JPH03141023A - 磁気ディスク記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03141023A JPH03141023A JP27770389A JP27770389A JPH03141023A JP H03141023 A JPH03141023 A JP H03141023A JP 27770389 A JP27770389 A JP 27770389A JP 27770389 A JP27770389 A JP 27770389A JP H03141023 A JPH03141023 A JP H03141023A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- electroless
- grinding
- recording medium
- magnetic disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、基板材料として／１合金又はこれに類する
金属からなる磁気ディスク記録媒体の製造方法において
、磁性膜を形成する前段階での基板に対する機械加工等
を考慮した磁気ディスク記録媒体の製造方法に関する。
金属からなる磁気ディスク記録媒体の製造方法において
、磁性膜を形成する前段階での基板に対する機械加工等
を考慮した磁気ディスク記録媒体の製造方法に関する。
従来の磁気ディスク記録媒体の製造方法としては、例え
ば本出願人発行の富士時報 第５９巻第１１号（昭和６
１年１１月１０日発行）第７４１頁〜７４５頁の論文「
スパッタ法Ｃｏ合金系磁気ディスク媒体」 （以下、文
献という）が知られている。
ば本出願人発行の富士時報 第５９巻第１１号（昭和６
１年１１月１０日発行）第７４１頁〜７４５頁の論文「
スパッタ法Ｃｏ合金系磁気ディスク媒体」 （以下、文
献という）が知られている。
、前記文献に基いて、磁気ディスクの製造方法の概要を
説明すると、純度の高いＡＩ！合金からなる基板に切削
と研削を入念に施して信号の欠落につながる欠陥が発生
しないようにし、無電解Ｎｉ −Ｐめっきを施してヘッ
ドの衝撃に耐える硬いめっき層を形成し、研磨をしたう
えでＣｏ−Ｎｉ合金系の磁性層等を約０．２μｍの厚さ
で例えばスパンタ方式で形成するものである。
説明すると、純度の高いＡＩ！合金からなる基板に切削
と研削を入念に施して信号の欠落につながる欠陥が発生
しないようにし、無電解Ｎｉ −Ｐめっきを施してヘッ
ドの衝撃に耐える硬いめっき層を形成し、研磨をしたう
えでＣｏ−Ｎｉ合金系の磁性層等を約０．２μｍの厚さ
で例えばスパンタ方式で形成するものである。
前記文献に示す製造方法によった場合にも、切削、研削
、研磨等の機械加工処理及び無電解Ｎｉ系めっき処理の
工程を誤まると、磁性層を形成する以前のＮｉ系めっき
を施した基板の下地層に欠陥が生じ平滑度が失なわれる
。その結果完成した磁気ディスクは分解能、磁気ヘッド
の走行性、信号の欠落、磁性層の摩耗に基く寿命等にお
いて品質の低下をもたらす。
、研磨等の機械加工処理及び無電解Ｎｉ系めっき処理の
工程を誤まると、磁性層を形成する以前のＮｉ系めっき
を施した基板の下地層に欠陥が生じ平滑度が失なわれる
。その結果完成した磁気ディスクは分解能、磁気ヘッド
の走行性、信号の欠落、磁性層の摩耗に基く寿命等にお
いて品質の低下をもたらす。
第１図は一般的な平滑度の欠陥を模式的に示す磁気ディ
スクの平面図、第２図は第１図のｎ−ｎ断面図、第３図
は第１図のｍ−ｍ断面図である。
スクの平面図、第２図は第１図のｎ−ｎ断面図、第３図
は第１図のｍ−ｍ断面図である。
なお第２図及び第３図においてはめっき層までを示し、
その上の磁性層等の図示を省略する。
その上の磁性層等の図示を省略する。
図において、欠陥Ａは円形状又は点状の突起であって、
例えば直径は大きいものでは２ｆｉに及び平均０．２μ
ｍ、高さは最大５００μｍ平均０．Ｌｕｍである。欠陥
Ｂは線状の突起であって前記円形状欠陥Ａと同程度の寸
法であって線状をなし、研削痕に由来することが判明し
ている。そしていずれの欠陥Ａ及びＢも切削及び研削に
よる加工歪及び残留応力がその後に自から、また後工程
の加熱によって内部エネルギを局部的に放出して基板上
に突起となって生じる欠陥である。
例えば直径は大きいものでは２ｆｉに及び平均０．２μ
ｍ、高さは最大５００μｍ平均０．Ｌｕｍである。欠陥
