JPH03127771A - チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 - Google Patents
チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法Info
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- JPH03127771A JPH03127771A JP26300289A JP26300289A JPH03127771A JP H03127771 A JPH03127771 A JP H03127771A JP 26300289 A JP26300289 A JP 26300289A JP 26300289 A JP26300289 A JP 26300289A JP H03127771 A JPH03127771 A JP H03127771A
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- acid ester
- substituted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C327/00—Thiocarboxylic acids
- C07C327/20—Esters of monothiocarboxylic acids
- C07C327/22—Esters of monothiocarboxylic acids having carbon atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、特に光学材料として有用であり、その他、塗
料、インク、接着剤及び感光性樹脂等に有用な重合性の
チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法に関す
るものである。
料、インク、接着剤及び感光性樹脂等に有用な重合性の
チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法に関す
るものである。
(従来技術〕
近年、無機ガラスに代わる合成樹脂については種々研究
されているが、無機ガラスに比べて合成樹脂、例えば、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネ−1〜の重合
体の屈折率は約1.50と71(い。
されているが、無機ガラスに比べて合成樹脂、例えば、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネ−1〜の重合
体の屈折率は約1.50と71(い。
この欠点を改良した高屈折率樹脂も種々提案されている
。例えば、ポリカーボネート、ポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は屈折率が約1
.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性に
欠け、着色するなどの問題がある。
。例えば、ポリカーボネート、ポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は屈折率が約1
.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性に
欠け、着色するなどの問題がある。
このため芳香環を有する架橋性の高屈折率樹脂用単量体
が、例えば、特開昭61−28901号公報や特開昭6
0−197711号公報などで提案されている。しかし
、上記の単量体を重合して得た高屈折率樹脂は、屈折率
が向上しているが、原料の単量体は1分子中に芳香環が
占める容積が大きく、そのため芳香環の特性である硬く
てもろい性質を示し、耐衝撃性に劣っている。
が、例えば、特開昭61−28901号公報や特開昭6
0−197711号公報などで提案されている。しかし
、上記の単量体を重合して得た高屈折率樹脂は、屈折率
が向上しているが、原料の単量体は1分子中に芳香環が
占める容積が大きく、そのため芳香環の特性である硬く
てもろい性質を示し、耐衝撃性に劣っている。
一方、耐衝撃性を向上させる方法としてポリエチレング
リコール(メタ)アクリレ−1−類のような一分子中に
オキシアルキレン基で構成された分子鎖の占める容積が
大きい単量体と共重合させる方法がある。また、特開平
1−115910号公報などにアルキレン基を含んだ重
合性単量体を主成分として用いた高屈折率樹脂が提案さ
れている。
リコール(メタ)アクリレ−1−類のような一分子中に
オキシアルキレン基で構成された分子鎖の占める容積が
大きい単量体と共重合させる方法がある。また、特開平
1−115910号公報などにアルキレン基を含んだ重
合性単量体を主成分として用いた高屈折率樹脂が提案さ
れている。
しかしながら、これらの単量体の場合、いずれもアルキ
レン基又はオキシアルキレン基で構成された分子鎖が長
くなるに従い、得られる重合体の耐衝撃性は向上するが
屈折率は低下する。
レン基又はオキシアルキレン基で構成された分子鎖が長
くなるに従い、得られる重合体の耐衝撃性は向上するが
屈折率は低下する。
そのため耐衝撃性に優れた高屈折率樹脂を得ることは困
難であった。
難であった。
(発明が解決しようとする課題)
本発明が解決しよう、l−する課題は、透明性、耐候性
及び耐衝撃性に優れた高屈折率樹脂を与える単量体を提
供することにある。
及び耐衝撃性に優れた高屈折率樹脂を与える単量体を提
供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究を重
ねた結果、特定の構造を有するチオカルボン酸エステル
化合物が前記の諸性質を具備した優れたものであること
を見い出し、本発明を完成するに至った。
ねた結果、特定の構造を有するチオカルボン酸エステル
化合物が前記の諸性質を具備した優れたものであること
を見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、−形式(1)
%式%(1)
で示されるチオカルボン酸エステル化合物である。
前記−形式(1)中、R2及びR3は、夫々同種又は異
種の水素原子又はアルキル基であればよいが、重合によ
り得られる重合体の光学材料への利用の硯点からは、水
素原子又はメチル基であることが好ましい。
種の水素原子又はアルキル基であればよいが、重合によ
り得られる重合体の光学材料への利用の硯点からは、水
素原子又はメチル基であることが好ましい。
前記−形式〔I〕中、R4は置換若しくは非置換のアル
キル基、置換若しくは非置換のアラルキル基又は置換若
しくは非置換のアリール基である。
キル基、置換若しくは非置換のアラルキル基又は置換若
しくは非置換のアリール基である。
上記のアルキル基としてはその炭素数に特に制限される
ものではないが、重合により得られる重合体の屈折率の
観点から炭素数1〜5であることが好ましい。例えば、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、j−プロピル基
、n−ブチル基、secブチル基、ter t−ブチル
基、rl−ペンチル基等が挙げられる。」−記のアラル
キル基としてはその炭素数に特に制限されるものではな
いが、重合して得られる重合体の屈折率の観点から炭素
数7〜10であることが好ましい。例えば、ペンシル基
、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等が挙ケられ
る。また、上記アリール基としては、その炭素数に特に
制限されるものではないが、上記と同様の理由により炭
素数6〜10であることが好ましい。例えば、フェニル
基、トリル基、キシリル基、す”ブチル基等が挙げられ
る。
ものではないが、重合により得られる重合体の屈折率の
観点から炭素数1〜5であることが好ましい。例えば、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、j−プロピル基
、n−ブチル基、secブチル基、ter t−ブチル
基、rl−ペンチル基等が挙げられる。」−記のアラル
キル基としてはその炭素数に特に制限されるものではな
いが、重合して得られる重合体の屈折率の観点から炭素
数7〜10であることが好ましい。例えば、ペンシル基
、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等が挙ケられ
る。また、上記アリール基としては、その炭素数に特に
制限されるものではないが、上記と同様の理由により炭
素数6〜10であることが好ましい。例えば、フェニル
基、トリル基、キシリル基、す”ブチル基等が挙げられ
