JPH03135703A - 基板へ被着物を被着する方法および測光装置 - Google Patents
基板へ被着物を被着する方法および測光装置Info
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- JPH03135703A JPH03135703A JP2135534A JP13553490A JPH03135703A JP H03135703 A JPH03135703 A JP H03135703A JP 2135534 A JP2135534 A JP 2135534A JP 13553490 A JP13553490 A JP 13553490A JP H03135703 A JPH03135703 A JP H03135703A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
- G01B11/0633—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection using one or more discrete wavelengths
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、特許請求の範囲第1項の上位概念に記載の基
板に被着物を仮着する方法2、特許請求の範囲第6項の
上位概念に記載の側光装置に関する。
板に被着物を仮着する方法2、特許請求の範囲第6項の
上位概念に記載の側光装置に関する。
この形式の対象物は殊に、ドイツ連邦共和国荷肝公開第
2627753号公報によって公知でるる。こ2’L
tで公知の方法では測定乃至評価は、装置の光字的おL
び/lたは電気的な側において、所祠基単光線における
連続的!fcは断続的な比較に基づいて行なわnた。例
えば測定光MAの一部が、部分透過性の腕に工うて分I
llちれかつ轡別な基単元受イと器に供fIj11Gる
。このようにして測定九諒の輝度変動が大輪に袖慣括れ
た(ドイツ連邦共和国籍許公開第2627753号公報
)。しかしこの場合2つの元52伯器の時性において異
なりfc臀性凹巌乃主^なった動作点が生じることによ
る影臀が残る。
2627753号公報によって公知でるる。こ2’L
tで公知の方法では測定乃至評価は、装置の光字的おL
び/lたは電気的な側において、所祠基単光線における
連続的!fcは断続的な比較に基づいて行なわnた。例
えば測定光MAの一部が、部分透過性の腕に工うて分I
llちれかつ轡別な基単元受イと器に供fIj11Gる
。このようにして測定九諒の輝度変動が大輪に袖慣括れ
た(ドイツ連邦共和国籍許公開第2627753号公報
)。しかしこの場合2つの元52伯器の時性において異
なりfc臀性凹巌乃主^なった動作点が生じることによ
る影臀が残る。
更に、分割さnfc基革元+11!−、複畝回転向させ
かつvL糸に反射名<九後、本来の飼定元巌と同じ光受
信話に供給することが公知でめる0こ扛は、チョッパ操
作に基づいて父互に行なわれるので、元受便器の出力側
において相応に読出して絆1曲回路に工つて、この工う
に#−賊さnる、別個のパル/クリを所望の禰慣効釆t
オ慮して評価することかでさる。その際2つのパルス列
に対して同じN幅器を使用して、2つの別個の増幅器だ
と異なった増幅特性乃至特性曲線を有するという欠点を
排除することも公知である。
かつvL糸に反射名<九後、本来の飼定元巌と同じ光受
信話に供給することが公知でめる0こ扛は、チョッパ操
作に基づいて父互に行なわれるので、元受便器の出力側
において相応に読出して絆1曲回路に工つて、この工う
に#−賊さnる、別個のパル/クリを所望の禰慣効釆t
オ慮して評価することかでさる。その際2つのパルス列
に対して同じN幅器を使用して、2つの別個の増幅器だ
と異なった増幅特性乃至特性曲線を有するという欠点を
排除することも公知である。
しかしこrLまで公知のすべての方法は、所謂相対測定
結果、即ち所定の基準値との比較においてのみ表わすこ
とができる結果しか出せない点で共通している。例えは
測定対象物の反射および/または透過のスペクトル分亜
が検出されると、理想の特性が仮想さnているパターン
との比較によりのみ、測定対象物のパターンとのずれに
関する基準、即ちパターンに対する相対的な差^が形成
さnる。
結果、即ち所定の基準値との比較においてのみ表わすこ
とができる結果しか出せない点で共通している。例えは
測定対象物の反射および/または透過のスペクトル分亜
が検出されると、理想の特性が仮想さnているパターン
との比較によりのみ、測定対象物のパターンとのずれに
関する基準、即ちパターンに対する相対的な差^が形成
さnる。
操作者にとって比較対象物(パターン)なしには検出し
得ないことだが、スペクトル内の個別測定により絶対測
定値を得ることが出来たとじても、このことは測定光の
別の波長における測定乃至選択さnた所定のスペクトル
範囲を越えた測定に対しては必ずしも当吠らない。この
ことの理由は、一方においては最初多色の測定光の個々
の波長において5!1度分布が柚々^なることで必り、
かつ他方においてこの測定目的のためにこれまで使用さ
れた増幅器の特性曲線の直線性が不十分であることにも
める。
得ないことだが、スペクトル内の個別測定により絶対測
定値を得ることが出来たとじても、このことは測定光の
別の波長における測定乃至選択さnた所定のスペクトル
範囲を越えた測定に対しては必ずしも当吠らない。この
ことの理由は、一方においては最初多色の測定光の個々
の波長において5!1度分布が柚々^なることで必り、
