JPH03140380A - 表面保護膜形成用組成物 - Google Patents
表面保護膜形成用組成物Info
- Publication number
- JPH03140380A JPH03140380A JP1279501A JP27950189A JPH03140380A JP H03140380 A JPH03140380 A JP H03140380A JP 1279501 A JP1279501 A JP 1279501A JP 27950189 A JP27950189 A JP 27950189A JP H03140380 A JPH03140380 A JP H03140380A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- protective film
- acrylic
- surface protective
- forming
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光カード、フレキシブルディスク等における
表面保護膜形成用組成物に関する。
表面保護膜形成用組成物に関する。
従来、この種表面保護膜形成用組成物としては、常温及
び熱硬化型のシリコーン樹脂、メラミン樹脂、更に紫外
線又は電子線硬化型のウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレート、多官能性アクリレートが知られている。
び熱硬化型のシリコーン樹脂、メラミン樹脂、更に紫外
線又は電子線硬化型のウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレート、多官能性アクリレートが知られている。
しかしながら、常温硬化型の場合には、硬化に時間を要
し、基材積載時にプロンキング等の問題を有しており、
また熱硬化型の場合は硬化に１００℃以上の温度を必要
とするため、基材としてアクリル樹脂等の熱に弱い樹脂
を使用できない問題がある。
し、基材積載時にプロンキング等の問題を有しており、
また熱硬化型の場合は硬化に１００℃以上の温度を必要
とするため、基材としてアクリル樹脂等の熱に弱い樹脂
を使用できない問題がある。
一方、紫外線又は電子線硬化型樹脂を使用する場合には
、一般に粘度の高い樹脂が使用されているために膜厚が
厚くなり、カード、ディスク等の表面保護層に適用した
場合に、折り曲げによりひびがはいるという問題がある
。そのため粘度を低下させることによりこの問題を回避
する試みもなされているが、低粘度モノマーにより希釈
されて使用されているため、低粘度モノマーが樹脂硬化
後も残存するために保護層の硬度を低下させるという問
題がある。
、一般に粘度の高い樹脂が使用されているために膜厚が
厚くなり、カード、ディスク等の表面保護層に適用した
場合に、折り曲げによりひびがはいるという問題がある
。そのため粘度を低下させることによりこの問題を回避
する試みもなされているが、低粘度モノマーにより希釈
されて使用されているため、低粘度モノマーが樹脂硬化
後も残存するために保護層の硬度を低下させるという問
題がある。
そのため、本発明は薄膜に表面保護層を形成することが
でき、高硬度で、かつ折り曲げ等によりひび等が生じな
い表面保護膜形成用組成物の捉供を課題とする。
でき、高硬度で、かつ折り曲げ等によりひび等が生じな
い表面保護膜形成用組成物の捉供を課題とする。
〔課題を解決するための手段］
そのため本発明の表面保護膜形成用組成物は、基材表面
に塗布され、電層性放射線照射により硬化される表面保
護膜形成用組成物であって、アクリル当量（−分子量／
アクリル官能基数）１３０以下で、アクリル官能基数が
３以上であるアクリル酸、又はメタクリル酸のエステル
モノマー、又はオリゴマーと、その低沸点溶剤とからな
ることを特徴とする。
に塗布され、電層性放射線照射により硬化される表面保
護膜形成用組成物であって、アクリル当量（−分子量／
アクリル官能基数）１３０以下で、アクリル官能基数が
３以上であるアクリル酸、又はメタクリル酸のエステル
モノマー、又はオリゴマーと、その低沸点溶剤とからな
ることを特徴とする。
本発明の表面保護膜形成用組成物におけるアクリル酸エ
