JPH03138919A - 粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法 - Google Patents
粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法Info
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- JPH03138919A JPH03138919A JP1277435A JP27743589A JPH03138919A JP H03138919 A JPH03138919 A JP H03138919A JP 1277435 A JP1277435 A JP 1277435A JP 27743589 A JP27743589 A JP 27743589A JP H03138919 A JPH03138919 A JP H03138919A
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- semiconductor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、粒界に拡散剤を熱拡散させて、その粒界領域
に絶縁層を形成した粒界層型半導体磁器を用いたコンデ
ンサの製造方法に関するものである。
に絶縁層を形成した粒界層型半導体磁器を用いたコンデ
ンサの製造方法に関するものである。
従来の技術
以下従来の粒界層型半導体コンデンサの製造方法を説明
する。先ず半導体磁器の製造方法について説明する。純
度99%のS r 03.T + 02NbxOs等の
粉末を湿式混合し乾燥させる。次に1200℃で仮焼し
て、5rO−Ti02−Nb、 os系仮焼原料粉末を
形成する。次にこの仮焼原料粉末を平均粒径が2.5μ
mとなるように粉砕し、その後にバインダーとしてポリ
ビニールアルコール水溶液を添加混合して32メツシユ
パスに整粒する。そしてその整粒粉末を、直径9゜6m
m、厚さ0.5mmの円板型に成形する。このとき整粒
粉末に1000kg/cmユの圧力を加えて成形した。
する。先ず半導体磁器の製造方法について説明する。純
度99%のS r 03.T + 02NbxOs等の
粉末を湿式混合し乾燥させる。次に1200℃で仮焼し
て、5rO−Ti02−Nb、 os系仮焼原料粉末を
形成する。次にこの仮焼原料粉末を平均粒径が2.5μ
mとなるように粉砕し、その後にバインダーとしてポリ
ビニールアルコール水溶液を添加混合して32メツシユ
パスに整粒する。そしてその整粒粉末を、直径9゜6m
m、厚さ0.5mmの円板型に成形する。このとき整粒
粉末に1000kg/cmユの圧力を加えて成形した。
次にこの様に形成された円板型の成形体の中のバインダ
ーを取り除くために1000℃の温度で、しかも空気中
で加熱処理をした。その後に窒素90%、水素10%の
混合ガス気流中において1400℃の温度で4時間焼成
する。この時成形体は直径8mm厚さ0.43mmの円
板型になる。
ーを取り除くために1000℃の温度で、しかも空気中
で加熱処理をした。その後に窒素90%、水素10%の
混合ガス気流中において1400℃の温度で4時間焼成
する。この時成形体は直径8mm厚さ0.43mmの円
板型になる。
次に拡散剤の製造方法を説明する。
先ず、拡散物となるBi2O3とCu2Oをそれぞれ3
5mo1%、65mo1%の割合で混合した粉体に、溶
剤となる松やにやテレピン油等を適量加えて混合し、ペ
ースト状にする。
5mo1%、65mo1%の割合で混合した粉体に、溶
剤となる松やにやテレピン油等を適量加えて混合し、ペ
ースト状にする。
次に以上の様に構成された半導体磁器及び拡散剤を用い
た粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法を説明する
。
た粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法を説明する
。
半導体磁器に拡散剤をスプレー等により吹き付けたり、
又拡散剤の中に半導1体磁器を浸したりして、拡散剤を
半導体磁器に付着させる。次に拡散剤が付着した半導体
磁器を250℃から300℃の温度でしかも空気中で加
熱処理をして拡散剤を乾燥させ、半導体磁器の表面に拡
散層を形成する。次に空気中にて1050℃から115
0℃の温度で加熱処理をして、半導体磁器の粒界に拡散