かつ他方においてこの測定目的のためにこれまで使用さ
れた増幅器の特性曲線の直線性が不十分であることにも
める。
従って本発明の課題は、任意の層厚に被着された対象物
の透過特性に対する絶対値の測定および指示が可能であ
plしかも例えば対象物のスペクトル特性を絶対値’を
有する曲線の形式において表示できるように、使用の測
定光の個々の波長に対しても一違択的に一所足のスペク
トルに対しても可能で少るようにした、冒頭に述べた形
式の方法および装置を提供することで套る。
の透過特性に対する絶対値の測定および指示が可能であ
plしかも例えば対象物のスペクトル特性を絶対値’を
有する曲線の形式において表示できるように、使用の測
定光の個々の波長に対しても一違択的に一所足のスペク
トルに対しても可能で少るようにした、冒頭に述べた形
式の方法および装置を提供することで套る。
この課題は、冒頭に述べた形式の方法において本発明に
より、特許請求の範囲第1項の特徴部分に記載の構成お
よび冒頭に述べた形式の装置において特許請求の範囲第
3.LJ(の特徴部分に記載の構成によりて解決さする
。
より、特許請求の範囲第1項の特徴部分に記載の構成お
よび冒頭に述べた形式の装置において特許請求の範囲第
3.LJ(の特徴部分に記載の構成によりて解決さする
。
この場合、増m度Gに対するtVt性曲嶽0直線性が極
めてム喪でりジ、その除轡性凹臘は最高2%、M判には
1%の偏差で少なくとも10”にわたってリニヤでなけ
ればならない。この徳の増幅器は、例えば短絡作動にお
いて動作するシリコン−ホトセルお工び水蟲で安定化さ
nたロック−イン−増幅器の使用によって形成すること
ができる。
めてム喪でりジ、その除轡性凹臘は最高2%、M判には
1%の偏差で少なくとも10”にわたってリニヤでなけ
ればならない。この徳の増幅器は、例えば短絡作動にお
いて動作するシリコン−ホトセルお工び水蟲で安定化さ
nたロック−イン−増幅器の使用によって形成すること
ができる。
この形式のN−装置によって、1%(絶対パーセント)
より小さな誤差しか有しない10′にわたる測光装置の
[ls性を可能にすることができる。この形式の増幅器
の使用は決してめりさたりでなく、籍に従来適用されて
!kfc相対測定方法においてはこの形式の強い必要性
は存在せず、認識されてもいなかった。
より小さな誤差しか有しない10′にわたる測光装置の
[ls性を可能にすることができる。この形式の増幅器
の使用は決してめりさたりでなく、籍に従来適用されて
!kfc相対測定方法においてはこの形式の強い必要性
は存在せず、認識されてもいなかった。
増幅器の選択は、相互に者しい、即ち可能な成人の間隔
を有するaglの比較値工、および第2の比較値工。の
形成と因果関係がめる。Pfr絹比較値は、光受偏器に
当たる測定光縁部分の漠度値でめり、その際この部分は
、後で史に説明するように、0%と100%の間′f:
変動する。
を有するaglの比較値工、および第2の比較値工。の
形成と因果関係がめる。Pfr絹比較値は、光受偏器に
当たる測定光縁部分の漠度値でめり、その際この部分は
、後で史に説明するように、0%と100%の間′f:
変動する。
上記の比較値は、測定過程、即′c)装置の目盛較正に
対して貞要でるる。装置は2F8.−目盛較正によって
調整される。その際透過測定の場合、工りに対する第1
の目盛較正点(i−検出するために、光路に検量ガラス
が配置さnない。即ち測定光線は減衰されず、そのエネ
ルギーは光受信器において札=ioo%でるるか、或い
は光路に被着さ扛ていない検査ガラスが挿入もnる。
対して貞要でるる。装置は2F8.−目盛較正によって
調整される。その際透過測定の場合、工りに対する第1
の目盛較正点(i−検出するために、光路に検量ガラス
が配置さnない。即ち測定光線は減衰されず、そのエネ
ルギーは光受信器において札=ioo%でるるか、或い
は光路に被着さ扛ていない検査ガラスが挿入もnる。
使用の検量ガラスの周知の屈折率によって、所定の透過
率、例えは屈折率n=1.5に対して工、=92チが生
じる。
率、例えは屈折率n=1.5に対して工、=92チが生
じる。
wJ2の比較値工。は同様、光受信器に到来する強度に
関するものだが、その際強直は極めて低くかつ最%有利
な場合にはOでbる。第2の比較値IO得るために、透
過測定に2いては増幅器入力側がアースに接続さnるか
または所鯖完全遮光板が光路に挿入される。1児全遮光
板”とは、光を透過せずおよび/lたは反射する不透明
体でおる。最も藺単な場合には、屍消し0表面を有する
移動可乾に文系さnた黒板でろる。
関するものだが、その際強直は極めて低くかつ最%有利
な場合にはOでbる。第2の比較値IO得るために、透
過測定に2いては増幅器入力側がアースに接続さnるか
または所鯖完全遮光板が光路に挿入される。1児全遮光
板”とは、光を透過せずおよび/lたは反射する不透明
体でおる。最も藺単な場合には、屍消し0表面を有する
移動可乾に文系さnた黒板でろる。
反射の残りをすべて抑圧するために、熱板は有利にrj
、文に、少なくとも1つの表面が光路に対して角度をな
して延在するよりに楔形に形成される。
、文に、少なくとも1つの表面が光路に対して角度をな
して延在するよりに楔形に形成される。
上述の説明から、比較値工、およびIOが相互に着しい
間隔を有することになる。この間隔は更に、被着されて
いない検査ガラスに関連付けられた、増幅器の増幅度G
を、第1の比較値工りが実質的に最大になるまで誦める
(GL)ことによって拡大されかつ測定値が出来るだげ
正確な指示が行なわれるよりに評価される。この仁とは
