JPH03135703A - 基板へ被着物を被着する方法および測光装置 - Google Patents

基板へ被着物を被着する方法および測光装置

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JPH03135703A
JPH03135703A JP2135534A JP13553490A JPH03135703A JP H03135703 A JPH03135703 A JP H03135703A JP 2135534 A JP2135534 A JP 2135534A JP 13553490 A JP13553490 A JP 13553490A JP H03135703 A JPH03135703 A JP H03135703A
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amplifier
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Horst Schwiecker
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Alfons Zoeller
アルフオンス・ツエラー
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Leybold AG
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    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0625Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特許請求の範囲第1項の上位概念に記載の基
板に被着物を仮着する方法2、特許請求の範囲第6項の
上位概念に記載の側光装置に関する。
この形式の対象物は殊に、ドイツ連邦共和国荷肝公開第
2627753号公報によって公知でるる。こ2’L 
tで公知の方法では測定乃至評価は、装置の光字的おL
び/lたは電気的な側において、所祠基単光線における
連続的!fcは断続的な比較に基づいて行なわnた。例
えば測定光MAの一部が、部分透過性の腕に工うて分I
llちれかつ轡別な基単元受イと器に供fIj11Gる
。このようにして測定九諒の輝度変動が大輪に袖慣括れ
た(ドイツ連邦共和国籍許公開第2627753号公報
)。しかしこの場合2つの元52伯器の時性において異
なりfc臀性凹巌乃主^なった動作点が生じることによ
る影臀が残る。
更に、分割さnfc基革元+11!−、複畝回転向させ
かつvL糸に反射名<九後、本来の飼定元巌と同じ光受
信話に供給することが公知でめる0こ扛は、チョッパ操
作に基づいて父互に行なわれるので、元受便器の出力側
において相応に読出して絆1曲回路に工つて、この工う
に#−賊さnる、別個のパル/クリを所望の禰慣効釆t
オ慮して評価することかでさる。その際2つのパルス列
に対して同じN幅器を使用して、2つの別個の増幅器だ
と異なった増幅特性乃至特性曲線を有するという欠点を
排除することも公知である。
しかしこrLまで公知のすべての方法は、所謂相対測定
結果、即ち所定の基準値との比較においてのみ表わすこ
とができる結果しか出せない点で共通している。例えは
測定対象物の反射および/または透過のスペクトル分亜
が検出されると、理想の特性が仮想さnているパターン
との比較によりのみ、測定対象物のパターンとのずれに
関する基準、即ちパターンに対する相対的な差^が形成
さnる。
操作者にとって比較対象物(パターン)なしには検出し
得ないことだが、スペクトル内の個別測定により絶対測
定値を得ることが出来たとじても、このことは測定光の
別の波長における測定乃至選択さnた所定のスペクトル
範囲を越えた測定に対しては必ずしも当吠らない。この
ことの理由は、一方においては最初多色の測定光の個々
の波長において5!1度分布が柚々^なることで必り、
かつ他方においてこの測定目的のためにこれまで使用さ
れた増幅器の特性曲線の直線性が不十分であることにも
める。
従って本発明の課題は、任意の層厚に被着された対象物
の透過特性に対する絶対値の測定および指示が可能であ
plしかも例えば対象物のスペクトル特性を絶対値’を
有する曲線の形式において表示できるように、使用の測