層の中の拡散物を拡散させるとともに、溶剤を取り除く
。次に銀とビヒクルと有機溶剤を混合したペーストを半
導体磁器に付着させ、加熱処理を行って電極を形成する
。次に電極に半田付けによってリードを接続し、その後
に洗浄、乾燥を行う。次に半導体磁器及び近傍にエポキ
シ樹脂等を付着させ、熱硬化させて、半導体磁器が損傷
しないように保護する。最後に防湿処理を行って、粒界
層型半導体磁器コンデンサを作成していた。
又拡散剤の中に半導1体磁器を浸したりして、拡散剤を
半導体磁器に付着させる。次に拡散剤が付着した半導体
磁器を250℃から300℃の温度でしかも空気中で加
熱処理をして拡散剤を乾燥させ、半導体磁器の表面に拡
散層を形成する。次に空気中にて1050℃から115
0℃の温度で加熱処理をして、半導体磁器の粒界に拡散
層の中の拡散物を拡散させるとともに、溶剤を取り除く
。次に銀とビヒクルと有機溶剤を混合したペーストを半
導体磁器に付着させ、加熱処理を行って電極を形成する
。次に電極に半田付けによってリードを接続し、その後
に洗浄、乾燥を行う。次に半導体磁器及び近傍にエポキ
シ樹脂等を付着させ、熱硬化させて、半導体磁器が損傷
しないように保護する。最後に防湿処理を行って、粒界
層型半導体磁器コンデンサを作成していた。
発明が解決しようとする課題
しかしながら前記従来の方法では、拡散剤を半導体磁器
に付着させた時に、拡散剤の中の拡散物が一様に分散し
ておらず、コロニーのようにかたまってしまうので、拡
散層を形成した時点で、拡散層の中の拡散物の分布が不
均一になっており、熱処理をして半導体磁器の粒界に拡
散物を拡散させた時に、拡散物が一様に半導体磁器の中
に拡散せず、むらが生じるためにコンデンサの特性が悪
くなるという問題点を有していた。
に付着させた時に、拡散剤の中の拡散物が一様に分散し
ておらず、コロニーのようにかたまってしまうので、拡
散層を形成した時点で、拡散層の中の拡散物の分布が不
均一になっており、熱処理をして半導体磁器の粒界に拡
散物を拡散させた時に、拡散物が一様に半導体磁器の中
に拡散せず、むらが生じるためにコンデンサの特性が悪
くなるという問題点を有していた。
本発明は前記従来の問題点を解決しようとするもので、
半導体磁器の中に一様に拡散物を拡散させ、特性の良い
粒界層型半導体磁器コンデンサを作成できる製造方法を
提供する事を目的としている。
半導体磁器の中に一様に拡散物を拡散させ、特性の良い
粒界層型半導体磁器コンデンサを作成できる製造方法を
提供する事を目的としている。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために、有機物質と拡散物を混合し
た粉末状の拡散剤を半導体磁器に付着させ、半導体磁器
に熱を加えて半導体磁器表面に拡散層を形成し、その後
に拡散層の中の拡散物を半導体磁器に拡散させた。
た粉末状の拡散剤を半導体磁器に付着させ、半導体磁器
に熱を加えて半導体磁器表面に拡散層を形成し、その後
に拡散層の中の拡散物を半導体磁器に拡散させた。
作 用
この構成により、拡散層の中に一様に拡散物を分布させ
る事ができる。
る事ができる。
実施例
以下本発明の一実施例における粒界層型半導体磁器コン
デンサの製造方法について説明する。
デンサの製造方法について説明する。
半導体磁器は材料及び製造方法は従来と同じである。
拡散剤は以下の様に形成する。
先ず拡散物としてBiユ 03の粉末を35m01%と
CuユOの粉末を65mo1%を円筒状の容器に入れる
。そしてその容器の中に水とプラスチックでできたボー
ルを入れ、容器を回転させてatJo3やCu2Oをか
くはん混合する。次にこのか(はん混合したものを乾燥
させ粉末にする。その粉末とナイロン等の熱可塑性プラ
スチックにバインダとしてポリビニルアルコールを添加
して混練する。この時粉末を5重量%、バインダを0.
2重量%、ナイロンを94.8重量%の割合にする。次
にこの混練物を凍結乾燥によって粉末にする。そしてそ
の時の粉末の平均粒径を50μmとして粒度分布をそろ
える。この様に拡散剤を形成する。
CuユOの粉末を65mo1%を円筒状の容器に入れる
。そしてその容器の中に水とプラスチックでできたボー
ルを入れ、容器を回転させてatJo3やCu2Oをか
くはん混合する。次にこのか(はん混合したものを乾燥
させ粉末にする。その粉末とナイロン等の熱可塑性プラ
スチックにバインダとしてポリビニルアルコールを添加
して混練する。この時粉末を5重量%、バインダを0.