ステルモノマーとしては、アクリル当量１３０以下で、
アクリル官能基数が３以上のものであり、例えば下記の
構造式を有するものである。
ステルモノマーとしては、アクリル当量１３０以下で、
アクリル官能基数が３以上のものであり、例えば下記の
構造式を有するものである。
また上記モノマーのみでなく、オリゴマーを使用するこ
とができる。
とができる。
■、ジペンタエリスリトールへキサアクリレニド（以下
、Ｄ Ｐ ＨＡという） 分子量／官能基数 ９６、官能基数 ６■、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート（以下、ＤＰＰＡとい
う） ＣＨｚＯＣＯ（ＪｂＣＨｚ ＣＨｚＯＣＯＣＨ−ＣＨ
ｚ分子量／官能基数 １０５、官能基数 ５■、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレートＣＨｚＯＣＯＣＬＣ
Ｌ ＣＩｈ□ＣＨＣＯＯＣＨｚ−ＣＣＨｚＯＣＯＣｌｌ−Ｃ
ＬＣｌ１ｚＯＣＯＣＩｂＣｌｈ 分子量／官能基数 ８８、官能基数 ４■、ペンタエリ
スリトールトリアクリレートＣＨｚＯＣＯＣｔｌ−ＣＩ
Ｉｚ ｔｌＯｃＨｚ−Ｃ−ＣＬＯＣＯＣＨ＝ＣＬＣＨｚＯＣＯ
ＣＨ＝ＣＬ 分子量／官能基数 ９９、官能基数 ３■、 （但し、Ｒはアクリレート、又はメタクリレート）分子
量／官能基数 ２１０〜１２４、官能基数また、本発明
の表面保護膜形成用組成物における低沸点溶剤としては
、上記モノマー又はオリゴマーを溶解することができる
ものであり、−船釣なアルコール類、ケトン類、エステ
ル類、アルコールエステル類、ケトンエステル類、エー
テル類、ケトンアルコール類、エーテルアルコール類、
ケトンエーテル類、エステルエーテルＬＢｄＨＡ％炭化
水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等の
革独、又は混合して使用することができ、具体的にはエ
タノール、トルエン、酢酸エチル、メチルセロソルブ、
アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、エチルセロソルブ、イソプロピルアルコール等を使
用するとよい。尚、基材をポリカーボネートとする場合
にはケトン系の〆８剤を使用すると白化するので好まし
くない。
、Ｄ Ｐ ＨＡという） 分子量／官能基数 ９６、官能基数 ６■、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート（以下、ＤＰＰＡとい
う） ＣＨｚＯＣＯ（ＪｂＣＨｚ ＣＨｚＯＣＯＣＨ−ＣＨ
ｚ分子量／官能基数 １０５、官能基数 ５■、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレートＣＨｚＯＣＯＣＬＣ
Ｌ ＣＩｈ□ＣＨＣＯＯＣＨｚ−ＣＣＨｚＯＣＯＣｌｌ−Ｃ
ＬＣｌ１ｚＯＣＯＣＩｂＣｌｈ 分子量／官能基数 ８８、官能基数 ４■、ペンタエリ
スリトールトリアクリレートＣＨｚＯＣＯＣｔｌ−ＣＩ
Ｉｚ ｔｌＯｃＨｚ−Ｃ−ＣＬＯＣＯＣＨ＝ＣＬＣＨｚＯＣＯ
ＣＨ＝ＣＬ 分子量／官能基数 ９９、官能基数 ３■、 （但し、Ｒはアクリレート、又はメタクリレート）分子
量／官能基数 ２１０〜１２４、官能基数また、本発明
の表面保護膜形成用組成物における低沸点溶剤としては
、上記モノマー又はオリゴマーを溶解することができる
ものであり、−船釣なアルコール類、ケトン類、エステ
ル類、アルコールエステル類、ケトンエステル類、エー
テル類、ケトンアルコール類、エーテルアルコール類、
ケトンエーテル類、エステルエーテルＬＢｄＨＡ％炭化
水素類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等の
革独、又は混合して使用することができ、具体的にはエ
タノール、トルエン、酢酸エチル、メチルセロソルブ、
アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、エチルセロソルブ、イソプロピルアルコール等を使
用するとよい。尚、基材をポリカーボネートとする場合
にはケトン系の〆８剤を使用すると白化するので好まし
くない。