Ｂは線状の突起であって前記円形状欠陥Ａと同程度の寸
法であって線状をなし、研削痕に由来することが判明し
ている。そしていずれの欠陥Ａ及びＢも切削及び研削に
よる加工歪及び残留応力がその後に自から、また後工程
の加熱によって内部エネルギを局部的に放出して基板上
に突起となって生じる欠陥である。
従って切削、研削、めっきの工程ごとに加熱処理を行え
ば、欠陥は最小限におさえられるはずであるが、その都
度、加熱を行うことは工程が長くなり過ぎるという問題
がある。
ば、欠陥は最小限におさえられるはずであるが、その都
度、加熱を行うことは工程が長くなり過ぎるという問題
がある。
この発明の目的は、切削、研削、研磨、Ｎｉ系めっきの
工程を見直して磁気ディスクの欠陥の極めて少ない平滑
な下地層を得ることによって、信号の欠落がなく分解能
の高いすなわちよりよい高記録密度化され、かつ良好な
磁気ヘッド走行性を持つ磁気ディスク記録媒体の製造方
法を提供することにある。
工程を見直して磁気ディスクの欠陥の極めて少ない平滑
な下地層を得ることによって、信号の欠落がなく分解能
の高いすなわちよりよい高記録密度化され、かつ良好な
磁気ヘッド走行性を持つ磁気ディスク記録媒体の製造方
法を提供することにある。
この発明の磁気ディスク記録媒体の製造方法は、円形に
打抜かれ焼なましをしたＡｌ合金からなる基板の表面に
、機械加工処理及び無電解Ｎｉ系めっき処理を行った後
に、磁性膜を形成する磁気ディスク記録媒体の製造方法
において、 前記機械加工処理及び無電解Ｎｉめっき処理工程は、次
のΦ〜■の工程の順がらなり、■切削５０μｍｆｌＯｃ
ｒｍ ■研削３０μｍ前後μｍ ■無電解Ｎｉ系めっき ■加熱２７０℃±１０’Ｃ１２時間 ■研磨２μｍ その後に前記磁性膜の形成を行うものである。
打抜かれ焼なましをしたＡｌ合金からなる基板の表面に
、機械加工処理及び無電解Ｎｉ系めっき処理を行った後
に、磁性膜を形成する磁気ディスク記録媒体の製造方法
において、 前記機械加工処理及び無電解Ｎｉめっき処理工程は、次
のΦ〜■の工程の順がらなり、■切削５０μｍｆｌＯｃ
ｒｍ ■研削３０μｍ前後μｍ ■無電解Ｎｉ系めっき ■加熱２７０℃±１０’Ｃ１２時間 ■研磨２μｍ その後に前記磁性膜の形成を行うものである。
前述の課題の項に概説したように、欠陥Ａ、 Ｂ等の基
板の変形は加工による加工歪、残留応力が、加工の仕事
量が大きがったり、局所的に集中した時に、自から経時
的に、また後工程の加熱により内部エネルギーが局部的
に集中して放出され、欠陥として表れるものである。
板の変形は加工による加工歪、残留応力が、加工の仕事
量が大きがったり、局所的に集中した時に、自から経時
的に、また後工程の加熱により内部エネルギーが局部的
に集中して放出され、欠陥として表れるものである。
前記手段によれば、本来、研削よりは切削における加工
歪が多いので、切削量を比較的少い加工量５０μｍ前後
として切削による加工歪を少くしてまずブランク素材の
全体的な平面度を確立する。
歪が多いので、切削量を比較的少い加工量５０μｍ前後
として切削による加工歪を少くしてまずブランク素材の
全体的な平面度を確立する。
その後、前記切削の加工歪を比較的大きい研削量３０μ
ｍで除去する。その際、研削量をあまり大きくすると研
削痕が現れて線状の欠陥Ｂを生じやすく、また研削では
同−削り代でも切削より加工時間が長くなるので前記の
ように研削量を３０μｍ前後とし、その代り砥石の粒度
を細か（して９４０００とすることにより、比較的大き
めな研削量でも欠陥Ｂの現れることが防止される。
ｍで除去する。その際、研削量をあまり大きくすると研
削痕が現れて線状の欠陥Ｂを生じやすく、また研削では
同−削り代でも切削より加工時間が長くなるので前記の
ように研削量を３０μｍ前後とし、その代り砥石の粒度
を細か（して９４０００とすることにより、比較的大き
めな研削量でも欠陥Ｂの現れることが防止される。
そしてめっきよっても、潜在する加工歪が変形として突
起になって現れることを考慮して、めっき後にはじめて
加熱処理することにより潜在する加工歪エネルギのほと
んどを外部に放出させ、このわずかな欠陥を研磨量２μ
ｍで完全に除去し、その後の磁性層形成等の熱により欠
陥の発生の生じない平滑な基板が得られる。
起になって現れることを考慮して、めっき後にはじめて
加熱処理することにより潜在する加工歪エネルギのほと
んどを外部に放出させ、このわずかな欠陥を研磨量２μ
ｍで完全に除去し、その後の磁性層形成等の熱により欠