る。
]二3己R4で示されるアルキル
びアリール基の置換基としては特に制限されず、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、フェニル基、
フェニルチオ基等を挙げることができる。置換アルキル
基、置換アラルキル基及び置換アリール基の代表的なも
のを例示すると、クロロメチル基、ブロモメチル基、ト
リクロロメチル基等のハロゲノアルキル基;クロロベン
ジル基、ブロモヘンシル基、クロロフェニルエチル基、
ブIコモフェニルコニチル ハロゲノアラルキル基;クロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、ジクロロフェニル基、ジブロモフェニル基等の
ハロゲノアリール基;メチルヂオヘンジル基、メチルチ
オフェニル基、ジ(メチルチオ)ヘンシル基、フェニル
チオヘンシル基、フェニルチオフェニル基、ビフェニル
基等を挙げることができる。
ン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、フェニル基、
フェニルチオ基等を挙げることができる。置換アルキル
基、置換アラルキル基及び置換アリール基の代表的なも
のを例示すると、クロロメチル基、ブロモメチル基、ト
リクロロメチル基等のハロゲノアルキル基;クロロベン
ジル基、ブロモヘンシル基、クロロフェニルエチル基、
ブIコモフェニルコニチル ハロゲノアラルキル基;クロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、ジクロロフェニル基、ジブロモフェニル基等の
ハロゲノアリール基;メチルヂオヘンジル基、メチルチ
オフェニル基、ジ(メチルチオ)ヘンシル基、フェニル
チオヘンシル基、フェニルチオフェニル基、ビフェニル
基等を挙げることができる。
また、上記−形式(1)中、mは2以上の整数であれば
よい。一般にはmの値が大きいほど一分子当りのイオウ
の含有率が増加するため、重合して得られる樹脂の屈折
率は増大するとともに耐衝撃性も向」二する。しかしな
がら、mを大きくしすぎると重合して得られる樹脂の耐
熱性がそこなわれる問題が生してくる。このため、得ら
れる樹脂の屈折率、耐衝撃性及び耐熱性を勘案するとm
は2〜6の範囲、特に2〜4の範囲で選択することが好
ましい。
よい。一般にはmの値が大きいほど一分子当りのイオウ
の含有率が増加するため、重合して得られる樹脂の屈折
率は増大するとともに耐衝撃性も向」二する。しかしな
がら、mを大きくしすぎると重合して得られる樹脂の耐
熱性がそこなわれる問題が生してくる。このため、得ら
れる樹脂の屈折率、耐衝撃性及び耐熱性を勘案するとm
は2〜6の範囲、特に2〜4の範囲で選択することが好
ましい。
本発明のチオカルボン酸エステル化合物を重合して得ら
れる重合体が高屈折率及び低分散であるためには、前記
−形式〔■]中のR4は置換又は非置換のアラルキル基
であることが好ましい。
れる重合体が高屈折率及び低分散であるためには、前記
−形式〔■]中のR4は置換又は非置換のアラルキル基
であることが好ましい。
本発明の前記−形式〔■〕で示されるチオカルボン酸エ
ステル化合物は、次の手段によって同定、確認すること
ができる。
ステル化合物は、次の手段によって同定、確認すること
ができる。
(ア)赤外吸収スペクトル(IR)を測定することによ
り、3150〜2800CT11引にCH結合に基づく
吸収、1650〜1620cm−’に末端2重結合に基
づく吸収、更に1660〜1690c++r’付近にチ
オエステル結合に基づくカルボニル基の強い吸収が観測
される。
り、3150〜2800CT11引にCH結合に基づく
吸収、1650〜1620cm−’に末端2重結合に基
づく吸収、更に1660〜1690c++r’付近にチ
オエステル結合に基づくカルボニル基の強い吸収が観測
される。
(イ)In−核磁気共鳴スペクトル(’H−NMR)を
測定することにより化合物を容易に同定することができ
る。特に−形式CI〕においてR1がメチル基の場合は
δ1. 9 ppm付近にメチル基に基づくピーク、及
び65.7と66、 1 ppm付近に末端のビーリデ
ンプロトンに基づくピークがそれぞれ3:1:1の割合
でメタクリル酸エステルに特有なパターンで認められる
。またR1が水素原子の場合は、65、6〜7 ppm
にアクリル酸エステルに特有なパターンで3個分の水素
が認められる。さらにチオエーテル鎖においてはイオウ
原子に結合した炭素原子上の水素が62. 9 ppm
付近にそれぞれの結合状態に応したパターンのピークを
示す。さらにR2及びR3のいずれかがメチル基の場合
、61. 1ppm付近に2重線が認められる。また、
R4がアラルキル基の場合はフェニル基に結合した炭素
原子」二の水素に基づくピークが認められる。例えば、
ヘンシル基の場合は63. 7 ppm付近に単一線が
認められ、その他の場合は62. 6 ppm付近にそ
れぞれ結合状態に応したパターンのピークを示す。また
、芳香族水素が存在する場合ば、δ7〜δ8.5ppm
にピークが認められ、脂肪族水素が存在すればδ1−6
2 ppmにピークが認められる。その他の水素原子が
存在すれば、その結合様式に応したスペクトルパターン
を示す。以上のような情報より容易に化合物の同定が可
能である。
測定することにより化合物を容易に同定することができ
る。特に−形式CI〕においてR1がメチル基の場合は
δ1. 9 ppm付近にメチル基に基づくピーク、及
び65.7と66、 1 ppm付近に末端のビーリデ
ンプロトンに基づくピークがそれぞれ3:1:1の割合
でメタクリル酸エステルに特有なパターンで認められる
。またR1が水素原子の場合は、65、6〜7 ppm
にアクリル酸エステルに特有なパターンで3個分の水素
が認められる。さらにチオエーテル鎖においてはイオウ
原子に結合した炭素原子上の水素が62. 9 ppm
付近にそれぞれの結合状態に応したパターンのピークを
示す。さらにR2及びR3のいずれかがメチル基の場合
、61. 1ppm付近に2重線が認められる。また、
R4がアラルキル基の場合はフェニル基に結合した炭素
原子」二の水素に基づくピークが認められる。例えば、
ヘンシル基の場合は63. 7 ppm付近に単一線が
認められ、その他の場合は62. 6 ppm付近にそ
れぞれ結合状態に応したパターンのピークを示す。また
、芳香族水素が存在する場合ば、δ7〜δ8.5ppm
にピークが認められ、脂肪族水素が存在すればδ1−6
2 ppmにピークが認められる。その他の水素原子が
存在すれば、その結合様式に応したスペクトルパターン
を示す。以上のような情報より容易に化合物の同定が可
能である。
(つ)元素分析によって炭素、水素、イオウの各重量%
を求め、さらに認知された各元素の重量%の和を100
から減じることによって酸素の重量%を算出することが
でき、該化合物の組成式を決定することができる。
を求め、さらに認知された各元素の重量%の和を100
から減じることによって酸素の重量%を算出することが
でき、該化合物の組成式を決定することができる。
一般式〔I〕で示されるチオカルボン酸エステル化合物
は、どのような方法により得ても良いが、一般には次に
述べる方法により製造される。
は、どのような方法により得ても良いが、一般には次に
述べる方法により製造される。
下記式〔■]
で示される化合物と、
下記式(III)
CIl□−CCR5(I’ll )
1
で示される化合物とを反応さ一部る方法である。
(ア)カルボン酸を用いる方法
一般式〔■]で示されろ化合物と一般式(IT)で示さ
れる化合物のうち、R5が水酸基であるカルボン酸とを
酸触媒の存在下脱水縮合させることにより、−形式〔I
]のチオカルボン酸エステル化合物を製造することがで
きる。両原料の仕込めモル比は必要に応して適宜決定す
ればよいが、通常、どちらか一方の化合物を過剰に使用
するのが一般的である。該反応において、触媒として使
用される酸は、塩酸、硫酸等の鉱酸、芳香族スルホン酸
等あるいは、フッ化ホウ素ニーテラー1・等のルイス酸
が挙げられる。
れる化合物のうち、R5が水酸基であるカルボン酸とを
酸触媒の存在下脱水縮合させることにより、−形式〔I
]のチオカルボン酸エステル化合物を製造することがで
きる。両原料の仕込めモル比は必要に応して適宜決定す
ればよいが、通常、どちらか一方の化合物を過剰に使用
するのが一般的である。該反応において、触媒として使
用される酸は、塩酸、硫酸等の鉱酸、芳香族スルホン酸
等あるいは、フッ化ホウ素ニーテラー1・等のルイス酸
が挙げられる。
1
本反応においては、水が副生ずるが、その反応は平衡反
応である為、一般にディーンースターク水分離器等を用
いたり、ソンクスレーの抽出器に無水硫酸すI・リウム
又はモレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて溶媒を還流
さ−Uたり、反応系内にN、N −ジシクロへキジル力
ルホシイミト等の脱水剤を共存させるなどして系内から
水を取除くことが好ましい。該溶媒としては、ヘンセン
、I−ルエン等の芳香族炭化水素やクロロポルム、ジク
ロロメタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。
応である為、一般にディーンースターク水分離器等を用
いたり、ソンクスレーの抽出器に無水硫酸すI・リウム
又はモレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて溶媒を還流
さ−Uたり、反応系内にN、N −ジシクロへキジル力
ルホシイミト等の脱水剤を共存させるなどして系内から
水を取除くことが好ましい。該溶媒としては、ヘンセン
、I−ルエン等の芳香族炭化水素やクロロポルム、ジク
ロロメタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。
反応温度は、溶媒の種類によって異なるが、般には、0
°C−120’cが好ましい。反応時間は、原料の種類
により一概に限定できないが、30分〜20時間、さら
に1時間から6時間の範囲から選択することが特に好ま
しい。反応系から目的生成物、即ち前記−形式(1)で
示される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公
知の方法を採用出来る。
°C−120’cが好ましい。反応時間は、原料の種類
により一概に限定できないが、30分〜20時間、さら
に1時間から6時間の範囲から選択することが特に好ま
しい。反応系から目的生成物、即ち前記−形式(1)で
示される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公
知の方法を採用出来る。
(イ)カルホン酸塩化物を用いる方法
−形式(n)で示される化合物と−・形式(In)2
で示される化合物のうち、R5が塩素原子であるカルボ
ン酸塩化物とを塩基の存在下、脱塩化水素させることに
より一般式(1)のチオカルボン酸エステル化合物を製
造することができる。両原料の仕込みモル比は、通常(
−形式〔■〕で示される化合物)/(−形式〔■]で示
される化合物)−〇、8〜1.5の範囲から選択すれば
よいが、当量用いることが特に好ましい。
ン酸塩化物とを塩基の存在下、脱塩化水素させることに
より一般式(1)のチオカルボン酸エステル化合物を製
造することができる。両原料の仕込みモル比は、通常(
−形式〔■〕で示される化合物)/(−形式〔■]で示
される化合物)−〇、8〜1.5の範囲から選択すれば
よいが、当量用いることが特に好ましい。
本反応においては塩化水素が副生ずる。一般にはこの塩
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共7?させたり、窒素ガス等の不活性ガス
を反応系に通したりすることが好ましい。
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共7?させたり、窒素ガス等の不活性ガス
を反応系に通したりすることが好ましい。
該塩化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公知の
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等の)・リアルキルアミン、ピリジン、
テトラメチル尿素、水酸化すトリウム、炭酸すトリウノ
、等が挙げられる。
ものを使用することができる。一般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等の)・リアルキルアミン、ピリジン、
テトラメチル尿素、水酸化すトリウム、炭酸すトリウノ
、等が挙げられる。
塩基の量はカルボン酸塩化物1モルに対して1モ3
ル以上用いることが好ましい。
本発明における前記反応に際しては、一般に有機溶媒を
用いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、・\アミン、トルエン、−1−シレン
、ヘキサン、ヘプタン、石油エテル、クロロホルム、塩
化メチレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水
素類あるいはノ\ロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテルi;
N、Nジメヂルボルムアミト、N、N −シエチルホル
ムアξド等のN、N−ジアルキルアミド頬;ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。
用いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、・\アミン、トルエン、−1−シレン
、ヘキサン、ヘプタン、石油エテル、クロロホルム、塩
化メチレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水
素類あるいはノ\ロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテルi;
N、Nジメヂルボルムアミト、N、N −シエチルホル
ムアξド等のN、N−ジアルキルアミド頬;ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。
前記反応における温度は広い範囲から選択出来、一般に
は−20°C〜100°C1好ましくは0°C〜50°
Cの範囲から選べばよい。反応時間は原料の種類によっ
ても違うが、通常5分〜24時間、好ましくは10分〜
4時間の範囲から選べはよい。
は−20°C〜100°C1好ましくは0°C〜50°
Cの範囲から選べばよい。反応時間は原料の種類によっ
ても違うが、通常5分〜24時間、好ましくは10分〜
4時間の範囲から選べはよい。
また反応中においては攪拌を行うのが好ましい。
反応系からl」的生成物、即ち前記−形式[1)で示さ
れる化合物を単離精製する方法は特に限定4 されず公知の方法が採用できる。
れる化合物を単離精製する方法は特に限定4 されず公知の方法が採用できる。
(つ)カルホン酸エステルを用いる方法−形式(IT)
で示される化合物と一般式〔■]で示される化合物のう
ち、R5が゛ノ′ル、X1キシ基であるカルボン酸エス
テルとを用いてエステル交換させる方法で、−形式(1
)のチオカルホン酸エステル化合物を製造することが出
来る。本反応においては、酸又は塩基を触媒として用い
るのが好ましい。触媒として好適に使用される酸を例示
すれば、硫酸、塩酸、p−トルエンスルボン酸等が挙げ
られ、塩基としては、水酸化すトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸すトリウム、炭酸水素すトリウム等の無機塩基
やす1〜リウムメトキシド又はカリウム−1−ブ1−キ
シド等のアルコキシド等が挙げられる。
で示される化合物と一般式〔■]で示される化合物のう
ち、R5が゛ノ′ル、X1キシ基であるカルボン酸エス
テルとを用いてエステル交換させる方法で、−形式(1
)のチオカルホン酸エステル化合物を製造することが出
来る。本反応においては、酸又は塩基を触媒として用い
るのが好ましい。触媒として好適に使用される酸を例示
すれば、硫酸、塩酸、p−トルエンスルボン酸等が挙げ
られ、塩基としては、水酸化すトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸すトリウム、炭酸水素すトリウム等の無機塩基
やす1〜リウムメトキシド又はカリウム−1−ブ1−キ
シド等のアルコキシド等が挙げられる。
本反応においてはアルコール(R2O)が生成する。
該反応は平衡反応である為、このアルコールを蒸留又は
共沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。こ
のため、原料の一般式(III)で示されるカルボン酸
エステルとしてR5が炭素数1〜5、5 特に炭素数1〜3のアルコキシ基を有するものを用いる
ことが好ましい。
共沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。こ
のため、原料の一般式(III)で示されるカルボン酸
エステルとしてR5が炭素数1〜5、5 特に炭素数1〜3のアルコキシ基を有するものを用いる
ことが好ましい。
本反応は−・般には無溶媒で行なわれるが、原料が固体
である場合には、副生ずるアルコールよりも沸点の高い