本発明における溶剤は、その沸点が高すぎるとコーテイ
ング後に乾燥工程が必要となり、また残留溶剤が多くな
るので、その沸点は１．５０℃以下、できれば１００℃
以下が好ましい。
ング後に乾燥工程が必要となり、また残留溶剤が多くな
るので、その沸点は１．５０℃以下、できれば１００℃
以下が好ましい。
添加剤としては、表面保２ｉ欣形成用組成物の表面エネ
ルギーを下げ、付着物が付きにくくするシリコーン樹脂
、弗素ｐ４脂等を全体の０．２〜１゜０重量％、好まし
くは０．３〜０．５重量％添加ある。
ルギーを下げ、付着物が付きにくくするシリコーン樹脂
、弗素ｐ４脂等を全体の０．２〜１゜０重量％、好まし
くは０．３〜０．５重量％添加ある。
本発明の表面保護膜形成用組成物を塗膜する基材として
は、光カード、フレキシブルディスク基材である、例え
ばポリメチルメタクリレ−１・１．ポリカーボネート、
ポリエステル、エボキノ、ボ゛ノオレフィン、ポリスチ
レン等からなる可とう性を有するプラスチックフィルム
に使用されるとよく、その膜厚には特に制限はない。
は、光カード、フレキシブルディスク基材である、例え
ばポリメチルメタクリレ−１・１．ポリカーボネート、
ポリエステル、エボキノ、ボ゛ノオレフィン、ポリスチ
レン等からなる可とう性を有するプラスチックフィルム
に使用されるとよく、その膜厚には特に制限はない。
また本発明の表面保護膜形成用組成物は、メガネ、窓ガ
ラス、車等のガラス等の可とう性を要しない場合の保護
膜として使用してもよく、高硬度な保護膜とすることが
できる。この場合には表面保護膜形成用組成物における
溶剤の量を少なくして厚膜に塗布形成するとよい。
ラス、車等のガラス等の可とう性を要しない場合の保護
膜として使用してもよく、高硬度な保護膜とすることが
できる。この場合には表面保護膜形成用組成物における
溶剤の量を少なくして厚膜に塗布形成するとよい。
コーティング法としては、スピンナー法、ローラーコー
ト法、デイツプ法等の一般的な方法を採用することがで
き、膜厚１−１０μｍ、好ましく１０８ｍを越えると硬
化収縮により基材との密着性が悪くなったり、曲げた時
にヒビが入りやすくなるという問題がある。
ト法、デイツプ法等の一般的な方法を採用することがで
き、膜厚１−１０μｍ、好ましく１０８ｍを越えると硬
化収縮により基材との密着性が悪くなったり、曲げた時
にヒビが入りやすくなるという問題がある。
本発明の表面保護膜形成用組成物を基材上に塗布後、硬
化させる手段としては、電離性放射線、例えば紫外線、
電子線、ＸＵ等の照射により硬化させるもので、表面保
護膜形成用組成物におけるアクリレートを硬化させるこ
とができるものである。紫外線を使用する場合には、光
開始剤としてベンゾフェノン類、チオキサンソン類、ケ
トン類、ケタール類等のラジカル発生剤やカチオン、ア
ニオン系の通常使用されるものを適宜、本発明の表面保
護膜形成用組成物に含有させて用いるとよい。
化させる手段としては、電離性放射線、例えば紫外線、
電子線、ＸＵ等の照射により硬化させるもので、表面保
護膜形成用組成物におけるアクリレートを硬化させるこ
とができるものである。紫外線を使用する場合には、光
開始剤としてベンゾフェノン類、チオキサンソン類、ケ
トン類、ケタール類等のラジカル発生剤やカチオン、ア
ニオン系の通常使用されるものを適宜、本発明の表面保
護膜形成用組成物に含有させて用いるとよい。
本発明の表面保護膜形成用組成物は、基材上に塗布され
る表面保護膜形成用組成物であって、アクリル当量１３
０以下で、アクリル官能基数が３以上であるアクリル酸
、又はメタクリル酸のエステルモノマー、又はオリゴマ
ー、及びその低沸点溶剤とから構成されることにより、
基材上に塗布後、溶剤を容易に除去でき、保護層中に溶
剤が残存することがなく、又薄膜状に膜形成ができ、か
つ高硬度のものとすることができるので、折り曲げ等に
よりひびの生じないものとすることができることを見出
したものである。
る表面保護膜形成用組成物であって、アクリル当量１３
０以下で、アクリル官能基数が３以上であるアクリル酸
、又はメタクリル酸のエステルモノマー、又はオリゴマ
ー、及びその低沸点溶剤とから構成されることにより、
基材上に塗布後、溶剤を容易に除去でき、保護層中に溶