定光の個々の波長に対しても一違択的に一所足のスペク
トルに対しても可能で少るようにした、冒頭に述べた形
式の方法および装置を提供することで套る。
この課題は、冒頭に述べた形式の方法において本発明に
より、特許請求の範囲第1項の特徴部分に記載の構成お
よび冒頭に述べた形式の装置において特許請求の範囲第
3.LJ(の特徴部分に記載の構成によりて解決さする
この場合、増m度Gに対するtVt性曲嶽0直線性が極
めてム喪でりジ、その除轡性凹臘は最高2%、M判には
1%の偏差で少なくとも10”にわたってリニヤでなけ
ればならない。この徳の増幅器は、例えば短絡作動にお
いて動作するシリコン−ホトセルお工び水蟲で安定化さ
nたロック−イン−増幅器の使用によって形成すること
ができる。
この形式のN−装置によって、1%(絶対パーセント)
より小さな誤差しか有しない10′にわたる測光装置の
[ls性を可能にすることができる。この形式の増幅器
の使用は決してめりさたりでなく、籍に従来適用されて
!kfc相対測定方法においてはこの形式の強い必要性
は存在せず、認識されてもいなかった。
増幅器の選択は、相互に者しい、即ち可能な成人の間隔
を有するaglの比較値工、および第2の比較値工。の
形成と因果関係がめる。Pfr絹比較値は、光受偏器に
当たる測定光縁部分の漠度値でめり、その際この部分は
、後で史に説明するように、0%と100%の間′f:
変動する。
上記の比較値は、測定過程、即′c)装置の目盛較正に
対して貞要でるる。装置は2F8.−目盛較正によって
調整される。その際透過測定の場合、工りに対する第1
の目盛較正点(i−検出するために、光路に検量ガラス
が配置さnない。即ち測定光線は減衰されず、そのエネ
ルギーは光受信器において札=ioo%でるるか、或い
は光路に被着さ扛ていない検査ガラスが挿入もnる。
使用の検量ガラスの周知の屈折率によって、所定の透過
率、例えは屈折率n=1.5に対して工、=92チが生
じる。
wJ2の比較値工。は同様、光受信器に到来する強度に
関するものだが、その際強直は極めて低くかつ最%有利
な場合にはOでbる。第2の比較値IO得るために、透
過測定に2いては増幅器入力側がアースに接続さnるか
または所鯖完全遮光板が光路に挿入される。1児全遮光
板”とは、光を透過せずおよび/lたは反射する不透明
体でおる。最も藺単な場合には、屍消し0表面を有する
移動可乾に文系さnた黒板でろる。
反射の残りをすべて抑圧するために、熱板は有利にrj
、文に、少なくとも1つの表面が光路に対して角度をな
して延在するよりに楔形に形成される。
上述の説明から、比較値工、およびIOが相互に着しい
間隔を有することになる。この間隔は更に、被着されて
いない検査ガラスに関連付けられた、増幅器の増幅度G
を、第1の比較値工りが実質的に最大になるまで誦める
(GL)ことによって拡大されかつ測定値が出来るだげ
正確な指示が行なわれるよりに評価される。この仁とは
、増幅器が飽和領域に達することなく、第1の比較値工
りを出来るだけ大さくしたいことを意味する。
本発明は、2つの点によって直租が確足場nるという考
えに基づいている。第1の比較値と第2の比較値との間
隔に基ついて必要な直線性が、上記の特性を有する増幅
器を用いさえすれば得られる。
所属の波長&′C従って、場合によっては波長にも依存
して、値GL、工、およびIO曲線表示として記憶する
ことによって、当該の値は如例なる場合も駐算ユニット
によって続出されかつマイクロプロセッサの#算操作に
よって、n層さnたまたは被着過程にるる対象物の測定
値Imと数字的に関係付けられる。装置の目I&較正に
ついては既に説明したが、次に峡終的な測定値の形成に
関して詳述lする。目I&較正後−波長に依存して一工
LrC対する値(その都度の可能な敢大値)および工。
に対する(iが、4&涜ぢれていない検査ガラスに対す
るN@度GLに対する値同様に記憶さnている。増Il
!l装置に自明のことながらスペクトル全体にわたって
一定でない。増@直はむしろ、測定光線の可視光線のス
ペクトル領域の中央にお匹て丁度最小値T、/Ffする
。というのに、卸ち測定光線のスペクトル装置がこの個
所において蛾大値をN−jるかうでるる。さてtf11
1i1回路の針具ユニットによって自助的に行なわnる
ことだが、′i41の比軟値工、が厳大の可能値にセッ
トされると、実質的に工りに対する不変の値が生じるが