、増幅器が飽和領域に達することなく、第1の比較値工
りを出来るだけ大さくしたいことを意味する。
間隔を有することになる。この間隔は更に、被着されて
いない検査ガラスに関連付けられた、増幅器の増幅度G
を、第1の比較値工りが実質的に最大になるまで誦める
(GL)ことによって拡大されかつ測定値が出来るだげ
正確な指示が行なわれるよりに評価される。この仁とは
、増幅器が飽和領域に達することなく、第1の比較値工
りを出来るだけ大さくしたいことを意味する。
本発明は、2つの点によって直租が確足場nるという考
えに基づいている。第1の比較値と第2の比較値との間
隔に基ついて必要な直線性が、上記の特性を有する増幅
器を用いさえすれば得られる。
えに基づいている。第1の比較値と第2の比較値との間
隔に基ついて必要な直線性が、上記の特性を有する増幅
器を用いさえすれば得られる。
所属の波長&′C従って、場合によっては波長にも依存
して、値GL、工、およびIO曲線表示として記憶する
ことによって、当該の値は如例なる場合も駐算ユニット
によって続出されかつマイクロプロセッサの#算操作に
よって、n層さnたまたは被着過程にるる対象物の測定
値Imと数字的に関係付けられる。装置の目I&較正に
ついては既に説明したが、次に峡終的な測定値の形成に
関して詳述lする。目I&較正後−波長に依存して一工
LrC対する値(その都度の可能な敢大値)および工。
して、値GL、工、およびIO曲線表示として記憶する
ことによって、当該の値は如例なる場合も駐算ユニット
によって続出されかつマイクロプロセッサの#算操作に
よって、n層さnたまたは被着過程にるる対象物の測定
値Imと数字的に関係付けられる。装置の目I&較正に
ついては既に説明したが、次に峡終的な測定値の形成に
関して詳述lする。目I&較正後−波長に依存して一工
LrC対する値(その都度の可能な敢大値)および工。
に対する(iが、4&涜ぢれていない検査ガラスに対す
るN@度GLに対する値同様に記憶さnている。増Il
!l装置に自明のことながらスペクトル全体にわたって
一定でない。増@直はむしろ、測定光線の可視光線のス
ペクトル領域の中央にお匹て丁度最小値T、/Ffする
。というのに、卸ち測定光線のスペクトル装置がこの個
所において蛾大値をN−jるかうでるる。さてtf11
1i1回路の針具ユニットによって自助的に行なわnる
ことだが、′i41の比軟値工、が厳大の可能値にセッ
トされると、実質的に工りに対する不変の値が生じるが
、九に対しては生じない。このことは丈に恢に、ダイヤ
グラムに基づいて詳細に説明する。
るN@度GLに対する値同様に記憶さnている。増Il
!l装置に自明のことながらスペクトル全体にわたって
一定でない。増@直はむしろ、測定光線の可視光線のス
ペクトル領域の中央にお匹て丁度最小値T、/Ffする
。というのに、卸ち測定光線のスペクトル装置がこの個
所において蛾大値をN−jるかうでるる。さてtf11
1i1回路の針具ユニットによって自助的に行なわnる
ことだが、′i41の比軟値工、が厳大の可能値にセッ
トされると、実質的に工りに対する不変の値が生じるが
、九に対しては生じない。このことは丈に恢に、ダイヤ
グラムに基づいて詳細に説明する。
さて、GLに対して記憶ちれていた値がUSユニットに
よって続出され、かつ次の式に基づいてりwヤな領域に
おいて変化する増幅度Gが形成される。即ち G=e−・TL 引続いて測定値工mとその都度の増鴨度Gとから成る積
がその都度の成長に対応させて形成される。
よって続出され、かつ次の式に基づいてりwヤな領域に
おいて変化する増幅度Gが形成される。即ち G=e−・TL 引続いて測定値工mとその都度の増鴨度Gとから成る積
がその都度の成長に対応させて形成される。
工、および工。に対して記憶されている値並びに工に対
する値が針具ユニットによって読出される。
する値が針具ユニットによって読出される。
絶対透過値Tに対して
(0と1との間のディメンションのない数字として)
この場合、
工=光受信器において測定され九億工mを増輌度Gによ
って9I7!鼻した、被潰さnた対象物の測定値、 TL工Miiされ1いないm食ガラスの透過1直、また
は検査ガラスが設けらnていない場合は1.0である さて、この礪合l!lI像スクリーンを用いてグラフィ
ックの形式でまたはプリンクまたはデジタル指示表ri
tを用いて数値として表示することができる絶対透過値
Tでるる。当職の値およびH線は−それ自体で既に一当
区の対象物の光学特性を完全に表示しておりかつパター
ンとの比較測定を必要としない。
って9I7!鼻した、被潰さnた対象物の測定値、 TL工Miiされ1いないm食ガラスの透過1直、また
は検査ガラスが設けらnていない場合は1.0である さて、この礪合l!lI像スクリーンを用いてグラフィ
ックの形式でまたはプリンクまたはデジタル指示表ri
tを用いて数値として表示することができる絶対透過値
Tでるる。当職の値およびH線は−それ自体で既に一当
区の対象物の光学特性を完全に表示しておりかつパター
ンとの比較測定を必要としない。
このことは、−既述のように一瑠Ill!器の使用によ
って、光受傷器の出力側における1f!i号お工び増鴨
度が、100何乗ρ為にわ九って直組的な関係にめる工
うにしたときにのみ可能でめる。
って、光受傷器の出力側における1f!i号お工び増鴨
度が、100何乗ρ為にわ九って直組的な関係にめる工
うにしたときにのみ可能でめる。
光受信器において測定される、増幅度によりて乗算さn
た被着ちれている対象物の測定値工を同様メモリに記憶
することは必ずしも必要でない。装置の目i較正後直ち