剤が残存することがなく、又薄膜状に膜形成ができ、か
つ高硬度のものとすることができるので、折り曲げ等に
よりひびの生じないものとすることができることを見出
したものである。
アクリレート（又はメタクリレート）のアクリル当量は
、１３０以下、好ましくは１００以下で、アクリル官能
基数が３以上、好ましくは５以上のものであり、アクリ
ル当量が１３０を越えると架橋密度が小さくなり、硬度
が低下するという問題が生じる０例えば基材がポリカー
ボネートの場合、ヘイズ値２０％以上、スチールウール
硬度（＃００００）２００ｇ以下、鉛筆硬度Ｂ以下であ
る。
、１３０以下、好ましくは１００以下で、アクリル官能
基数が３以上、好ましくは５以上のものであり、アクリ
ル当量が１３０を越えると架橋密度が小さくなり、硬度
が低下するという問題が生じる０例えば基材がポリカー
ボネートの場合、ヘイズ値２０％以上、スチールウール
硬度（＃００００）２００ｇ以下、鉛筆硬度Ｂ以下であ
る。
またアクリル官能基数が３未満であると、硬度が低下す
るのみでなく、硬化時間が長い、また酸素による重合阻
害により表面が硬化しない等の問題が生じるので好まし
くない。
るのみでなく、硬化時間が長い、また酸素による重合阻
害により表面が硬化しない等の問題が生じるので好まし
くない。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、使用
量は重量部を示す。
量は重量部を示す。
〔実施例１〕
組成物
・ＤＰＰＡ （モノマー） ・・・４０
・エタノール（溶剤） ・・・４９・
メヂルセロソルプ（〃） ・・・１０・
ｌ−ヒドロキシシクロヘキシル フヱニルケトン（光開始剤） ・・・０．９・弗素樹
脂（商品名ＬＦ−４０、住友 ３Ｍ製） ・・・０．１を、０
．４ＩｎＩｌｒｇ−のポリカーボネートフィルム（奇人
パンライト製）上に、スピンナーによりコーティングし
、ＵＶ照射（７００ｍＪ／ｃｍ”） Ｌ、膜厚５μｍの
塗膜を得た。
・エタノール（溶剤） ・・・４９・
メヂルセロソルプ（〃） ・・・１０・
ｌ−ヒドロキシシクロヘキシル フヱニルケトン（光開始剤） ・・・０．９・弗素樹
脂（商品名ＬＦ−４０、住友 ３Ｍ製） ・・・０．１を、０
．４ＩｎＩｌｒｇ−のポリカーボネートフィルム（奇人
パンライト製）上に、スピンナーによりコーティングし
、ＵＶ照射（７００ｍＪ／ｃｍ”） Ｌ、膜厚５μｍの
塗膜を得た。
この膜の性能を、下記に示す。
尚、上記試験における鉛筆引っ掻き試験硬度はＪＩ３
５４００により、スチールウール摩耗＃００００は、ス
チールウール＃００００を用いて一定荷重のもとに１０
往復させ、傷がついた時の荷重（ｇ）を評価値とした。
５４００により、スチールウール摩耗＃００００は、ス
チールウール＃００００を用いて一定荷重のもとに１０
往復させ、傷がついた時の荷重（ｇ）を評価値とした。
またテーパー摩耗Ｉ ｋｇ １００回転ヘイズ値は、Ａ
ｍｅｒｉｃａｎ ５ｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒＴｅｓｔｉｎ
ｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌ （ＡＳＴ）ＬＭ） Ｄ
−１０４４に定められた試験、曲げテス）Ｒ＝１３＋ｍ
は、外径１３１の円筒に沿わせて基＋ｆｄｔｙｒり曲げ
、顕微鏡で観察してヒビ割れのないことをもって合格と
する。
ｍｅｒｉｃａｎ ５ｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒＴｅｓｔｉｎ
ｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌ （ＡＳＴ）ＬＭ） Ｄ
−１０４４に定められた試験、曲げテス）Ｒ＝１３＋ｍ
は、外径１３１の円筒に沿わせて基＋ｆｄｔｙｒり曲げ
、顕微鏡で観察してヒビ割れのないことをもって合格と
する。
又高温、高湿下での耐久試験（６０℃、９０％Ｉ？Ｈ）
は、高温、高湿下、一定時間（例えば１０００時間）保
存後の欠陥（ゲル化物、クランク、炭化物等）、複屈折
の変化、色の変化、基材との密着性の劣化がないことを
もって合格とした。
は、高温、高湿下、一定時間（例えば１０００時間）保