2重量%、ナイロンを94.8重量%の割合にする。次
にこの混練物を凍結乾燥によって粉末にする。そしてそ
の時の粉末の平均粒径を50μmとして粒度分布をそろ
える。この様に拡散剤を形成する。
次に以上の様に形成された半導体磁器と拡散剤を混合し
て均一かくはんし拡散剤が一様に半導体磁器に付着する
ようにする。次に拡散剤が付着した半導体磁器を200
℃〜250℃の温度で、しかも大気中で加熱する。する
と拡散剤中のナイロンが柔らかくなって半導体磁器表面
に拡散剤が固定され、拡散層を形成する。次に1050
℃〜1150℃の温度で拡散層が形成された半導体磁器
を大気中で熱処理をする。すると、拡散層の中のナイロ
ンが拡散層外に放出されるとともに、拡散層内の拡散物
が半導体磁器の粒界に拡散してい(。この様な工程を経
た半導体磁器を、従来と同じ様に銀とビヒクルと有機溶
剤を混合したペーストを半導体磁器に付着させ、加熱処
理を行って電極を形成し、次に電極に半田付けによって
リードを接続し、その後に洗浄、乾燥を行い、半導体磁
器の回りにエポキシ樹脂等を付着させ、熱硬化させて、
半導体磁器が損傷しないように保護し、最後に防湿処理
を行って粒界層型半導体磁器コンデンサを作成する。
て均一かくはんし拡散剤が一様に半導体磁器に付着する
ようにする。次に拡散剤が付着した半導体磁器を200
℃〜250℃の温度で、しかも大気中で加熱する。する
と拡散剤中のナイロンが柔らかくなって半導体磁器表面
に拡散剤が固定され、拡散層を形成する。次に1050
℃〜1150℃の温度で拡散層が形成された半導体磁器
を大気中で熱処理をする。すると、拡散層の中のナイロ
ンが拡散層外に放出されるとともに、拡散層内の拡散物
が半導体磁器の粒界に拡散してい(。この様な工程を経
た半導体磁器を、従来と同じ様に銀とビヒクルと有機溶
剤を混合したペーストを半導体磁器に付着させ、加熱処
理を行って電極を形成し、次に電極に半田付けによって
リードを接続し、その後に洗浄、乾燥を行い、半導体磁
器の回りにエポキシ樹脂等を付着させ、熱硬化させて、
半導体磁器が損傷しないように保護し、最後に防湿処理
を行って粒界層型半導体磁器コンデンサを作成する。
本実施例によれば、拡散物とナイロンにバインダを添加
して形成された粉末の拡散剤を、半導体磁器でできた半
導体磁器に一様に付着させ、熱処理によって粉末の拡散
剤を柔らか(して、半導体磁器表面に拡散層を形成し、
その後に半導体磁器の粒界に拡散物を拡散させる事によ
り、拡散層の中に拡散物が一様に分布した状態となり、
半導体磁器の粒界に一様に拡散物が拡散し、特性の良い
粒界層型半導体磁器コンデンサを得る事ができる。
して形成された粉末の拡散剤を、半導体磁器でできた半
導体磁器に一様に付着させ、熱処理によって粉末の拡散
剤を柔らか(して、半導体磁器表面に拡散層を形成し、
その後に半導体磁器の粒界に拡散物を拡散させる事によ
り、拡散層の中に拡散物が一様に分布した状態となり、
半導体磁器の粒界に一様に拡散物が拡散し、特性の良い
粒界層型半導体磁器コンデンサを得る事ができる。
以下従来と本実施例のそれぞれの粒界層型半導体磁器コ
ンデンサの特性を比較する。
ンデンサの特性を比較する。
先ず第1表に示す割合で形成された拡散剤のサンプルA
、B、Cを作成する。この表で拡散物とはBi2O3の
粉末を35mo1%とCu2Oの粉末を65mo1%を
混合したものである。またプラスチックはナイロンを用
いた (以 下 余 白) (以下余白) 第1表 従来の拡散物としては拡散物となるBt203を35m
o1%、Cu2Oを65mo1%よりなる酸化物粉体に
、溶剤となる松やにやテレピン油等を適量加えてペース
ト状にしたものを用意した。
、B、Cを作成する。この表で拡散物とはBi2O3の
粉末を35mo1%とCu2Oの粉末を65mo1%を
混合したものである。またプラスチックはナイロンを用
いた (以 下 余 白) (以下余白) 第1表 従来の拡散物としては拡散物となるBt203を35m
o1%、Cu2Oを65mo1%よりなる酸化物粉体に
、溶剤となる松やにやテレピン油等を適量加えてペース
ト状にしたものを用意した。
この様に形成された従来及び本実施例のそれぞれの拡散
剤を同一材料同一製造方法によって構成された半導体磁
器でできた半導体磁器に付着させ、それぞれの半導体磁
器に拡散層を形成し第2表に示す条件で拡散物を粒界の