に、−り定値工金上記の打算操作によりて変洪しかり指
示することができる。しかし測足値工を同様メモリに記
憶し、種々異なった針′X操作に対してまたは後の時点
においても絖出すことがでさるようにすると特に有利で
ある。
た被着ちれている対象物の測定値工を同様メモリに記憶
することは必ずしも必要でない。装置の目i較正後直ち
に、−り定値工金上記の打算操作によりて変洪しかり指
示することができる。しかし測足値工を同様メモリに記
憶し、種々異なった針′X操作に対してまたは後の時点
においても絖出すことがでさるようにすると特に有利で
ある。
本発明の別の有利な実施例および殊に測光装置の有利な
個々の実施例は、脣許請求の範囲の実施態様項から明ら
かである。
個々の実施例は、脣許請求の範囲の実施態様項から明ら
かである。
次に不発明を図示の実施例を用いて計測に説明する。
第1図には、Jc窒需庸裟直鷹たは陽極スパッタリング
装置として構成することができるXg!−被着装置ll
が図示さnている。板層材料の発生源(蒸発器l九はス
パッタリング陽極)は、図示されていない。りlシこル
らは公知でりる0^窒−被着装置に、^全血2が所属す
る。真窒嵐は、透光性の窓3お工び4に備えている。真
臣昆2には、最初葦だ被着さルていな1v−h検査ガラ
ス5が配直さnている。測定対象物と見做される検査ガ
ラスは、具g!、ヱ2において同時にまたは順次に被着
することができる複数の対象物を代表して図示ざnてい
る。層に対する支持体は基板とも称1n1かり測定を基
板で行なうことも、特別な検査ガラスで行な9こともで
きる。
装置として構成することができるXg!−被着装置ll
が図示さnている。板層材料の発生源(蒸発器l九はス
パッタリング陽極)は、図示されていない。りlシこル
らは公知でりる0^窒−被着装置に、^全血2が所属す
る。真窒嵐は、透光性の窓3お工び4に備えている。真
臣昆2には、最初葦だ被着さルていな1v−h検査ガラ
ス5が配直さnている。測定対象物と見做される検査ガ
ラスは、具g!、ヱ2において同時にまたは順次に被着
することができる複数の対象物を代表して図示ざnてい
る。層に対する支持体は基板とも称1n1かり測定を基
板で行なうことも、特別な検査ガラスで行な9こともで
きる。
被着方法は実際には大抵検量ガラスを用いて監視される
ので、この場合は検査ガラスと関連付けて説明する。通
例は検量ガラスの執域に設げらnる基板保持体も、図示
さnていない。
ので、この場合は検査ガラスと関連付けて説明する。通
例は検量ガラスの執域に設げらnる基板保持体も、図示
さnていない。
臭空室2の外側に、光源6が配置さルており、光源から
測定光線1の束が窓3および4の方向において延びてい
る。測定光線1に、光路8を規定する。光Tl68には
まず45°の角度において一方の側が透明な鋺9が配置
さnて−る。光路8にはその他に集束レンズ10が設け
られている。この場合、反射測定に対して窓3が、そこ
から出る反射光が光路8に反射することがないように斜
めに組込まれていることがIL貴でろる。
測定光線1の束が窓3および4の方向において延びてい
る。測定光線1に、光路8を規定する。光Tl68には
まず45°の角度において一方の側が透明な鋺9が配置
さnて−る。光路8にはその他に集束レンズ10が設け
られている。この場合、反射測定に対して窓3が、そこ
から出る反射光が光路8に反射することがないように斜
めに組込まれていることがIL貴でろる。
窓3の後方において測定元庫Tは検量ガラス5に当たり
、その際(最初)測定光の極めて僅かな部分が反JjR
劇定先組7aとして部分透光性の鏡91で反射される。
、その際(最初)測定光の極めて僅かな部分が反JjR
劇定先組7aとして部分透光性の鏡91で反射される。
この−合は反射測定でるる。このために検査ガラス5は
平らな前面5at−Vするが、前面5&で反射された尤
のみが鋺9に戻るふうに、粗面化された面、即ち散乱す
る皿面5bを有する。
平らな前面5at−Vするが、前面5&で反射された尤
のみが鋺9に戻るふうに、粗面化された面、即ち散乱す
る皿面5bを有する。
鏡9において、残っている測定先組1aが90°の角度
で反射されかつそれから調節可能なモノクロメータ11
に当たる。モノクロメータ11を介して、モノクロメー
タにおいてセットさnている波長t−Wする測定元機部
分のみが、光受信器12の方向に2いて透過ちれる。こ
の場合はシリコン光受信器でめり、その出力1ullは
図示さnていない評価回路を介して指示装置13に接続
されている。
で反射されかつそれから調節可能なモノクロメータ11
に当たる。モノクロメータ11を介して、モノクロメー
タにおいてセットさnている波長t−Wする測定元機部
分のみが、光受信器12の方向に2いて透過ちれる。こ
の場合はシリコン光受信器でめり、その出力1ullは
図示さnていない評価回路を介して指示装置13に接続
されている。
図示の装置においては、測定光線1が検査ガラス5に絶
対的に垂直に当たることがム貴でりる。というのは垂直
からずれる度に、反射特性に関して制御できない状Mt
−来たすからでめる。
対的に垂直に当たることがム貴でりる。というのは垂直
からずれる度に、反射特性に関して制御できない状Mt
−来たすからでめる。
光源6から見て急4の後方に、モノクロメータ11と同
じm能を有する別のモノクロメータ14が配濾烙几てい
る。モノクロメータとして、干渉フィルタ、干渉グラブ
ユニライドフィルタまたは格子モノクロメータが使用嘔
れる。干渉グラブユニライドフィルタ並びに格子モノク
ロメータの透過波量は、ステップモータを用いて変える