、九に対しては生じない。このことは丈に恢に、ダイヤ
グラムに基づいて詳細に説明する。
さて、GLに対して記憶ちれていた値がUSユニットに
よって続出され、かつ次の式に基づいてりwヤな領域に
おいて変化する増幅度Gが形成される。即ち G=e−・TL 引続いて測定値工mとその都度の増鴨度Gとから成る積
がその都度の成長に対応させて形成される。
工、および工。に対して記憶されている値並びに工に対
する値が針具ユニットによって読出される。
絶対透過値Tに対して (0と1との間のディメンションのない数字として) この場合、 工=光受信器において測定され九億工mを増輌度Gによ
って9I7!鼻した、被潰さnた対象物の測定値、 TL工Miiされ1いないm食ガラスの透過1直、また
は検査ガラスが設けらnていない場合は1.0である さて、この礪合l!lI像スクリーンを用いてグラフィ
ックの形式でまたはプリンクまたはデジタル指示表ri
tを用いて数値として表示することができる絶対透過値
Tでるる。当職の値およびH線は−それ自体で既に一当
区の対象物の光学特性を完全に表示しておりかつパター
ンとの比較測定を必要としない。
このことは、−既述のように一瑠Ill!器の使用によ
って、光受傷器の出力側における1f!i号お工び増鴨
度が、100何乗ρ為にわ九って直組的な関係にめる工
うにしたときにのみ可能でめる。
光受信器において測定される、増幅度によりて乗算さn
た被着ちれている対象物の測定値工を同様メモリに記憶
することは必ずしも必要でない。装置の目i較正後直ち
に、−り定値工金上記の打算操作によりて変洪しかり指
示することができる。しかし測足値工を同様メモリに記
憶し、種々異なった針′X操作に対してまたは後の時点
においても絖出すことがでさるようにすると特に有利で
ある。
本発明の別の有利な実施例および殊に測光装置の有利な
個々の実施例は、脣許請求の範囲の実施態様項から明ら
かである。
次に不発明を図示の実施例を用いて計測に説明する。
第1図には、Jc窒需庸裟直鷹たは陽極スパッタリング
装置として構成することができるXg!−被着装置ll
が図示さnている。板層材料の発生源(蒸発器l九はス
パッタリング陽極)は、図示されていない。りlシこル
らは公知でりる0^窒−被着装置に、^全血2が所属す
る。真窒嵐は、透光性の窓3お工び4に備えている。真
臣昆2には、最初葦だ被着さルていな1v−h検査ガラ
ス5が配直さnている。測定対象物と見做される検査ガ
ラスは、具g!、ヱ2において同時にまたは順次に被着
することができる複数の対象物を代表して図示ざnてい
る。層に対する支持体は基板とも称1n1かり測定を基
板で行なうことも、特別な検査ガラスで行な9こともで
きる。
被着方法は実際には大抵検量ガラスを用いて監視される
ので、この場合は検査ガラスと関連付けて説明する。通
例は検量ガラスの執域に設げらnる基板保持体も、図示
さnていない。
臭空室2の外側に、光源6が配置さルており、光源から
測定光線1の束が窓3および4の方向において延びてい
る。測定光線1に、光路8を規定する。光Tl68には
まず45°の角度において一方の側が透明な鋺9が配置
さnて−る。光路8にはその他に集束レンズ10が設け
られている。この場合、反射測定に対して窓3が、そこ
から出る反射光が光路8に反射することがないように斜
めに組込まれていることがIL貴でろる。
窓3の後方において測定元庫Tは検量ガラス5に当たり
、その際(最初)測定光の極めて僅かな部分が反JjR
劇定先組7aとして部分透光性の鏡91で反射される。
この−合は反射測定でるる。このために検査ガラス5は
平らな前面5at−Vするが、前面5&で反射された尤
のみが鋺9に戻るふうに、粗面化された面、即ち散乱す
る皿面5bを有する。
鏡9において、残っている測定先組1aが90°の角度
で反射されかつそれから調節可能なモノクロメータ11
に当たる。モノクロメータ11を介して、モノクロメー
タにおいてセットさnている波長t−Wする測定元機部
分のみが、光受信器12の方向に2いて透過ちれる。こ
の場合はシリコン光受信器でめり、その出力1ullは
図示さnていない評価回路を介して指示装置13に接続
されている。
図示の装置においては、測定光線1が検査ガラス5に絶
対的に垂直に当たることがム貴でりる。というのは垂直
からずれる度に、反射特性に関して制御できない状Mt
−来たすからでめる。