中に拡散させた。
剤を同一材料同一製造方法によって構成された半導体磁
器でできた半導体磁器に付着させ、それぞれの半導体磁
器に拡散層を形成し第2表に示す条件で拡散物を粒界の
中に拡散させた。
この表に示す拡散剤量というのは拡散物に換算した半導
体磁器1枚当たりの量である。ここでサンプルナンバー
1から8までは本実施例で、ナンバー9からナンバー1
4までは従来のものである。
体磁器1枚当たりの量である。ここでサンプルナンバー
1から8までは本実施例で、ナンバー9からナンバー1
4までは従来のものである。
(以 下 余 白〉
第2表
(以下余白)
第3表
(以下余白)
この様に形成された各サンプルを用いて粒界層型半導体
磁器コンデンサを作成し、それらの特性を測定し、第3
表に示す。
磁器コンデンサを作成し、それらの特性を測定し、第3
表に示す。
(以
下
余
白)
第3表においてサンプルナンバー1から8までは本実施
例によって作成されたコンデンサで、ナンバー9から1
4までは従来のコンデンサである。先ずみかけの誘電率
に注目してみる。本実施例によって作成されたのサンプ
ル、すなわちナンバー1から8までは4000以上であ
るが従来のサンプルはナンバー14を除いてほとんど4
000以下である。次にtanδに注目してみる。ta
nδは90度からの位相のずれがどれほどかを表したも
ので、このtanδは小さいほどより高周波帯域で使用
できるコンデンサである事を示している。この場合でも
本実施例によって作成されたサンプルは全部0.3%で
あるのに対し、従来のサンプルは2倍〜3倍大きい。す
なわち本実施例によって作成されたコンデンサは従来の
コンデンサよりもより高周波帯域で使用する事が可能で
ある事が分かる。次に昇圧破壊電圧に注目してみる。し
かじ昇圧破壊電圧に関しては本実施例によって出来たコ
ンデンサも従来のコンデンサもほとんど同じ特性を示し
ている。次に静電容量の温度依存性に注目してみる。静
電容量の温度依存性というのは、20℃の時の静電容量
を基準とした時の一25℃及び85℃の時の静電容量の
変化を測定したものである。例えばサンプル1を例にと
って説明すると、−25℃の時の静電容量は20℃の時
の静電容量より4%大きくなっているという事である。
例によって作成されたコンデンサで、ナンバー9から1
4までは従来のコンデンサである。先ずみかけの誘電率
に注目してみる。本実施例によって作成されたのサンプ
ル、すなわちナンバー1から8までは4000以上であ
るが従来のサンプルはナンバー14を除いてほとんど4
000以下である。次にtanδに注目してみる。ta
nδは90度からの位相のずれがどれほどかを表したも
ので、このtanδは小さいほどより高周波帯域で使用
できるコンデンサである事を示している。この場合でも
本実施例によって作成されたサンプルは全部0.3%で
あるのに対し、従来のサンプルは2倍〜3倍大きい。す
なわち本実施例によって作成されたコンデンサは従来の
コンデンサよりもより高周波帯域で使用する事が可能で
ある事が分かる。次に昇圧破壊電圧に注目してみる。し
かじ昇圧破壊電圧に関しては本実施例によって出来たコ
ンデンサも従来のコンデンサもほとんど同じ特性を示し
ている。次に静電容量の温度依存性に注目してみる。静
電容量の温度依存性というのは、20℃の時の静電容量
を基準とした時の一25℃及び85℃の時の静電容量の
変化を測定したものである。例えばサンプル1を例にと
って説明すると、−25℃の時の静電容量は20℃の時
の静電容量より4%大きくなっているという事である。
又85℃の時の静電容量は20℃の時の静電容量より3
%小さ(なっているという事である。コンデンサとは温
度変化しても静電容量があまり変化しないのが良いもの
である。従って本実施例によって作成されたコンデンサ
は全て静電容量の変化が10パーセント以下であり、優
れた特性を示している。従来のサンプルナンバー9.1
0も同じ様に温度に対する静電容量の・変化は小さいが
、これらのサンプルの場合みかけの誘電率やtanδが
悪い。この様に本実施例によって作成されたコンデンサ
が従来のコンデンサよりも特性が優れているのは、半導
体磁器の粒界に一様に拡散物が入りこんでいるからだと
思われる。
%小さ(なっているという事である。コンデンサとは温
度変化しても静電容量があまり変化しないのが良いもの