ことができるが、藺単にするためステップモータはここ
では図示されていない。
じm能を有する別のモノクロメータ14が配濾烙几てい
る。モノクロメータとして、干渉フィルタ、干渉グラブ
ユニライドフィルタまたは格子モノクロメータが使用嘔
れる。干渉グラブユニライドフィルタ並びに格子モノク
ロメータの透過波量は、ステップモータを用いて変える
ことができるが、藺単にするためステップモータはここ
では図示されていない。
検査ガラス5の後方に残る測定光線は、破紛7bによっ
て図示さnている。この場合はi′j′r鯖透過測定で
める。即ち検量ガラス5′5を透過した、也IJ定九部
分は、モノクロメータr介して所定の波長嶽の光として
光受信器15に達する。この光受信器は、光受信器12
と同じ軸性全Mする。
て図示さnている。この場合はi′j′r鯖透過測定で
める。即ち検量ガラス5′5を透過した、也IJ定九部
分は、モノクロメータr介して所定の波長嶽の光として
光受信器15に達する。この光受信器は、光受信器12
と同じ軸性全Mする。
この光受信器の出力側は、同じく図示石れていない評価
回路を介して指示表直に徽枕名nている。
回路を介して指示表直に徽枕名nている。
m食ガラス5rX、透過測定に対しては、2つの平坦な
、即ち平滑な表面を有する。検査ガラスは、旨頴に述べ
た実施例に工れば、透過測定において目!i&較正の間
取除くこともでき、その結果数パーセントだけ大きな元
部分が光受gI器15に達する。
、即ち平滑な表面を有する。検査ガラスは、旨頴に述べ
た実施例に工れば、透過測定において目!i&較正の間
取除くこともでき、その結果数パーセントだけ大きな元
部分が光受gI器15に達する。
第1図には更に、2りの完全遮光板17&および17b
が図示されている。しかし測定のためにはその都度こn
らのうち一方のみが心安でるる。−測定を回避するため
に、斜めに組込まれた窓3を使用する場合にはこの完全
遮光板は完全遮光板17aとして、即ちVンズ10と窓
3との間に挿入されなければならないか或いは完全遮光
板は完全遮光板171)として検査ガラ2s0厘削に、
即ちg4と検査ガラス5との間に配置されなければなら
ない。完全遮光板は上記の位置において必要でろる。と
iうのは反射は検査ガラス乃至測定対[wにおいてのみ
行なわれるのではなく、斜めに使用することができない
レンズでも行なわtしるからでるる。
が図示されている。しかし測定のためにはその都度こn
らのうち一方のみが心安でるる。−測定を回避するため
に、斜めに組込まれた窓3を使用する場合にはこの完全
遮光板は完全遮光板17aとして、即ちVンズ10と窓
3との間に挿入されなければならないか或いは完全遮光
板は完全遮光板171)として検査ガラ2s0厘削に、
即ちg4と検査ガラス5との間に配置されなければなら
ない。完全遮光板は上記の位置において必要でろる。と
iうのは反射は検査ガラス乃至測定対[wにおいてのみ
行なわれるのではなく、斜めに使用することができない
レンズでも行なわtしるからでるる。
帛2の比較値工。の測定の除2りの完全遮光板17a1
7′cは17bのシち一方が、図示の矢印の方向におい
て光路8に挿入され、その結果測定光線の大部分の吸収
が行なわnる。既述のように完全遮光板は有利には、光
の吸収を最大に行なう喫形の艷消し黒板からなる〇 第2図において、第1図と同じ部分には同じ奇号が付げ
らnている。2つの光受信器12および15の出力側は
、切換スイッチ18に接続筋れている。図示の切換位置
においては透過測定が行なわれ、別の位置への切侯後元
受gI器15を用いた反射測定全実施することができる
。
7′cは17bのシち一方が、図示の矢印の方向におい
て光路8に挿入され、その結果測定光線の大部分の吸収
が行なわnる。既述のように完全遮光板は有利には、光
の吸収を最大に行なう喫形の艷消し黒板からなる〇 第2図において、第1図と同じ部分には同じ奇号が付げ
らnている。2つの光受信器12および15の出力側は
、切換スイッチ18に接続筋れている。図示の切換位置
においては透過測定が行なわれ、別の位置への切侯後元
受gI器15を用いた反射測定全実施することができる
。
切換スイッチ18から線19が制御可能な増幅器20に
4かれている。この増l1fil器は、上記の荷性七有
する。所定のpII暢度GLを設定するために、増幅器
20に線21金介して発生番22がAil置装続さnて
いる。免生器の出力側は巌23t−弁して増幅度GL金
記憶するためのメモリ24に接続さnている。その際増
l1li!腿は仮着δt′していない横置ガラスにおい
て(または検査ガラスが設けられていない除に)既述し
たよシvc第1の比較値工りを最大化したとぎに不めら
nたものでるる。
4かれている。この増l1fil器は、上記の荷性七有
する。所定のpII暢度GLを設定するために、増幅器
20に線21金介して発生番22がAil置装続さnて
いる。免生器の出力側は巌23t−弁して増幅度GL金
記憶するためのメモリ24に接続さnている。その際増
l1li!腿は仮着δt′していない横置ガラスにおい
て(または検査ガラスが設けられていない除に)既述し
たよシvc第1の比較値工りを最大化したとぎに不めら
nたものでるる。
珈暢器lυの出刃物から線25が切換スイッチ26に通
じている。切換スイッチの出力111rj。
じている。切換スイッチの出力111rj。
!27.28および29を介してメモリ30゜31およ
び32に接続されている。メモリ30に、最大可能な増
幅において増幅器が飽和領域rc陥入ることなしに求め
らiL九第1の比較値工。
び32に接続されている。メモリ30に、最大可能な増