光源6から見て急4の後方に、モノクロメータ11と同
じm能を有する別のモノクロメータ14が配濾烙几てい
る。モノクロメータとして、干渉フィルタ、干渉グラブ
ユニライドフィルタまたは格子モノクロメータが使用嘔
れる。干渉グラブユニライドフィルタ並びに格子モノク
ロメータの透過波量は、ステップモータを用いて変える
ことができるが、藺単にするためステップモータはここ
では図示されていない。
検査ガラス5の後方に残る測定光線は、破紛7bによっ
て図示さnている。この場合はi′j′r鯖透過測定で
める。即ち検量ガラス5′5を透過した、也IJ定九部
分は、モノクロメータr介して所定の波長嶽の光として
光受信器15に達する。この光受信器は、光受信器12
と同じ軸性全Mする。
この光受信器の出力側は、同じく図示石れていない評価
回路を介して指示表直に徽枕名nている。
m食ガラス5rX、透過測定に対しては、2つの平坦な
、即ち平滑な表面を有する。検査ガラスは、旨頴に述べ
た実施例に工れば、透過測定において目!i&較正の間
取除くこともでき、その結果数パーセントだけ大きな元
部分が光受gI器15に達する。
第1図には更に、2りの完全遮光板17&および17b
が図示されている。しかし測定のためにはその都度こn
らのうち一方のみが心安でるる。−測定を回避するため
に、斜めに組込まれた窓3を使用する場合にはこの完全
遮光板は完全遮光板17aとして、即ちVンズ10と窓
3との間に挿入されなければならないか或いは完全遮光
板は完全遮光板171)として検査ガラ2s0厘削に、
即ちg4と検査ガラス5との間に配置されなければなら
ない。完全遮光板は上記の位置において必要でろる。と
iうのは反射は検査ガラス乃至測定対[wにおいてのみ
行なわれるのではなく、斜めに使用することができない
レンズでも行なわtしるからでるる。
帛2の比較値工。の測定の除2りの完全遮光板17a1
7′cは17bのシち一方が、図示の矢印の方向におい
て光路8に挿入され、その結果測定光線の大部分の吸収
が行なわnる。既述のように完全遮光板は有利には、光
の吸収を最大に行なう喫形の艷消し黒板からなる〇 第2図において、第1図と同じ部分には同じ奇号が付げ
らnている。2つの光受信器12および15の出力側は
、切換スイッチ18に接続筋れている。図示の切換位置
においては透過測定が行なわれ、別の位置への切侯後元
受gI器15を用いた反射測定全実施することができる
切換スイッチ18から線19が制御可能な増幅器20に
4かれている。この増l1fil器は、上記の荷性七有
する。所定のpII暢度GLを設定するために、増幅器
20に線21金介して発生番22がAil置装続さnて
いる。免生器の出力側は巌23t−弁して増幅度GL金
記憶するためのメモリ24に接続さnている。その際増
l1li!腿は仮着δt′していない横置ガラスにおい
て(または検査ガラスが設けられていない除に)既述し
たよシvc第1の比較値工りを最大化したとぎに不めら
nたものでるる。
珈暢器lυの出刃物から線25が切換スイッチ26に通
じている。切換スイッチの出力111rj。
!27.28および29を介してメモリ30゜31およ
び32に接続されている。メモリ30に、最大可能な増
幅において増幅器が飽和領域rc陥入ることなしに求め
らiL九第1の比較値工。
に対する記憶の九めに用いられる。メモリ31は、完全
遮光板を用いて(ま−fcは、相応に、増幅器入力側の
接地によって)得られかつ第1の比較値工、と同じ増幅
度GLによりてNi暢さ匹た′1PI2の比較11工。
全記憶するために用いらルる。
メモリ32は、被着された対象物が光受信器において測
定さnたその本来の(111定値工t−記憶するために
用いられる。
全部のメモリ24,30.31および32は、相応のI
wft介して絆価回w&33に接続6rしている。評価
回路には、既述の訂3!を行なうi!′を其ユニットが
図示されてはいないが設けらnている。
評価回路33から、制#巌34が2りのモノクロメータ
11および14に、これらが所定の波長に設定されるか
または所定の狭長スペクトル金カバーするために市1」
御ちnるように、導ρ為nている。帰還路35が、増幅
度発生器22に導か八ている。このようにして、評価回
路33によって増Ii@i1度がまさに第1の比較値几
が増−器20が飽和狽域に移行する前に肝容値に達する
程度に萬く選択ちnるようにできる。
評価回路33は、線36を介して指示装置13に接続さ