溶媒を用いるのが好ましい。
である場合には、副生ずるアルコールよりも沸点の高い
溶媒を用いるのが好ましい。
該溶媒として好適に使用されるものを例示すれば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
フェニル等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類、N、N−ジエチルホルムアミド、N、
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
フェニル等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類、N、N−ジエチルホルムアミド、N、
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
前記反応における温度は、副生ずるアルコールの種類に
よってちがうが、一般には副生ずるアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては撹
拌を行うののが好ましい。
よってちがうが、一般には副生ずるアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては撹
拌を行うののが好ましい。
反応系から目的生成物、すなわち前記−形式〔1〕で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。
本発明の前記−形式[Nで示されるチオカルボン酸エス
テル化合物は、屈折率が高く、透明性、耐候性及び耐衝
撃性に優れた重合体を与える。該化合物は単独で重合す
ることも可能であるが、共重合可能な他の単量体と共重
合させることが好ましい。特に、重合体の屈折率は高い
が耐衝撃性の低い芳香環を有する単量体と共重合させ、
屈折率を低下させずに耐衝撃性を改良するために本発明
のチオカルボン酸エステル化合物を用いることが好まし
い。上記の共重合可能な単量体の具体例を挙げると次の
とおりである。尚、以下の例示の中で、アクリレート及
びメタクリレ−1・を総称して(メタ)アクリレートと
記ず。
テル化合物は、屈折率が高く、透明性、耐候性及び耐衝
撃性に優れた重合体を与える。該化合物は単独で重合す
ることも可能であるが、共重合可能な他の単量体と共重
合させることが好ましい。特に、重合体の屈折率は高い
が耐衝撃性の低い芳香環を有する単量体と共重合させ、
屈折率を低下させずに耐衝撃性を改良するために本発明
のチオカルボン酸エステル化合物を用いることが好まし
い。上記の共重合可能な単量体の具体例を挙げると次の
とおりである。尚、以下の例示の中で、アクリレート及
びメタクリレ−1・を総称して(メタ)アクリレートと
記ず。
1官能性単量体としては、スチレン;ビニルトルエン、
メトキシスチレンなどのスチレン誘導体;り[10スチ
レン、ブl]モスチレン、ヨードスチレン、ジクロロフ
ェニル、ジプロモスチレン、トリクロロスチレン、トリ
ブロモスチレンなどの核ハフ 1コゲン置換スチレン頻;メチル(メタ)アクリレート
、フェニル(メタ)アクリレート、クロロフェニル(メ
タ)アクリレート、ブロモフェニル(メタ)アクリレー
ト、ジクロロフェニル(メタ)アクリレート、ジブロモ
フェニル(メタ)アクリレ−]・、メ1〜キジフェニル
(メタ)アクリレート、ヘンシル(メタ)アクリレ−I
・、クロロベンジル(メタ)アクリレート、ブロモヘン
シル(メタ)アクリレート、ジクロロヘンシル(メタ)
アクリレート、ジブロモヘンシル(メタ)アクリレート
、1− IJクロロヘンシル(メタ)アクリレ−1〜、
トリブロモヘンシル(メタ)アクリレ−1−、ペンタク
ロロヘンシル(メタ)アクリレート、ペンタクロロヘン
シル(メタ)アクリレート、フエノキシエヂル(メタ)
アクリレート、α−ナフチル(メタ)アクリレート、β
−ナフチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリ
レ−+4にl−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレ
ンなどのビニルナフタレン類:4 ヒ゛ニルヒフLニル
、ヒニルフ丁−ニルサルファイドなどである。
メトキシスチレンなどのスチレン誘導体;り[10スチ
レン、ブl]モスチレン、ヨードスチレン、ジクロロフ
ェニル、ジプロモスチレン、トリクロロスチレン、トリ
ブロモスチレンなどの核ハフ 1コゲン置換スチレン頻;メチル(メタ)アクリレート
、フェニル(メタ)アクリレート、クロロフェニル(メ
タ)アクリレート、ブロモフェニル(メタ)アクリレー
ト、ジクロロフェニル(メタ)アクリレート、ジブロモ
フェニル(メタ)アクリレ−]・、メ1〜キジフェニル
(メタ)アクリレート、ヘンシル(メタ)アクリレ−I
・、クロロベンジル(メタ)アクリレート、ブロモヘン
シル(メタ)アクリレート、ジクロロヘンシル(メタ)
アクリレート、ジブロモヘンシル(メタ)アクリレート
、1− IJクロロヘンシル(メタ)アクリレ−1〜、
トリブロモヘンシル(メタ)アクリレ−1−、ペンタク
ロロヘンシル(メタ)アクリレート、ペンタクロロヘン
シル(メタ)アクリレート、フエノキシエヂル(メタ)
アクリレート、α−ナフチル(メタ)アクリレート、β
−ナフチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリ
レ−+4にl−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレ
ンなどのビニルナフタレン類:4 ヒ゛ニルヒフLニル
、ヒニルフ丁−ニルサルファイドなどである。
8
2官能性単量体については、例えば、エチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(
メタ)アクリレート、1,4−ジ(メタ)アクリロイル
オキシヘンゼン、1.4−ジ1.3−シ(メタ)アクリ
ロイルオキシヘンゼン、ジ〔(メタ)アクリロイルオキ
シ−フェニル]メタン、テレフタール酸−ジ〔2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチル]、1.5−シ(メタ)
アクリロイルオキシナフタレン、2,2−ビス〔4−(
メタ)アクリロイルオキシフェニル]プロパン、2.2
−ビス[4−(メタ)アクリロイルオギシエトキシフェ
ニル〕プロパン、1,4−ジ(メタ)アクリロイルオキ
シ−2,3,5,6−チトラブロムヘンゼン、ジ(メタ
)アクリロイルオキシ−ジ(4クロロフエニル)メタン
、テトラフ1コムフタール酸−ジ〔2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル〕2.2−ビス〔4−(メタ)アク
リロイルオキシ3−クロルフェニル]プロパン、2.2
−ビス〔4(メタ)アクリロイルオキシエトキシ−3,
5ジブロムフエニル)プロパン、2,2−ビス(41つ (メタ)アクリロイルオキシ−3−フVJムフエニル〕
プロパン、2,2−ビス(1−(メタ)アクリロイルオ
キシ−3,5−ジブロムフェニル〕プロパン、L5−ジ
(メタ)アクリロイルオキシ−2,46,8−テトラク
ロルナフタレン、■、5−ジ(メタ)アクリロイルオキ
シエI・キシ−2,4,6,8−テトラブロムナフタレ
ンなどのシ(メタ)アクリレート類;ジアリルフタレー
ト、ジアリルテレフタレー)・、ジアリルイソフクレ−
1・などのジアリル化合物;ジビニルヘンゼンなどのジ
ビニル化合物などである。これらの単量体は−・種又は
二種以上混合して使用できる。
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(
メタ)アクリレート、1,4−ジ(メタ)アクリロイル
オキシヘンゼン、1.4−ジ1.3−シ(メタ)アクリ
ロイルオキシヘンゼン、ジ〔(メタ)アクリロイルオキ
シ−フェニル]メタン、テレフタール酸−ジ〔2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチル]、1.5−シ(メタ)
アクリロイルオキシナフタレン、2,2−ビス〔4−(
メタ)アクリロイルオキシフェニル]プロパン、2.2
−ビス[4−(メタ)アクリロイルオギシエトキシフェ
ニル〕プロパン、1,4−ジ(メタ)アクリロイルオキ
シ−2,3,5,6−チトラブロムヘンゼン、ジ(メタ
)アクリロイルオキシ−ジ(4クロロフエニル)メタン
、テトラフ1コムフタール酸−ジ〔2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル〕2.2−ビス〔4−(メタ)アク
リロイルオキシ3−クロルフェニル]プロパン、2.2
−ビス〔4(メタ)アクリロイルオキシエトキシ−3,