幅において増幅器が飽和領域rc陥入ることなしに求め
らiL九第1の比較値工。
に対する記憶の九めに用いられる。メモリ31は、完全
遮光板を用いて(ま−fcは、相応に、増幅器入力側の
接地によって)得られかつ第1の比較値工、と同じ増幅
度GLによりてNi暢さ匹た′1PI2の比較11工。
遮光板を用いて(ま−fcは、相応に、増幅器入力側の
接地によって)得られかつ第1の比較値工、と同じ増幅
度GLによりてNi暢さ匹た′1PI2の比較11工。
全記憶するために用いらルる。
メモリ32は、被着された対象物が光受信器において測
定さnたその本来の(111定値工t−記憶するために
用いられる。
定さnたその本来の(111定値工t−記憶するために
用いられる。
全部のメモリ24,30.31および32は、相応のI
wft介して絆価回w&33に接続6rしている。評価
回路には、既述の訂3!を行なうi!′を其ユニットが
図示されてはいないが設けらnている。
wft介して絆価回w&33に接続6rしている。評価
回路には、既述の訂3!を行なうi!′を其ユニットが
図示されてはいないが設けらnている。
評価回路33から、制#巌34が2りのモノクロメータ
11および14に、これらが所定の波長に設定されるか
または所定の狭長スペクトル金カバーするために市1」
御ちnるように、導ρ為nている。帰還路35が、増幅
度発生器22に導か八ている。このようにして、評価回
路33によって増Ii@i1度がまさに第1の比較値几
が増−器20が飽和狽域に移行する前に肝容値に達する
程度に萬く選択ちnるようにできる。
11および14に、これらが所定の波長に設定されるか
または所定の狭長スペクトル金カバーするために市1」
御ちnるように、導ρ為nている。帰還路35が、増幅
度発生器22に導か八ている。このようにして、評価回
路33によって増Ii@i1度がまさに第1の比較値几
が増−器20が飽和狽域に移行する前に肝容値に達する
程度に萬く選択ちnるようにできる。
評価回路33は、線36を介して指示装置13に接続さ
扛ている。指示装置はI[ll像スクリーンとして図示
されているが、力えは所定の波長において咄−の測定1
区の;9−を指示ることがi女でるるときは、座標−6
己録装置、プリンタまたはデジタル指示装置を代わりに
使用するこもできる。
扛ている。指示装置はI[ll像スクリーンとして図示
されているが、力えは所定の波長において咄−の測定1
区の;9−を指示ることがi女でるるときは、座標−6
己録装置、プリンタまたはデジタル指示装置を代わりに
使用するこもできる。
第6図では、@座惺が波長全示し、−刀帳座標には第1
の比較値および第2の比較値並びに増幅度GLが経過に
応じて図示δnでいる。測定原理のみを明らかにすnは
よいので、測定単位は省略嘔nている。第1の比較値工
、に対する曲線36は、相応の増幅による保持により殆
んど水平方向に延びていることがわかる。大体類似の経
過を、第2の比較値工。に対する曲線3Tも有する。こ
nに対して全く別の経過を有するのは工、に対する可能
な最大値t−得るために設定さnなけnばならない必要
な増幅度を懺わす、増幅度GLに対する曲[38でbる
。この曲線は、囲者な最小値を有する。
の比較値および第2の比較値並びに増幅度GLが経過に
応じて図示δnでいる。測定原理のみを明らかにすnは
よいので、測定単位は省略嘔nている。第1の比較値工
、に対する曲線36は、相応の増幅による保持により殆
んど水平方向に延びていることがわかる。大体類似の経
過を、第2の比較値工。に対する曲線3Tも有する。こ
nに対して全く別の経過を有するのは工、に対する可能
な最大値t−得るために設定さnなけnばならない必要
な増幅度を懺わす、増幅度GLに対する曲[38でbる
。この曲線は、囲者な最小値を有する。
m4図において横座握はここでも波長を表わし、一方縦
座標は、被着避nている検量ガラスにおいて測光装置出
力側で測定式する測定値工の経過並びに絶対透過T乃並
反射値Rを示す。
座標は、被着避nている検量ガラスにおいて測光装置出
力側で測定式する測定値工の経過並びに絶対透過T乃並
反射値Rを示す。
曲線39は、反射乃至透過のスペクトル依存性t−表わ
す測定値工のスペクトル経過を示すが、その際被着方法
の結果の基本的な判断のみを可能にする相対値でしかな
い。しかし既述のli′i%プロセスに基ついてaa巌
4Oとして、透過乃至反射値T、Hのスペクトル依存度
が絶対値として示される。曲線40は曲線39に類似し
ているが、変化する増幅度(第6図のh線38)に基づ
いて相応に校正されており、μpち曲[39は絶対曲#
JI40に比べると1歪んでいる”
す測定値工のスペクトル経過を示すが、その際被着方法
の結果の基本的な判断のみを可能にする相対値でしかな
い。しかし既述のli′i%プロセスに基ついてaa巌
4Oとして、透過乃至反射値T、Hのスペクトル依存度
が絶対値として示される。曲線40は曲線39に類似し
ているが、変化する増幅度(第6図のh線38)に基づ
いて相応に校正されており、μpち曲[39は絶対曲#
JI40に比べると1歪んでいる”
第1図は、A窒−破着装置に接続さ2″している本発明
の測光装置の実施例の概略金示す図でめり、第2図は評
価回路および指示表直に接続さnている第1図の装置の
1賛な部分を示す図および所属の回路のグロック図でる
り、第6図に、被着された対象物における第1の比較値
および第2の比較値並びに増幅度の間の関係が、波長に
関連して図示さnている曲巌図でりり、第4図q工、光
受信器において測定さn九、被着さnた対象物の測定値