存後の欠陥（ゲル化物、クランク、炭化物等）、複屈折
の変化、色の変化、基材との密着性の劣化がないことを
もって合格とした。
また上記塗膜を、光カード（基材、６００μｍ膜厚のポ
リカーボネートフィルム上に記録層としてＴｅＯうを５
００人の膜厚で積層したもの）の基材上に塗布し、上記
実施例同線に硬化させ、実用試験として一般にＮ行われ
ている耐久試験、書き込み読み取り試験、携帯試験（胸
ポケツト中、及び尻ポケット中各半年）、複屈折の測定
を実施したが、本発明の表面保護膜形成用組成物により
形成された保護膜は、傷が付きにくく、また折り曲げに
際してもヒビが入らなく、複屈折の増加も無いものであ
った。
リカーボネートフィルム上に記録層としてＴｅＯうを５
００人の膜厚で積層したもの）の基材上に塗布し、上記
実施例同線に硬化させ、実用試験として一般にＮ行われ
ている耐久試験、書き込み読み取り試験、携帯試験（胸
ポケツト中、及び尻ポケット中各半年）、複屈折の測定
を実施したが、本発明の表面保護膜形成用組成物により
形成された保護膜は、傷が付きにくく、また折り曲げに
際してもヒビが入らなく、複屈折の増加も無いものであ
った。
〔実施例２〕
組成物
・ペンタエリスリトールトリアクリレート （モノマー
） ・・・５０アセトン
（ン会則） ・・・２５・メチルイソ
ブチルケトン（〃） ・・・２４・シリコーン樹
脂（商品名Ｘ〜２２− ５００２、信越化学製） ・・・ ｌを、１．２
■厚ポリメチルメタクリレート（日東樹脂製）上にロー
ラーコーターによりコーティングし、電子線を照射（５
Ｍ ｒａｄ）して、膜厚７μｍの塗膜を得、実施例１
と同様の試験をしたところ実施例１における被膜同様の
優れた収を製造することができた。
） ・・・５０アセトン
（ン会則） ・・・２５・メチルイソ
ブチルケトン（〃） ・・・２４・シリコーン樹
脂（商品名Ｘ〜２２− ５００２、信越化学製） ・・・ ｌを、１．２
■厚ポリメチルメタクリレート（日東樹脂製）上にロー
ラーコーターによりコーティングし、電子線を照射（５
Ｍ ｒａｄ）して、膜厚７μｍの塗膜を得、実施例１
と同様の試験をしたところ実施例１における被膜同様の
優れた収を製造することができた。
（比較例１〕
・千ツマ−
カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート（日本化薬＠製、商品名カヤランドＤＰＣＡ−
２０）（官能基数６、分子量／官能基数１３４） にし、実施例Ｉ同ＩＭの試験を実施した。
リレート（日本化薬＠製、商品名カヤランドＤＰＣＡ−
２０）（官能基数６、分子量／官能基数１３４） にし、実施例Ｉ同ＩＭの試験を実施した。
上記比較例１．２の試験使用結果を下記に示す。
（ＭＷ８０６ 式中ｍ＝＝１、ａ−２、ｂ＝４）・エ
タノール（溶剤） ・・・４９・メチル
セロソルブ（−） ・・・１０・１−ヒド
ロキシシクロヘキシル フェニルケトン（光開始剤） ・・・０．９・弗素樹
脂（商品名ＬＦ−４０．住友 ３Ｍ製） ・・・０．１を、実施例１
同様に基材上に塗膜し、実施例１同様の試験を実施した
。
タノール（溶剤） ・・・４９・メチル
セロソルブ（−） ・・・１０・１−ヒド
ロキシシクロヘキシル フェニルケトン（光開始剤） ・・・０．９・弗素樹
脂（商品名ＬＦ−４０．住友 ３Ｍ製） ・・・０．１を、実施例１
同様に基材上に塗膜し、実施例１同様の試験を実施した
。
〔比較例２〕
上記比較例１においてモノマーとして、１．６−ヘキサ
ンジオールジアクリレート（日本化薬［相］製、商品名
カヤラッドＨＤＤＡ） （官鮨基戟２、分子量／官能
基数１１４） ＣＩｌｚ＝ＣＩｌＣＯＯ（ＣＨｉ） ＊０ＣＯＣＨ＝Ｃ
Ｉｌｚを４０重思部使用した以外は、比較例１と同（ｐ
生 表かられ力）るように、アクリル当量力（１３０を越え
る７クリレートの場合には鉛筆引っ掻き試験硬度、スチ
ールウール摩耗＃０ＯＯＯ、テーパー合には、高硬度な
値が得られないのみでなく、表面硬化不足のため耐久試
験でも欠陥を生じることがわかる。
ンジオールジアクリレート（日本化薬［相］製、商品名
カヤラッドＨＤＤＡ） （官鮨基戟２、分子量／官能
基数１１４） ＣＩｌｚ＝ＣＩｌＣＯＯ（ＣＨｉ） ＊０ＣＯＣＨ＝Ｃ
Ｉｌｚを４０重思部使用した以外は、比較例１と同（ｐ