5ジブロムフエニル)プロパン、2,2−ビス(41つ (メタ)アクリロイルオキシ−3−フVJムフエニル〕
プロパン、2,2−ビス(1−(メタ)アクリロイルオ
キシ−3,5−ジブロムフェニル〕プロパン、L5−ジ
(メタ)アクリロイルオキシ−2,46,8−テトラク
ロルナフタレン、■、5−ジ(メタ)アクリロイルオキ
シエI・キシ−2,4,6,8−テトラブロムナフタレ
ンなどのシ(メタ)アクリレート類;ジアリルフタレー
ト、ジアリルテレフタレー)・、ジアリルイソフクレ−
1・などのジアリル化合物;ジビニルヘンゼンなどのジ
ビニル化合物などである。これらの単量体は−・種又は
二種以上混合して使用できる。
上記した共重合可能な単量体と一般式〔■〕で示される
チオカルボン酸エステル化合物との混合割合は広い範囲
から採用される。一般には、共重合可能な単量体の諸性
質を大きく損うことなく、耐衝撃性を向上させる混合割
合が好ましく、従って、本発明のチオカルボン酸エステ
ル化合物を全単量体組成物中に0.5〜25重量%、さ
らに1〜20重景%重量囲で添加するのが好ましい。
チオカルボン酸エステル化合物との混合割合は広い範囲
から採用される。一般には、共重合可能な単量体の諸性
質を大きく損うことなく、耐衝撃性を向上させる混合割
合が好ましく、従って、本発明のチオカルボン酸エステ
ル化合物を全単量体組成物中に0.5〜25重量%、さ
らに1〜20重景%重量囲で添加するのが好ましい。
0
なお、本発明のチオカルボン酸エステルの単独重合又は
上記した共重合可能な単量体のうち重合性基が1つであ
る単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は熱可
塑性樹脂である。このため特に樹脂が玉摺り加工などを
必要とする用途に用いる場合には、共重合可能な単量体
として重合性基を2つ以上有する単量体を用いて共重合
させることが好ましい。
上記した共重合可能な単量体のうち重合性基が1つであ
る単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は熱可
塑性樹脂である。このため特に樹脂が玉摺り加工などを
必要とする用途に用いる場合には、共重合可能な単量体
として重合性基を2つ以上有する単量体を用いて共重合
させることが好ましい。
一般式(1)のチオカルボン酸エステル化合物単独又は
共重合可能な他の単量体を含む単量体組成物から重合体
を得る重合方法は特に限定的でなく、公知のラジカル重
合方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物
やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラスI・マーガスケットまたはスペーサーで保持され
ているモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の
単量体又は単量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させ
た後、取出す注型重合が採用さ1 れる。
共重合可能な他の単量体を含む単量体組成物から重合体
を得る重合方法は特に限定的でなく、公知のラジカル重
合方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物
やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラスI・マーガスケットまたはスペーサーで保持され
ているモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の
単量体又は単量体組成物を注入し、空気炉中で硬化させ
た後、取出す注型重合が採用さ1 れる。
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知の
ものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ヘン
ゾイルパーオキザイド、p−クロロヘンヅイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;Lブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネー
ト、Lブチルパーオキシネオデカネート、クミルパーオ
キシネオデカネート、t−ブチルパーオキシベンゾエー
ト等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキシ
ジカーボネート、ジー2−エチルへキシルパーオキシジ
カーボネート、ジーsecブチルパーオキシジカーボネ
ート等のバーカーボネート;アゾビスイソブチロニトリ
ル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始剤の使用
量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体の組成に
よって異なり、−概に限定できないが、一般には、全単
量体100重量部に対して0.01〜10重量部、好ま
しくは0.01〜5重量部の範囲で用いる2 のがりr適である。
ものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ヘン
ゾイルパーオキザイド、p−クロロヘンヅイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;Lブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネー
ト、Lブチルパーオキシネオデカネート、クミルパーオ
キシネオデカネート、t−ブチルパーオキシベンゾエー
ト等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキシ
ジカーボネート、ジー2−エチルへキシルパーオキシジ
カーボネート、ジーsecブチルパーオキシジカーボネ
ート等のバーカーボネート;アゾビスイソブチロニトリ
ル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始剤の使用
量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体の組成に
よって異なり、−概に限定できないが、一般には、全単
量体100重量部に対して0.01〜10重量部、好ま
しくは0.01〜5重量部の範囲で用いる2 のがりr適である。
重合条件のうち、特に温度は得られる高屈折率樹脂の性
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体の種類によって影響を受けるので、−・概に限
定はできないが、−殻内に比較的低温下で重合を開始し
、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高温下に
硬化させる所謂テーバ型の2段重合を行うのが好適であ
る。重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なる
ので、予めこれらの条件に応した最適の時間を決定する
のが好適であるが、−・般に2〜40時間で重合が完結
するように条件を選ふのが好ましい。
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体の種類によって影響を受けるので、−・概に限
定はできないが、−殻内に比較的低温下で重合を開始し
、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高温下に
硬化させる所謂テーバ型の2段重合を行うのが好適であ
る。重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なる
ので、予めこれらの条件に応した最適の時間を決定する
のが好適であるが、−・般に2〜40時間で重合が完結
するように条件を選ふのが好ましい。
勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応して選択して使用
することが出来る。
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応して選択して使用
することが出来る。
また、本発明のチオカルボン酸エステル化合物は、分子
中の重合性基が1つであるので、予備重合を行ないプレ
ポリマーを得た後、重合成型を行うことや、ペレットに
重合した後、射出成型や押3 出成型等の方法を用いて所望の光学利料に成型加工する
ことも可能である。
中の重合性基が1つであるので、予備重合を行ないプレ