と、1−示表はにぶって表示される、絶対透過乃至反射
値とのg@%が、第6図と同じく波長に関して図示塾1
でいる日−図でめる。 1・・・真壁−蒸層装置、l・・・真壁室、5.5&。 5b・・・検量ガラス、γ、7a、7b・・・測定元−
111,14・・・モノクロメータ、12.15・・・
元受igi、13 、16−指示装置、17a、17k
)・・・逃九板、18.26・・・切換スイッチ、20
・・・増幅器、22・・・増幅度発生器、24,3Ll
。 31.32・・・メモリ、33・・・絆11111に!
21路、34・・・1euet+線、35・・・帰R路
、G1・・・増幅度、工、・・・第1の比較値、工。・
・・第2の比較値、工、・・・測定イば、工・・・増幅
ちれた測定値
の測光装置の実施例の概略金示す図でめり、第2図は評
価回路および指示表直に接続さnている第1図の装置の
1賛な部分を示す図および所属の回路のグロック図でる
り、第6図に、被着された対象物における第1の比較値
および第2の比較値並びに増幅度の間の関係が、波長に
関連して図示さnている曲巌図でりり、第4図q工、光
受信器において測定さn九、被着さnた対象物の測定値
と、1−示表はにぶって表示される、絶対透過乃至反射
値とのg@%が、第6図と同じく波長に関して図示塾1
でいる日−図でめる。 1・・・真壁−蒸層装置、l・・・真壁室、5.5&。 5b・・・検量ガラス、γ、7a、7b・・・測定元−
111,14・・・モノクロメータ、12.15・・・
元受igi、13 、16−指示装置、17a、17k
)・・・逃九板、18.26・・・切換スイッチ、20
・・・増幅器、22・・・増幅度発生器、24,3Ll
。 31.32・・・メモリ、33・・・絆11111に!
21路、34・・・1euet+線、35・・・帰R路
、G1・・・増幅度、工、・・・第1の比較値、工。・
・・第2の比較値、工、・・・測定イば、工・・・増幅
ちれた測定値
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、測定光線、前以つて決められた測定光−波長の選択
に対するモノクロメータ、光受信器、調節可能な増幅器
および評価回路を使用して、第1の比較値I_L、第2
の比較値I_Oおよび被着された対象物の透過特性に対
する少なくとも1つの測定値を検出することによつて、
それぞれの測定値を前以つて決められた測定光−波長に
対応して真空−被着装置において被着される光学的に作
用する層をその形成期間連続的に厚さ測定しかつ制御す
る、基板に被着物を被着する方法において、 1.1最高2%の偏差で少なくとも10^2にわたつて
リニヤな特性曲線を有する増幅度 Gの調節可能な増幅器を使用し、 1.2 前記増幅度Gを対応ける波長において、前記第
1の比較値I_Lが前記増幅器のリニヤな領域において
最大値に達するまで高め、 かつ該最大値およびこのように求められた 所属の増幅度G_Lをメモリに記憶し、 1.3前記第2の比較値I_O透過形測定において、増
幅器入力側を遮断するかまたは 測定光線中に完全遮光板を挿入することに よつて形成し、かつ 該第2の比較値I_Oを、第1の比較値I_Lと同じ増
幅度で増幅して別のメモリに記憶 し、その結果その後量G_L、I_LおよびI_Oが所
属の波長に応じて記憶されているよう にし、かつそれぞれの波長における測定目 的のために 1.4G_Lに対して記憶されている値を計算ユニツト
によつて脱出しかつリニヤな領域 において変化する増幅度Gを次の式 G=G_L・T_L に従つて求めかつ引続いてその都度の波長 に対応する、測定値I_Mとその都度の増幅度Gとから
成る積Iを形成しかつI_LおよびI_Oに対して記憶
されている値並びにIに対する値を計算ユニットによつ
て読出し、その際 絶対透過値Tを次の式 T=I−I_O・T_L/I_L−I_O に従つて求め、その際 I_Mは、光受信器における被着された対象物の測定値
であり、 Iは、被着された対象物の測定値I_Mに増幅度Gを乗
算した値であり、 T_Lは、被着されていない検査ガラスの透過値または
検査ガラスの設けられていない 場合の透過値である、 ことを特徴とする基板の被着方法。 2、測定値Iを同じくメモリに記憶しかつ1.4に に記載。計算操作のため計算ユニットによ りて読出す特許請求の範囲第1項記載の基板に被着物を
被着する方法。 3、測定光線を放射するための光源、モノクロメータ、
光受信器、増幅器および指示装置に対する出力側を有す
る評価回路および/または調整回路が設けられている、
基板に被着物を被着する方法を実施する際の層厚測定用
測光装置において、 3.1増幅器(20)はその増幅度に関して、最高2%
の偏差で少なくとも10^2にわたつてリニヤである特
性曲線を有し、 6.2光受信器(15)によりて受信される測定光の強
度に関する第1の比較値I_Lを形成するために、光路
(8)に挿入可能な被着されていない検量ガラス(5)
が設けられており、3.3同じ光受信器によつて受信さ
れた測定光の強度に対する第2の比較値I_Oを形成す
るために、光路(8)に挿入可能な完全遮光板(17b
)が設けられており、該遮光板は光受信器(15)に当
たる測定光を実際に完全に吸収する作用をし、 3.4第1の比較値I_Lに対するメモリ(30)およ
び第2の比較値I_Oに対するメモリ(31)並びに増
幅度に比例する信号に対するメモリ(24)が設けられ
ており、その際2つの比較値に対するメモリ(30、3
1)は増幅器(20)に装置接続されており、および増
幅度に対するメモリ(24)は、増幅度発生器(22)
に装置接続されており、 3.52つの比較値に対するメモリ(30、31)およ
