリジール
２８４部を反応させてＴｉＯ□含有量１８、１３％でＴ
ｉ （ＡＡ） １（ＯＧ） ＊に相当する浅春橙色透明
液体４３５部を得た。
合□成例−比較例
合成例−１と同様にしてチタンテトライソプロポキシド
２８４部にアセチルアセトン２００部を反応させてＴｉ
（ＡＡ）ａ（ＱＣ−Ｈｙ）ｇを得た。
２８４部にアセチルアセトン２００部を反応させてＴｉ
（ＡＡ）ａ（ＱＣ−Ｈｙ）ｇを得た。
実施例１〜３、比較例
■スプレー溶液の調整
合成例で合成したチタン化合物に酢酸エチルとキシレン
を容量比で１：１に混合したものを溶剤として使い、各
化合物をＴｉＯ□含有量１．５％になるように加えて溶
解しスプレー用溶液を調整した。
を容量比で１：１に混合したものを溶剤として使い、各
化合物をＴｉＯ□含有量１．５％になるように加えて溶
解しスプレー用溶液を調整した。
■スプレー作業
フロート法板ガラス製造装置のフロートバス出口におい
て５ｍ／分の速度で移動するリボン状ガラス（厚さ６ｍ
／ｍ）の上面に、該ガラスリボンの移動と直角方向に往
復運動するスプレーガンからスプレー溶液を空気圧５
ｋｇ／ｃｍ２で１．５ｊ２／分の液量でスプレー処理し
た。酸化チタン被膜の形成されたガラスリボンは所定の
徐冷を行なった後切断された。
て５ｍ／分の速度で移動するリボン状ガラス（厚さ６ｍ
／ｍ）の上面に、該ガラスリボンの移動と直角方向に往
復運動するスプレーガンからスプレー溶液を空気圧５
ｋｇ／ｃｍ２で１．５ｊ２／分の液量でスプレー処理し
た。酸化チタン被膜の形成されたガラスリボンは所定の
徐冷を行なった後切断された。
各種チタン化合物を用いて各種ガラスリボン温度で形成
された酸化チタン被膜付きガラス板についての特性試験
結果は（表−１）の通りであり、良好な特性が得られた
。
された酸化チタン被膜付きガラス板についての特性試験
結果は（表−１）の通りであり、良好な特性が得られた
。
（表−１）
注］ΔＴ％＝［試験後透過率−試験前透過率］耐 酸
性 ０．１規定シユウ酸に９０℃で２時間浸漬耐アルカ
リ性 ０．ｌ規定水産化ナトリウム溶液に９０℃で２時
間浸漬 耐擦傷性 テーパー試験（５００ｇ、 ７ＯＲＰＭ 、
３００回）外観評価 Ａ：問題なし Ｂ：若干問題あり Ｃ：問題あり ６ ５ ［発明の効果］ 本発明は高反射率、高耐薬品性の如き優れた効果を有し
、特にスプレー温度を最適化することにより、色ムラが
なくなるという効果も認められる。
性 ０．１規定シユウ酸に９０℃で２時間浸漬耐アルカ
リ性 ０．ｌ規定水産化ナトリウム溶液に９０℃で２時
間浸漬 耐擦傷性 テーパー試験（５００ｇ、 ７ＯＲＰＭ 、
３００回）外観評価 Ａ：問題なし Ｂ：若干問題あり Ｃ：問題あり ６ ５ ［発明の効果］ 本発明は高反射率、高耐薬品性の如き優れた効果を有し
、特にスプレー温度を最適化することにより、色ムラが
なくなるという効果も認められる。
又スプレー液のキレート効果が高いため経時変化に強い
スプレー液を得ることが出来る。
スプレー液を得ることが出来る。
第１図は実施例の合成例１における示差熱分析の結果で
ある。
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、高温のガラス表面にチタンキレート化合物を含む溶
液を塗布し、熱分解させて、該表面に酸化チタン被膜を
形成させる方法におい て、上記チタンキレート化合物としてアセチルアセトン
とオクチレングリコールをチタンに配位するキレート配
位子とし、実質的に Ｔｉ−ＯＲ基（Ｒは１価のアルキル基を示す）の残留が
なく、示差熱分析で、熱分解による最初のピークが３０
０℃以上の化合物を用いることを特徴とする熱線反射ガ
ラスの製造方法。 ２、チタンキレート化合物において、チタン１原子に配
位するアセチルアセトンの平均モル数をｎ、オクチレン
グリコールの平均モル数をｍとすると、ｎ＋ｍ≦３、０
．５≦ｎ≦２．５、０．５≦ｍ≦２．５である化合物で
あることを特徴とする請求項１記載の熱線反射ガラスの
製造方法。 ３、４５０〜６５０℃に加熱したガラス表面に、チタン
キレート化合物を含む溶液をスプレーして酸化チタン被
膜を形成させることを特徴とする請求項１記載の熱線反
射ガラスの製造 方法。 ４、アセチルアセトンとオクチレングリコールをチタン
に配位するキレート配位子とし、実質的にＴｉ−ＯＲ基
（Ｒは１価のアルキル基を示す）の残留がなく、示差熱
分析で、熱分解による最初のピークが３００℃以上であ
るチタンキレート化合物を含むことを特徴とする熱線反
射ガラスの製造用塗布液。 ５、チタン１原子に配位するアセチルアセトンの平均モ
ル数をｎ、オクチレングリコールの平均モル数をｍとす
ると、ｎ＋ｍ≦３、０．５≦ｎ≦２．５、０．５≦ｍ≦
２．５であるチタンキレート化合物を含むことを特徴と
する請求項４記載の熱線反射ガラスの製造用塗布液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1262087A JPH0725572B2 (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 | 熱線反射ガラスの製造方法及び塗布液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1262087A JPH0725572B2 (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 | 熱線反射ガラスの製造方法及び塗布液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03126643A true JPH03126643A (ja) | 1991-05-29 |
| JPH0725572B2 JPH0725572B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=17370850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1262087A Expired - Fee Related JPH0725572B2 (ja) | 1989-10-09 | 1989-10-09 | 熱線反射ガラスの製造方法及び塗布液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725572B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2702207A1 (fr) * | 1993-03-05 | 1994-09-09 | Glaverbel | Substrat en verre portant un revêtement formé par pyrolyse et procédé de formation d'un tel revêtement. |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54122321A (en) * | 1978-03-16 | 1979-09-21 | Central Glass Co Ltd | Production of heat beam reflecting glass |
| JPS5619298A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-23 | Sony Corp | Speaker diaphragm |
| JPS5747137A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-17 | Hitachi Heating Appliance Co Ltd | Microwave oven equipped with magnetic card reader |
-
1989
- 1989-10-09 JP JP1262087A patent/JPH0725572B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54122321A (en) * | 1978-03-16 | 1979-09-21 | Central Glass Co Ltd | Production of heat beam reflecting glass |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5730771A (en) * | 1993-03-05 | 1998-03-24 | Glaverbel | Method of manufacturing a corrosion resistant pyrolytically coated glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0725572B2 (ja) | 1995-03-22 |
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