ポリマーを得た後、重合成型を行うことや、ペレットに
重合した後、射出成型や押3 出成型等の方法を用いて所望の光学利料に成型加工する
ことも可能である。
前記のプレポリマーやベレットを得る方法は、公知の重
合方法が採用できる。即ち、塊状重合、溶液重合、乳化
重合、懸濁重合、沈澱重合等の方法を適用することがで
きる。
合方法が採用できる。即ち、塊状重合、溶液重合、乳化
重合、懸濁重合、沈澱重合等の方法を適用することがで
きる。
さらに、」二記の方法で得られる高屈折率樹脂は、その
用途に応して以下のような処理を施すことも出来る。即
ち、分散染料などの染料を用いる染色、シランカンプリ
ング剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニ
ウム等の酸化物のゾルを主成分とするハートコート剤や
、イイ機高分子体を主成分とするハート−]−1〜剤に
よるハードコーティング処理や、5iOz + TiO
□、 ZrO等の金属酸化物の薄膜の華着や有機高分子
体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等
の加工及び2次処理を施すことも可能である。
用途に応して以下のような処理を施すことも出来る。即
ち、分散染料などの染料を用いる染色、シランカンプリ
ング剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニ
ウム等の酸化物のゾルを主成分とするハートコート剤や
、イイ機高分子体を主成分とするハート−]−1〜剤に
よるハードコーティング処理や、5iOz + TiO
□、 ZrO等の金属酸化物の薄膜の華着や有機高分子
体の薄膜の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等
の加工及び2次処理を施すことも可能である。
(効 果)
本発明のチオカルボン酸エステル化合物を重合して得ら
れる重合体は屈折率が高く、透明性、剛4 候性及び耐衝撃性に優れている。このため、本発明のチ
オカルボン酸エステル化合物の単独重合体又は該化合物
と共重合可能な単量体との共重合により得られる高屈折
率樹脂は、有機ガラスとして有用であり、例えば、メガ
ネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズとして最適で
あり、さらにプリズム、光デイスク基板、光ファイバー
等の用途に好適に使用することができる。
れる重合体は屈折率が高く、透明性、剛4 候性及び耐衝撃性に優れている。このため、本発明のチ
オカルボン酸エステル化合物の単独重合体又は該化合物
と共重合可能な単量体との共重合により得られる高屈折
率樹脂は、有機ガラスとして有用であり、例えば、メガ
ネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズとして最適で
あり、さらにプリズム、光デイスク基板、光ファイバー
等の用途に好適に使用することができる。
以下、本発明を具体的に説明するために、実施例を挙げ
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
なお、本発明で得られたチオカルボン酸エステル化合物
の同定は下記の分析方法によって実施した。
の同定は下記の分析方法によって実施した。
(])IRスペクI・ル
品性製作所(株)製 I R−440型を用い、試料を
KBr板にはさめ、薄膜の状態で測定した。
KBr板にはさめ、薄膜の状態で測定した。
(2)’H−NMRスペクトル
[]木電了(株)製 P M X−6(l S I型(
605 Mllz)を用い、試料をCDC忍3に希釈し、テトラ
メチルシランを内部標準として測定した。
605 Mllz)を用い、試料をCDC忍3に希釈し、テトラ
メチルシランを内部標準として測定した。
(3)元素分析
(株)柳本製作所製 CI−I Nコーグ MT2型を
用い、炭素及び水素の分析を、イオウについてはフラス
コ燃焼法を用いて測定を行った。
用い、炭素及び水素の分析を、イオウについてはフラス
コ燃焼法を用いて測定を行った。
(4)屈折率(η、2°)
アタゴ(株)製 アンへ屈折計(3T型)を用い、20
°Cの屈折率を測定した。
°Cの屈折率を測定した。
また、実施例において得られた高屈折率樹脂は、下記の
試験法によって諸物性を測定した。
試験法によって諸物性を測定した。
(1)屈折率(η 20)、アラへ数(ν)アクゴ(株
)製 アノへ屈折計(3T型)を用いて20’Cにおり
る屈折率及びアノへ数を測定した。接触液には、ブロモ
ナフタリンを使用した。
)製 アノへ屈折計(3T型)を用いて20’Cにおり
る屈折率及びアノへ数を測定した。接触液には、ブロモ
ナフタリンを使用した。
(2)外観
目視により判定した。
(3)耐候性
スガ試験機(株)製 ロングライフキセノン6
7、−トメ−ター (FAC−25AX−HC型)中に
試料を設置し、100時間キセノン光を露光した後、試
料の着色の程度を目視で観察し、ポリスチレンに比べ着
色の程度の低いものをO1同等のものを△、高いものを
×で評価した。
試料を設置し、100時間キセノン光を露光した後、試
料の着色の程度を目視で観察し、ポリスチレンに比べ着
色の程度の低いものをO1同等のものを△、高いものを
×で評価した。
(4)耐衝撃性
厚さ2mm、直径65mmの円板状の試料板に127c
mの高さから所定重量の鋼球を自然落下させ、該試料板
が破損しない限界の鋼球の重さを測定した。その結果を
第1表に示す基準に従って、Δ〜Eの評価を行った。
mの高さから所定重量の鋼球を自然落下させ、該試料板
が破損しない限界の鋼球の重さを測定した。その結果を
第1表に示す基準に従って、Δ〜Eの評価を行った。
第1表
7
尚、以下の実施例で使用した共重合可能な単量体は下記
の記号で表わした。但し、[]内は単独重合体の屈折率
である。
の記号で表わした。但し、[]内は単独重合体の屈折率
である。
St;スチレン[1,590)
cpst ;クロロスチレン(O体1m体混合物)(
1,610) DVB ;ジビニルヘンゼア (1,615)B
洲^ ;ヘンシルメタクリレ−1−(1,568)C
ffBzM八;モノクlコロヘンシルメタクリレ−1・
(1,582) BMIEPP ;2,2−ビス(4−メタクリロイ
ルオキシエトキシフェニル)プロパン [1,558] Br4・BMEPP ; 2.2−ヒス(4−メタ
クリロイルオキシ上1〜キシ−3,5−ジブロモフェニ
ル)プロパン(1,604) DATP 、ジアリルテレフクレ−1−[1,57
2)また、表中/Fはビニル基、)−はイソプロペニル
基である。
1,610) DVB ;ジビニルヘンゼア (1,615)B
洲^ ;ヘンシルメタクリレ−1−(1,568)C
ffBzM八;モノクlコロヘンシルメタクリレ−1・
(1,582) BMIEPP ;2,2−ビス(4−メタクリロイ
ルオキシエトキシフェニル)プロパン [1,558] Br4・BMEPP ; 2.2−ヒス(4−メタ
クリロイルオキシ上1〜キシ−3,5−ジブロモフェニ
ル)プロパン(1,604) DATP 、ジアリルテレフクレ−1−[1,57
2)また、表中/Fはビニル基、)−はイソプロペニル
基である。
8
実施例1
温度計、攪拌機及び滴下ロー1へを付けた3つロフラス
コにジ(2−メルカプ ドモノヘンシルチオエーテル24.4g(0.10mo
ff)とトリエチルアミン1 1.1 g (0.1
1mo℃)と無水クロロホルム100mp.を仕込み、
0°Cに冷却した。攪拌しなからメタクリル酸クロライ
ド1 2、 6 g (0. 1 2moff)を徐々
に滴下した。コノ際、反応温度を0〜5°Cに保ち、滴
下終了後さらに20’Cで1時間攪拌した。その後、反
応混合物を水にあけ、希炭酸す1〜リウム水溶液で有機
層を洗浄した後、水洗を行なった。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。
コにジ(2−メルカプ ドモノヘンシルチオエーテル24.4g(0.10mo
ff)とトリエチルアミン1 1.1 g (0.1
1mo℃)と無水クロロホルム100mp.を仕込み、
0°Cに冷却した。攪拌しなからメタクリル酸クロライ
ド1 2、 6 g (0. 1 2moff)を徐々
に滴下した。コノ際、反応温度を0〜5°Cに保ち、滴
下終了後さらに20’Cで1時間攪拌した。その後、反
応混合物を水にあけ、希炭酸す1〜リウム水溶液で有機
層を洗浄した後、水洗を行なった。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。
得られた油状物型カラムクロマトグラフィー(充填剤;
シリカゲル、展開剤;クロロホルム)で精製し、目的の
チオメタクリル酸ヘンシルチオエチル千オニチルを無色