陥の発生の生じない平滑な基板が得られる。
第１表は実験による様々な機械加工条件の組立について
の無欠陥性の結果を表し、表の無欠陥性Ａ及びＢは前述
の第１図から第３図までについての説明における欠陥Ａ
及びＢに対応する。
の無欠陥性の結果を表し、表の無欠陥性Ａ及びＢは前述
の第１図から第３図までについての説明における欠陥Ａ
及びＢに対応する。
すなわち前述したように欠陥Ａは点又は円形状のふくれ
として表れ、平均直径０．２μｍ、高さ第１表 寞）加熱の欄の「有」は２７０℃、２時間、「−」は加
熱無しを示す。
として表れ、平均直径０．２μｍ、高さ第１表 寞）加熱の欄の「有」は２７０℃、２時間、「−」は加
熱無しを示す。
３〉この欄の研削の砥石は９４０００、ただし＊付きの
工程の砥石は９３０００゜ ４）無欠陥性のＡ欄は円形状の欠陥に、Ｂ欄は線状の欠
陥に関し、いずれも、０は欠陥が無いか極めて微小で良
好、×は欠陥が有って不良、は○と×の であること
を− 第１表の注； ■）実験番号４のこの工程は研削で、砥石は＃８００゜
０．１μｍであり、欠陥Ｂは線状のふくれとして表れ、
寸法は欠陥Ａと同程度であって主として研削量から由来
し、いずれも加工による加工歪、残留応力等の内部エネ
ルギが自からの時効により、また後工程の加熱によって
局所的に内部エネルギを放出し、再結晶、結晶粒の粗大
化を径て基板上に変形として発現するものである。
工程の砥石は９３０００゜ ４）無欠陥性のＡ欄は円形状の欠陥に、Ｂ欄は線状の欠
陥に関し、いずれも、０は欠陥が無いか極めて微小で良
好、×は欠陥が有って不良、は○と×の であること
を− 第１表の注； ■）実験番号４のこの工程は研削で、砥石は＃８００゜
０．１μｍであり、欠陥Ｂは線状のふくれとして表れ、
寸法は欠陥Ａと同程度であって主として研削量から由来
し、いずれも加工による加工歪、残留応力等の内部エネ
ルギが自からの時効により、また後工程の加熱によって
局所的に内部エネルギを放出し、再結晶、結晶粒の粗大
化を径て基板上に変形として発現するものである。
第１表において実験番号７がこの発明の工程であり、欠
陥Ａ及びＢ共に極めて少く、無欠陥性はいずれも良く○
及び○となっている。他の実験のいくつかを考察すると
、実験番号５もこの発明のものとほぼ同一に良好であり
、加工ごとに加熱を要し、工程が長くなる点を除けば採
用できる。実験番号６は、切削量が７０μｍと多く、研
削量が１０μｍと少いことが原因となって、円形状欠陥
Ｂがや１多くの判定となっている。
陥Ａ及びＢ共に極めて少く、無欠陥性はいずれも良く○
及び○となっている。他の実験のいくつかを考察すると
、実験番号５もこの発明のものとほぼ同一に良好であり
、加工ごとに加熱を要し、工程が長くなる点を除けば採
用できる。実験番号６は、切削量が７０μｍと多く、研
削量が１０μｍと少いことが原因となって、円形状欠陥
Ｂがや１多くの判定となっている。
この発明の磁気ディスク記録媒体の製造方法は、円岩に
打抜かれ焼なましをしたＡｌ合金からなる基板の表面に
、機械加工処理及び無電解Ｎｉ系めっき処理を行った後
に、磁性膜を形成する磁気ディスク記録媒体の製造方法
において、前記機械加工処理及び無電解Ｎｉめっき処理
工程は、次の（１）〜（５）の工程の順からなり、■切
削５０ｕｍｔｌＯ，ｕｎ ■研削３０μｍ±６μｍ ■無電解Ｎｉ系めっき ■加熱２７０℃±ｌＯ℃、２時間 ■研磨２μｍ その後に前記磁性膜の形成を行うようにしたので、 比較的少い切削加工量によってブランク素材の全体的平
面度を確保したうえで、切削加工歪が少くなり、その加
工歪を比較的大きい研削加工量で除去しながらも砥石の
粒度を微細にして主に研削に基く線状欠陥を防止するこ
ととなり、両加工量が欠陥防止にバランスされることと
なり、めっきを施してからの研磨前の加熱処理を１回の
みとして欠陥の極めて少ない平滑で良好な下地層を得る
ことができるという効果があり、磁性層を形成した後の
磁気ディスク記録媒体が信号の欠落がな（、より高記録
密度化ができ、磁気ヘッド走行性が優れたものとなる効
果がある。
打抜かれ焼なましをしたＡｌ合金からなる基板の表面に
、機械加工処理及び無電解Ｎｉ系めっき処理を行った後
に、磁性膜を形成する磁気ディスク記録媒体の製造方法
において、前記機械加工処理及び無電解Ｎｉめっき処理
工程は、次の（１）〜（５）の工程の順からなり、■切