生 表かられ力）るように、アクリル当量力（１３０を越え
る７クリレートの場合には鉛筆引っ掻き試験硬度、スチ
ールウール摩耗＃０ＯＯＯ、テーパー合には、高硬度な
値が得られないのみでなく、表面硬化不足のため耐久試
験でも欠陥を生じることがわかる。
本発明の表面保護膜形成用組成物を、可とう性基材の表
面に塗布し、電離性放射線照射により硬化させて形成さ
れる保護膜は、１−１ｏμｍと薄膜に形成することがで
き、しかも可とう性、高硬度の膜を形成することかでき
るので、折り曲げ等によりひび等の生じないものとする
ことができる。
面に塗布し、電離性放射線照射により硬化させて形成さ
れる保護膜は、１−１ｏμｍと薄膜に形成することがで
き、しかも可とう性、高硬度の膜を形成することかでき
るので、折り曲げ等によりひび等の生じないものとする
ことができる。
特に可とう性を有する光カード、フレキシブルディスク
等の表面保ｌ膜形成用組成物としての使用に適したもの
である。
等の表面保ｌ膜形成用組成物としての使用に適したもの
である。
また保護膜を薄く形成することができるので、例えば光
カードとした場合に、その情報再生時の光による複屈折
等の問題を生じにくいものとすることができる。
カードとした場合に、その情報再生時の光による複屈折
等の問題を生じにくいものとすることができる。
Claims (2)
- （１）基材表面に塗布され、電離性放射線照射により硬
化される表面保護膜形成用組成物であって、アクリル当
量１３０以下で、アクリル官能基数が３以上であるアク
リル酸、又はメタクリル酸のエステルモノマー又はオリ
ゴマー、及びその低沸点溶剤とからなる表面保護膜形成
用組成物。 - （２）前記基材が、光カード、フレキシブルディスクで
ある請求項１記載の表面保護膜形成用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1279501A JPH03140380A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 表面保護膜形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1279501A JPH03140380A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 表面保護膜形成用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03140380A true JPH03140380A (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=17611929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1279501A Pending JPH03140380A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 表面保護膜形成用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03140380A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0598575A3 (en) * | 1992-11-16 | 1995-03-22 | Canon Kk | Optical recording medium and method for the production thereof. |
| US5885717A (en) * | 1998-01-15 | 1999-03-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Circuit protection film |
| JP2014181320A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Dic Corp | 活性エネルギー線硬化性組成物及び硬化物 |
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