透明粘稠液体として1 8. 5 g得た。このものの
屈折率は1.605であった。このもののIRチャー1
・を第1図に示す。1670c++r’に強いカルホニ
ル基、1640cm−’に末端二重結合に基9 づく吸収が認められた。
シリカゲル、展開剤;クロロホルム)で精製し、目的の
チオメタクリル酸ヘンシルチオエチル千オニチルを無色
透明粘稠液体として1 8. 5 g得た。このものの
屈折率は1.605であった。このもののIRチャー1
・を第1図に示す。1670c++r’に強いカルホニ
ル基、1640cm−’に末端二重結合に基9 づく吸収が認められた。
また’+1−NMR (CD Cj2.溶媒中、テトラ
メチルシラン基準、ppm )のチャートを第2図に示
した。61.93にメチル基の水素(C)に由来する3
個分のピークが結合定数211zの二重線として、62
、4〜3.3にメチレンの水素(d)、 (e)。
メチルシラン基準、ppm )のチャートを第2図に示
した。61.93にメチル基の水素(C)に由来する3
個分のピークが結合定数211zの二重線として、62
、4〜3.3にメチレンの水素(d)、 (e)。
(f)、 (g)に由来する8個分のピークが多重線
として、63.7にベンジル位の水素(11)に由来す
る2個分のピークが単一線として、65.6付近にビニ
ル基の水素(a)に由来する1個分のピークが多重線と
して、66、1付近にビニル基の水素(b)に由来する
1個分のピークが多重線として、67、1付近にフェニ
ル基の水素(i)に由来する5個分のピークが多重線と
してそれぞれ観測された。
として、63.7にベンジル位の水素(11)に由来す
る2個分のピークが単一線として、65.6付近にビニ
ル基の水素(a)に由来する1個分のピークが多重線と
して、66、1付近にビニル基の水素(b)に由来する
1個分のピークが多重線として、67、1付近にフェニ
ル基の水素(i)に由来する5個分のピークが多重線と
してそれぞれ観測された。
(i)
0
また、元素分析値(()内は計算値である。)は、C;
57.62%(57,65%) 、H; 6.40%
(6,45%) 、S ; 30.82%(30,78
%)であり、計算値とよく一致した。
57.62%(57,65%) 、H; 6.40%
(6,45%) 、S ; 30.82%(30,78
%)であり、計算値とよく一致した。
実施例2
温度計、攪拌機及び滴下ロートを付けた3つロフラスコ
にジ(2−メルカプトエチル)スルフィドモノベンジル
チオエーテル2.30g(0,1Ornol) とト
リエチルアくン11.1 g (0,11moj2)と
無水クロロホルム100 m/2を仕込み、0°Cに冷
却した。攪拌しながらメタクリル酸クロライド12、6
g (0,12moI!、)を徐々に滴下した。この
際、反応温度を0〜5°Cに保ち、滴下終了後さらに2
0°Cで1時間攪拌した。その後、反応混合物を水にあ
け、希炭酸ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、水
洗を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下留去した。得られた油状物をカラムクロマ
トグラフィー(充填剤;シリカゲル、展開剤;クロロホ
ルム)で精Wし、目的のチオメタクリル酸フェニルチオ
エチル1 チオエチルを無色透明粘稠液体として16.7 g得た
。このものの屈折率は1.609であった。また、元素
分析値(()内は計算値である。)は、C; 56.2
9%(56,33%)、I(;6.04%(6,08%
) 、S i 32.29%(32,23%)であり、
計算値とよく一致した。
にジ(2−メルカプトエチル)スルフィドモノベンジル
チオエーテル2.30g(0,1Ornol) とト
リエチルアくン11.1 g (0,11moj2)と
無水クロロホルム100 m/2を仕込み、0°Cに冷
却した。攪拌しながらメタクリル酸クロライド12、6
g (0,12moI!、)を徐々に滴下した。この
際、反応温度を0〜5°Cに保ち、滴下終了後さらに2
0°Cで1時間攪拌した。その後、反応混合物を水にあ
け、希炭酸ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、水
洗を行った。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下留去した。得られた油状物をカラムクロマ
トグラフィー(充填剤;シリカゲル、展開剤;クロロホ
ルム)で精Wし、目的のチオメタクリル酸フェニルチオ
エチル1 チオエチルを無色透明粘稠液体として16.7 g得た
。このものの屈折率は1.609であった。また、元素
分析値(()内は計算値である。)は、C; 56.2
9%(56,33%)、I(;6.04%(6,08%
) 、S i 32.29%(32,23%)であり、
計算値とよく一致した。
実施例3
温度計、攪拌機及び滴下ロートを付けた3つロフラスコ
にジ(2−メルカプトエチル)スルフィドモノヘンジ/
L/I−チル24.4 g (0,1moA)とピリジ
ン8.7g (0,11moffi)と無水ベンゼン2
00+nf!を仕込みO′Cに冷却した。攪拌しながら
アクリル酸クロライド10.0 g (0,11mon
)を徐々に滴下した。この際、反応温度を0〜5°Cに
保ち、滴下終了後さらに20゛Cで1時間攪拌した。そ
の後、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水溶液
で有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた油
状物をカラムクロマトグラフィー(充填剤;シリカゲル
、展開剤;クロ2 0ホルム)で精製し、目的のチオアクリル酸ベンジルチ
オエチルチオエチルを無色透明粘稠液体として15.4
g得た。このものの屈折率は1.610であった。ま
た、元素分析値(()内は計算値である。)は、C、5
6,39%(56,33%)、H;6.02%(6,0
8%) 、S ; 32.20%(32,23%)であ
り、計算値とよく一致した。
にジ(2−メルカプトエチル)スルフィドモノヘンジ/
L/I−チル24.4 g (0,1moA)とピリジ
ン8.7g (0,11moffi)と無水ベンゼン2
00+nf!を仕込みO′Cに冷却した。攪拌しながら
アクリル酸クロライド10.0 g (0,11mon
)を徐々に滴下した。この際、反応温度を0〜5°Cに
保ち、滴下終了後さらに20゛Cで1時間攪拌した。そ
の後、反応混合物を水にあけ、希炭酸ナトリウム水溶液
で有機層を洗浄した後、水洗を行った。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた油
状物をカラムクロマトグラフィー(充填剤;シリカゲル
、展開剤;クロ2 0ホルム)で精製し、目的のチオアクリル酸ベンジルチ
オエチルチオエチルを無色透明粘稠液体として15.4
g得た。このものの屈折率は1.610であった。ま
た、元素分析値(()内は計算値である。)は、C、5
6,39%(56,33%)、H;6.02%(6,0
8%) 、S ; 32.20%(32,23%)であ
り、計算値とよく一致した。
実施例4〜17
種々の原料を用いて実施例1と全く同様にして第2表に
示したチオカルボン酸エステル化合物を得た。得られた
チオカルボン酸エステル化合物の性質を第2表に併記し
た。
示したチオカルボン酸エステル化合物を得た。得られた
チオカルボン酸エステル化合物の性質を第2表に併記し
た。
3
実施例18
実施例1〜I7で製造したチオカルボン酸エステル化合
物100重量部に対してラジカル重合開始剤としてL−
ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート1重量部を
添加してよく混合した。この混合液をガラス板とエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで構成さ
れた鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合は、空
気炉を用い、30°Cから90°Cで18時間かけ、徐
々に温度を上げて行き、90°Cに2時間保持した。重
合終了後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、重合体を
鋳型のガラスからとりはずした。えられた重合体の諸物
性を測定して第3表に示した。
物100重量部に対してラジカル重合開始剤としてL−
ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート1重量部を
添加してよく混合した。この混合液をガラス板とエチレ