削５０ｕｍｔｌＯ，ｕｎ ■研削３０μｍ±６μｍ ■無電解Ｎｉ系めっき ■加熱２７０℃±ｌＯ℃、２時間 ■研磨２μｍ その後に前記磁性膜の形成を行うようにしたので、 比較的少い切削加工量によってブランク素材の全体的平
面度を確保したうえで、切削加工歪が少くなり、その加
工歪を比較的大きい研削加工量で除去しながらも砥石の
粒度を微細にして主に研削に基く線状欠陥を防止するこ
ととなり、両加工量が欠陥防止にバランスされることと
なり、めっきを施してからの研磨前の加熱処理を１回の
みとして欠陥の極めて少ない平滑で良好な下地層を得る
ことができるという効果があり、磁性層を形成した後の
磁気ディスク記録媒体が信号の欠落がな（、より高記録
密度化ができ、磁気ヘッド走行性が優れたものとなる効
果がある。
第１図は一般的な平滑度の欠陥を模式的に示す磁気ディ
スクの平面図、第２図は第１図のｎ−ｎ断面図、第３図
は第１図のｍ−ｍ断面図である。 １・・・ディスク、２・・・基板、３・・・めっき層、
Ａ。
スクの平面図、第２図は第１図のｎ−ｎ断面図、第３図
は第１図のｍ−ｍ断面図である。 １・・・ディスク、２・・・基板、３・・・めっき層、
Ａ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）円形に打抜かれ焼なましをしたＡｌ合金からなる基
板の表面に、機械加工処理及び無電解Ｎｉ系めっき処理
を行った後に、磁性膜を形成する磁気ディスク記録媒体
の製造方法において、 前記機械加工処理及び無電解Ｎｉめっき処理工程は、次
の（１）〜（５）の工程の順からなり、（１）切削５０
μｍ±１０μｍ （２）研削３０μｍ±６μｍ （３）無電解Ｎｉ系めっき （４）加熱２７０℃±１０℃、２時間 （５）研磨２μｍ その後に前記磁性膜の形成を行うことを特徴とする磁気
ディスク記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27770389A JPH03141023A (ja) | 1989-10-25 | 1989-10-25 | 磁気ディスク記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27770389A JPH03141023A (ja) | 1989-10-25 | 1989-10-25 | 磁気ディスク記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03141023A true JPH03141023A (ja) | 1991-06-17 |
Family
ID=17587138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27770389A Pending JPH03141023A (ja) | 1989-10-25 | 1989-10-25 | 磁気ディスク記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03141023A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6256860B1 (en) | 1997-05-28 | 2001-07-10 | Showa Denko K. K. | Process for fabricating a magnetic disk substrate |
| JP2007164963A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板およびその製造方法ならびに磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-10-25 JP JP27770389A patent/JPH03141023A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6256860B1 (en) | 1997-05-28 | 2001-07-10 | Showa Denko K. K. | Process for fabricating a magnetic disk substrate |
| JP2007164963A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 磁気記録媒体用基板およびその製造方法ならびに磁気記録媒体 |
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