び増幅度に対するメモリ(24)は、評価回路(33)
に所属する計算ユニットに接続されており、 3、6計算ユニツトは、増幅度がI_Lに対する可能な
最大値に相応して設定可能であるように、増幅度発生器
(22)への帰還路(35)を有し、 3.7計算ユニットは、メモリ(30、31)に存在す
る第1の比較値および第2の比較値に対する信号並びに
測定値Iから、その都度同じ増幅度に対する絶対透過値
が検出可能でありかつメモリ(24)に存在する、増幅
度G_Lに対する信号から、第1の比較値に対する透過
値を考慮して、透過値T_Lと増幅度G_Lとの乗算に
よつて絶対透過値が検出可能であるように構成されてい
ることを特徴とする測光装置。 4、増幅器(20)と計算ユニット(33)との間に、
測定値I_Mに増幅度Gを乗算した値Iに対する別のメ
モリ(32)が設けられている特許請求の範囲第3項記
載の測光装置。 5、評価回路(33)は制御線(34)を介して、選択
的に測定光線の所定の波長を設定可能であるかまたは選
択されたスペクトルをカバー可能でるるように、モノク
ロメータ(14)に接続されている特許請求の範囲第3
項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3135443.2 | 1981-09-08 | ||
| DE19813135443 DE3135443A1 (de) | 1981-09-08 | 1981-09-08 | Verfahren und fotometrische anordnung zur dickenmessung und -steuerung optisch wirksamer schichten |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57155296A Division JPS5855706A (ja) | 1981-09-08 | 1982-09-08 | 基板へ被着物を被着する方法および測光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03135703A true JPH03135703A (ja) | 1991-06-10 |
| JPH0439004B2 JPH0439004B2 (ja) | 1992-06-26 |
Family
ID=6141084
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57155296A Granted JPS5855706A (ja) | 1981-09-08 | 1982-09-08 | 基板へ被着物を被着する方法および測光装置 |
| JP2135534A Granted JPH03135703A (ja) | 1981-09-08 | 1990-05-28 | 基板へ被着物を被着する方法および測光装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57155296A Granted JPS5855706A (ja) | 1981-09-08 | 1982-09-08 | 基板へ被着物を被着する方法および測光装置 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4469713A (ja) |
| JP (2) | JPS5855706A (ja) |
| CA (1) | CA1203598A (ja) |
| CH (1) | CH669662A5 (ja) |
| DE (1) | DE3135443A1 (ja) |
| FR (1) | FR2512545B1 (ja) |
| GB (1) | GB2105461B (ja) |
| NL (1) | NL191186C (ja) |
| SU (1) | SU1584759A3 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4643910A (en) * | 1985-04-01 | 1987-02-17 | Motorola Inc. | Process for curing polyimide |
| EP0290657A1 (de) * | 1987-05-15 | 1988-11-17 | KSB Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der optischen Eigenschaften von dünnen Schichten |
| US4837044A (en) * | 1987-01-23 | 1989-06-06 | Itt Research Institute | Rugate optical filter systems |
| JPH02257929A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-10-18 | Makutaa Kk | 生体透過率測定器 |
| US5101111A (en) * | 1989-07-13 | 1992-03-31 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of measuring thickness of film with a reference sample having a known reflectance |
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