である。従って本実施例によって作成されたコンデンサ
は全て静電容量の変化が10パーセント以下であり、優
れた特性を示している。従来のサンプルナンバー9.1
0も同じ様に温度に対する静電容量の・変化は小さいが
、これらのサンプルの場合みかけの誘電率やtanδが
悪い。この様に本実施例によって作成されたコンデンサ
が従来のコンデンサよりも特性が優れているのは、半導
体磁器の粒界に一様に拡散物が入りこんでいるからだと
思われる。
なお本実施例においてナイロンを用いたが、熱可塑性プ
ラスチックであればなんでもよい。但し加熱すると有毒
ガスを発生するものは実用的でない。又紙等のセルロー
ス系繊維をナイロンの代りに用いても同様の効果が得ら
れた。又拡散剤にBi −CU系を用いたが他の成分で
も同じ結果が得られる事は言うまでもない。
ラスチックであればなんでもよい。但し加熱すると有毒
ガスを発生するものは実用的でない。又紙等のセルロー
ス系繊維をナイロンの代りに用いても同様の効果が得ら
れた。又拡散剤にBi −CU系を用いたが他の成分で
も同じ結果が得られる事は言うまでもない。
発明の効果
本発明は有機物質と拡散物を混合した粉末状の拡散剤を
半導体磁器に付着させ、半導体磁器1;熱を加えて半導
体磁器表面に拡散層を形成し、その後に拡散層の中の拡
散物を半導体磁器に拡散、させた事により、拡散物を拡
散層の中に一様に分布、〜せる事ができるので、拡散物
を半導体磁器の粒71+にむらなく一様に分布させる事
ができ、優れた特性を持った粒界層型半導体磁器コンデ
ンサを作成する事ができる。
半導体磁器に付着させ、半導体磁器1;熱を加えて半導
体磁器表面に拡散層を形成し、その後に拡散層の中の拡
散物を半導体磁器に拡散、させた事により、拡散物を拡
散層の中に一様に分布、〜せる事ができるので、拡散物
を半導体磁器の粒71+にむらなく一様に分布させる事
ができ、優れた特性を持った粒界層型半導体磁器コンデ
ンサを作成する事ができる。
Claims (4)
- (1)半導体磁器に、有機物質と拡散物を混合した粉末
状の拡散剤を付着させ、前記半導体磁器に熱を加えて前
記半導体磁器表面に拡散層を形成し、その後に前記拡散
層の中の拡散物を前記半導体磁器に拡散させ、前記半導
体磁器に電極を形成する事を特徴とする粒界層型半導体
磁器コンデンサの製造方法。 - (2)拡散物は金属酸化物である事を特徴とする請求項
第1項記載の粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法
。 - (3)有機物質は熱可塑性プラスチックである事を特徴
とする請求項第1項記載の粒界層型半導体磁器コンデン
サの製造方法。 - (4)有機物質はセルロース系繊維である事を特徴とす
る請求項第1項記載の粒界層型半導体磁器コンデンサの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1277435A JPH03138919A (ja) | 1989-10-24 | 1989-10-24 | 粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1277435A JPH03138919A (ja) | 1989-10-24 | 1989-10-24 | 粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03138919A true JPH03138919A (ja) | 1991-06-13 |
Family
ID=17583524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1277435A Pending JPH03138919A (ja) | 1989-10-24 | 1989-10-24 | 粒界層型半導体磁器コンデンサの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03138919A (ja) |
-
1989
- 1989-10-24 JP JP1277435A patent/JPH03138919A/ja active Pending
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