扛ている。指示装置はI[ll像スクリーンとして図示
されているが、力えは所定の波長において咄−の測定1
区の;9−を指示ることがi女でるるときは、座標−6
己録装置、プリンタまたはデジタル指示装置を代わりに
使用するこもできる。
第6図では、@座惺が波長全示し、−刀帳座標には第1
の比較値および第2の比較値並びに増幅度GLが経過に
応じて図示δnでいる。測定原理のみを明らかにすnは
よいので、測定単位は省略嘔nている。第1の比較値工
、に対する曲線36は、相応の増幅による保持により殆
んど水平方向に延びていることがわかる。大体類似の経
過を、第2の比較値工。に対する曲線3Tも有する。こ
nに対して全く別の経過を有するのは工、に対する可能
な最大値t−得るために設定さnなけnばならない必要
な増幅度を懺わす、増幅度GLに対する曲[38でbる
。この曲線は、囲者な最小値を有する。
m4図において横座握はここでも波長を表わし、一方縦
座標は、被着避nている検量ガラスにおいて測光装置出
力側で測定式する測定値工の経過並びに絶対透過T乃並
反射値Rを示す。
曲線39は、反射乃至透過のスペクトル依存性t−表わ
す測定値工のスペクトル経過を示すが、その際被着方法
の結果の基本的な判断のみを可能にする相対値でしかな
い。しかし既述のli′i%プロセスに基ついてaa巌
4Oとして、透過乃至反射値T、Hのスペクトル依存度
が絶対値として示される。曲線40は曲線39に類似し
ているが、変化する増幅度(第6図のh線38)に基づ
いて相応に校正されており、μpち曲[39は絶対曲#
JI40に比べると1歪んでいる”
【図面の簡単な説明】
第1図は、A窒−破着装置に接続さ2″している本発明
の測光装置の実施例の概略金示す図でめり、第2図は評
価回路および指示表直に接続さnている第1図の装置の
1賛な部分を示す図および所属の回路のグロック図でる
り、第6図に、被着された対象物における第1の比較値
および第2の比較値並びに増幅度の間の関係が、波長に
関連して図示さnている曲巌図でりり、第4図q工、光
受信器において測定さn九、被着さnた対象物の測定値
と、1−示表はにぶって表示される、絶対透過乃至反射
値とのg@%が、第6図と同じく波長に関して図示塾1
でいる日−図でめる。 1・・・真壁−蒸層装置、l・・・真壁室、5.5&。 5b・・・検量ガラス、γ、7a、7b・・・測定元−
111,14・・・モノクロメータ、12.15・・・
元受igi、13 、16−指示装置、17a、17k
)・・・逃九板、18.26・・・切換スイッチ、20
・・・増幅器、22・・・増幅度発生器、24,3Ll
。 31.32・・・メモリ、33・・・絆11111に!
21路、34・・・1euet+線、35・・・帰R路
、G1・・・増幅度、工、・・・第1の比較値、工。・
・・第2の比較値、工、・・・測定イば、工・・・増幅
ちれた測定値

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、測定光線、前以つて決められた測定光−波長の選択
    に対するモノクロメータ、光受信器、調節可能な増幅器
    および評価回路を使用して、第1の比較値I_L、第2
    の比較値I_Oおよび被着された対象物の透過特性に対
    する少なくとも1つの測定値を検出することによつて、
    それぞれの測定値を前以つて決められた測定光−波長に
    対応して真空−被着装置において被着される光学的に作
    用する層をその形成期間連続的に厚さ測定しかつ制御す
    る、基板に被着物を被着する方法において、 1.1最高2%の偏差で少なくとも10^2にわたつて
    リニヤな特性曲線を有する増幅度 Gの調節可能な増幅器を使用し、 1.2 前記増幅度Gを対応ける波長において、前記第
    1の比較値I_Lが前記増幅器のリニヤな領域において
    最大値に達するまで高め、 かつ該最大値およびこのように求められた 所属の増幅度G_Lをメモリに記憶し、 1.3前記第2の比較値I_O透過形測定において、増
    幅器入力側を遮断するかまたは 測定光線中に完全遮光板を挿入することに よつて形成し、かつ 該第2の比較値I_Oを、第1の比較値I_Lと同じ増
    幅度で増幅して別のメモリに記憶 し、その結果その後量G_L、I_LおよびI_Oが所