ン−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで構成さ
れた鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合は、空
気炉を用い、30°Cから90°Cで18時間かけ、徐
々に温度を上げて行き、90°Cに2時間保持した。重
合終了後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、重合体を
鋳型のガラスからとりはずした。えられた重合体の諸物
性を測定して第3表に示した。
6
第
表
7
実施例18〜21
スチレン100重量部に対しチオメタクリル酸ベンジル
チオエチルチオエチルを第2表に示す重量部添加し、更
にこの混合液に対してラジカル重合開始剤としてt−ブ
チルパーオキシ−2−エチルヘキサネートを1重量部添
加してよく混合した。
チオエチルチオエチルを第2表に示す重量部添加し、更
にこの混合液に対してラジカル重合開始剤としてt−ブ
チルパーオキシ−2−エチルヘキサネートを1重量部添
加してよく混合した。
この混合液をガラス板とフッ素系ゴムから威るガスケッ
トで構成された鋳型の中に注入し注型重合を行った。重
合は空気炉を用い30℃から90°Cで18時間かけ、
徐々に温度を上げていき、90°Cに2時間保持した。
トで構成された鋳型の中に注入し注型重合を行った。重
合は空気炉を用い30℃から90°Cで18時間かけ、
徐々に温度を上げていき、90°Cに2時間保持した。
重合終了後、鋳型を空気炉から取り出し、放冷後、重合
体を鋳型のガラスからとりはずした。得られた重合体の
物性を測定して第2表に示した。
体を鋳型のガラスからとりはずした。得られた重合体の
物性を測定して第2表に示した。
比較例1
実施例18〜21に於いてチオメタクリル酸ベンジルチ
オエチルチオエチルを用いなかった以外は実施例I8〜
21と全く同様に実施した。結果を第2表に示した。
オエチルチオエチルを用いなかった以外は実施例I8〜
21と全く同様に実施した。結果を第2表に示した。
8
9
実施例22〜29
第3表に示す芳香環を有する共重合可能な単量体とチオ
メタクリル酸ベンジルチオエチルチオエチルを添加した
混合液を用いた以外、実施例18〜21と全く同様に実
施した。得られた重合体の物性を測定して第3表に示し
た。
メタクリル酸ベンジルチオエチルチオエチルを添加した
混合液を用いた以外、実施例18〜21と全く同様に実
施した。得られた重合体の物性を測定して第3表に示し
た。
比較例2〜9
実施例22〜29に於いてチオメタクリル酸ベンジルチ
オエチルチオエチルを用いなかった以外は実施例22〜
29と全く同様に実施した。結果を第3表に示した。
オエチルチオエチルを用いなかった以外は実施例22〜
29と全く同様に実施した。結果を第3表に示した。
0
実施例30〜42及び比較例1O〜17第4表に示す芳
香環を有する共重合可能な単量体とチオカルボン酸エス
テル化合物とから成る組成物を用いた以外実施例18〜
21と全く同様に実施した。得られた重合体の物性を測
定して第4表に示した。
香環を有する共重合可能な単量体とチオカルボン酸エス
テル化合物とから成る組成物を用いた以外実施例18〜
21と全く同様に実施した。得られた重合体の物性を測
定して第4表に示した。
また、チオカルボン酸エステル化合物を用いない以外は
上記と同様に実施し、その結果を第4表に併記した。さ
らに、チオカルボン酸エステルとして下記の化合物 υ を用いて上記と同様に実施した結果を比較例として第4
表に併記した。
上記と同様に実施し、その結果を第4表に併記した。さ
らに、チオカルボン酸エステルとして下記の化合物 υ を用いて上記と同様に実施した結果を比較例として第4
表に併記した。
44
第1図及び第2図は、実施例1で得られた本発明のチオ
カルボン酸エステル化合物の赤外吸収スペクトル及び1
11−核磁気共鳴スペクトルのチャートを夫々示す。
カルボン酸エステル化合物の赤外吸収スペクトル及び1
11−核磁気共鳴スペクトルのチャートを夫々示す。
Claims (2)
- (1)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^1は水素原子又はメチル基であり、R^2
及びR^3は夫々同種又は異種の水素原子又はアルキル
基であり、R^4は置換若しくは非置換のアルキル基、
置換若しくは非置換のアラルキル基又は置換若しくは非
置換のアリール基であり、mは2以上の整数である。〕 で示されるチオカルボン酸エステル化合物。 - (2)下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^2及びR^3は夫々同種又は異種の水素原
子又はアルキル基であり、R^4は置換若しくは非置換
のアルキル基、置換若しくは非置換のアラルキル基又は
置換若しくは非置換のアリール基であり、mは2以上の
整数である。〕で示される化合物と 下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^1は水素原子又はメチル基であり、R^5
は水酸基、塩素原子又はアルコキシ基である。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載のチオカルボン酸エステル化
合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26300289A JPH03127771A (ja) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26300289A JPH03127771A (ja) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03127771A true JPH03127771A (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=17383530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26300289A Pending JPH03127771A (ja) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03127771A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6663978B1 (en) | 2000-06-28 | 2003-12-16 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| US7166686B2 (en) | 2000-06-28 | 2007-01-23 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| WO2025220534A1 (ja) * | 2024-04-15 | 2025-10-23 | 三井化学株式会社 | 粘着剤、粘着剤組成物、化合物の製造方法、および、化合物 |
| WO2025263409A1 (ja) * | 2024-06-18 | 2025-12-26 | 三井化学株式会社 | 粘着剤、粘着剤組成物および化合物 |
-
1989
- 1989-10-11 JP JP26300289A patent/JPH03127771A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6663978B1 (en) | 2000-06-28 | 2003-12-16 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| US7166686B2 (en) | 2000-06-28 | 2007-01-23 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| US7335425B2 (en) | 2000-06-28 | 2008-02-26 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| WO2025220534A1 (ja) * | 2024-04-15 | 2025-10-23 | 三井化学株式会社 | 粘着剤、粘着剤組成物、化合物の製造方法、および、化合物 |
| WO2025263409A1 (ja) * | 2024-06-18 | 2025-12-26 | 三井化学株式会社 | 粘着剤、粘着剤組成物および化合物 |
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