    属の波長に応じて記憶されているよう にし、かつそれぞれの波長における測定目 的のために 1.4G_Lに対して記憶されている値を計算ユニツト
    によつて脱出しかつリニヤな領域 において変化する増幅度Gを次の式 G=G_L・T_L に従つて求めかつ引続いてその都度の波長 に対応する、測定値I_Mとその都度の増幅度Gとから
    成る積Iを形成しかつI_LおよびI_Oに対して記憶
    されている値並びにIに対する値を計算ユニットによつ
    て読出し、その際 絶対透過値Tを次の式 T=I−I_O・T_L/I_L−I_O に従つて求め、その際 I_Mは、光受信器における被着された対象物の測定値
    であり、 Iは、被着された対象物の測定値I_Mに増幅度Gを乗
    算した値であり、 T_Lは、被着されていない検査ガラスの透過値または
    検査ガラスの設けられていない 場合の透過値である、 ことを特徴とする基板の被着方法。 2、測定値Iを同じくメモリに記憶しかつ1.4に に記載。計算操作のため計算ユニットによ りて読出す特許請求の範囲第1項記載の基板に被着物を
    被着する方法。 3、測定光線を放射するための光源、モノクロメータ、
    光受信器、増幅器および指示装置に対する出力側を有す
    る評価回路および/または調整回路が設けられている、
    基板に被着物を被着する方法を実施する際の層厚測定用
    測光装置において、 3.1増幅器(20)はその増幅度に関して、最高2%
    の偏差で少なくとも10^2にわたつてリニヤである特
    性曲線を有し、 6.2光受信器(15)によりて受信される測定光の強
    度に関する第1の比較値I_Lを形成するために、光路
    (8)に挿入可能な被着されていない検量ガラス(5)
    が設けられており、3.3同じ光受信器によつて受信さ
    れた測定光の強度に対する第2の比較値I_Oを形成す
    るために、光路(8)に挿入可能な完全遮光板(17b
    )が設けられており、該遮光板は光受信器(15)に当
    たる測定光を実際に完全に吸収する作用をし、 3.4第1の比較値I_Lに対するメモリ(30)およ
    び第2の比較値I_Oに対するメモリ(31)並びに増
    幅度に比例する信号に対するメモリ(24)が設けられ
    ており、その際2つの比較値に対するメモリ(30、3
    1)は増幅器(20)に装置接続されており、および増
    幅度に対するメモリ(24)は、増幅度発生器(22)
    に装置接続されており、 3.52つの比較値に対するメモリ(30、31)およ
    び増幅度に対するメモリ(24)は、評価回路(33)
    に所属する計算ユニットに接続されており、 3、6計算ユニツトは、増幅度がI_Lに対する可能な
    最大値に相応して設定可能であるように、増幅度発生器
    (22)への帰還路(35)を有し、 3.7計算ユニットは、メモリ(30、31)に存在す
    る第1の比較値および第2の比較値に対する信号並びに
    測定値Iから、その都度同じ増幅度に対する絶対透過値
    が検出可能でありかつメモリ(24)に存在する、増幅
    度G_Lに対する信号から、第1の比較値に対する透過
    値を考慮して、透過値T_Lと増幅度G_Lとの乗算に
    よつて絶対透過値が検出可能であるように構成されてい
    ることを特徴とする測光装置。 4、増幅器(20)と計算ユニット(33)との間に、
    測定値I_Mに増幅度Gを乗算した値Iに対する別のメ
    モリ(32)が設けられている特許請求の範囲第3項記
    載の測光装置。 5、評価回路(33)は制御線(34)を介して、選択
    的に測定光線の所定の波長を設定可能であるかまたは選
    択されたスペクトルをカバー可能でるるように、モノク
    ロメータ(14)に接続されている特許請求の範囲第3
    項記載の装置。
JP2135534A 1981-09-08 1990-05-28 基板へ被着物を被着する方法および測光装置 Granted JPH03135703A (ja)

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NL191186C (nl) 1995-03-01
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