JPH0314553B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0314553B2 JPH0314553B2 JP59267488A JP26748884A JPH0314553B2 JP H0314553 B2 JPH0314553 B2 JP H0314553B2 JP 59267488 A JP59267488 A JP 59267488A JP 26748884 A JP26748884 A JP 26748884A JP H0314553 B2 JPH0314553 B2 JP H0314553B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- mirror
- workpiece
- fabric
- reflecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/083—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
- B23K26/0838—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt
- B23K26/0846—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction by using an endless conveyor belt for moving elongated workpieces longitudinally, e.g. wire or strip material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ加工装置にかかるものであり、
特にレーザビームの走査を行うことによつて対象
物、例えば生地、皮などを加工するレーザ加工装
置に関するものである。
特にレーザビームの走査を行うことによつて対象
物、例えば生地、皮などを加工するレーザ加工装
置に関するものである。
第4図には従来のレーザ加工装置の一例が示さ
れている。この図において、裁断コンベヤ10の
左方には生地を巻回した原反ロール12のセツト
された延反装置14が配置されている。また、裁
断コンベヤ10の右方には裁断後のスクラツプを
収容処理するスクラツプ処理装置16が配置され
ている。加工の対象となる生地18は図の矢印F
1の如く延反装置14から裁断コンベヤ10上に
送り出され、スクラツプは矢印F2の如くスクラ
ツプ処理装置16に収容される。裁断コンベヤ1
0の略中央付近にはレーザヘツド20を走査する
ための駆動機構22が配置されている。この駆動
機構22は第1の駆動体24と第2の駆動体26
とによつて構成されている。第1の駆動体24は
裁断コンベヤ10の両側部に一組設けられてお
り、これに対して第2の駆動体26が矢印F3方
向に移動可能に架設されている。すなわち、第2
の駆動体26は第1の駆動体24によつて矢印F
3の方向に駆動される。この矢印F3の方向は生
地18の表面に想定される座標軸Xに一致する。
れている。この図において、裁断コンベヤ10の
左方には生地を巻回した原反ロール12のセツト
された延反装置14が配置されている。また、裁
断コンベヤ10の右方には裁断後のスクラツプを
収容処理するスクラツプ処理装置16が配置され
ている。加工の対象となる生地18は図の矢印F
1の如く延反装置14から裁断コンベヤ10上に
送り出され、スクラツプは矢印F2の如くスクラ
ツプ処理装置16に収容される。裁断コンベヤ1
0の略中央付近にはレーザヘツド20を走査する
ための駆動機構22が配置されている。この駆動
機構22は第1の駆動体24と第2の駆動体26
とによつて構成されている。第1の駆動体24は
裁断コンベヤ10の両側部に一組設けられてお
り、これに対して第2の駆動体26が矢印F3方
向に移動可能に架設されている。すなわち、第2
の駆動体26は第1の駆動体24によつて矢印F
3の方向に駆動される。この矢印F3の方向は生
地18の表面に想定される座標軸Xに一致する。
第2の駆動体26にはキヤリツジ28が装着さ
れており、このキヤリツジ28は第2の駆動体2
6によつて図の矢印F4の方向に駆動される。こ
の矢印F4の方向は生地18の表面に想定される
座標軸Yに一致する。キヤリツジ28にはレーザ
ヘツド20が固着されている。すなわち、レーザ
ヘツド20は第1の駆動体24によつて座標軸X
の方向に走査され、第2の駆動体26によつて座
標軸Yの方向に走査される。
れており、このキヤリツジ28は第2の駆動体2
6によつて図の矢印F4の方向に駆動される。こ
の矢印F4の方向は生地18の表面に想定される
座標軸Yに一致する。キヤリツジ28にはレーザ
ヘツド20が固着されている。すなわち、レーザ
ヘツド20は第1の駆動体24によつて座標軸X
の方向に走査され、第2の駆動体26によつて座
標軸Yの方向に走査される。
更に、裁断コンベヤ10の近辺にはレーザ発振
器30が配置されており、前述した第2の駆動体
26にはミラーからなる光学手段32が配置され
ている。また、レーザ発振器30には導光手段3
4が設けられている。この導光手段34から出た
レーザ光は光路L1を通過して光学手段32に入
射し、ここで光路が変更された後、光路L2を通
過してレーザヘツド20に達する。光路L1の方
向は光学手段32の移動方向、すなわち第2の駆
動体26の矢印F3の移動方向に一致する。ま
た、光路L2の方向はレーザヘツド20の移動方
向、すなわちキヤリツジ28の矢印F4の移動方
向に一致する。従つて、レーザヘツド20がどの
ように移動しても、レーザ発振器30から出力さ
れるレーザ光は良好にレーザヘツド20に達する
ことができる。
器30が配置されており、前述した第2の駆動体
26にはミラーからなる光学手段32が配置され
ている。また、レーザ発振器30には導光手段3
4が設けられている。この導光手段34から出た
レーザ光は光路L1を通過して光学手段32に入
射し、ここで光路が変更された後、光路L2を通
過してレーザヘツド20に達する。光路L1の方
向は光学手段32の移動方向、すなわち第2の駆
動体26の矢印F3の移動方向に一致する。ま
た、光路L2の方向はレーザヘツド20の移動方
向、すなわちキヤリツジ28の矢印F4の移動方
向に一致する。従つて、レーザヘツド20がどの
ように移動しても、レーザ発振器30から出力さ
れるレーザ光は良好にレーザヘツド20に達する
ことができる。
次に、上記従来例の動作について説明すると、
生地18は裁断コンベヤ10の動作とともに移送
され、レーザヘツド20の部分を通過する。レー
ザヘツド20は駆動機構22によつて走査移動さ
れ、これに伴つてレーザ光が生地18上で一定パ
ターンを描きながら走査が行なわれることとな
る。
生地18は裁断コンベヤ10の動作とともに移送
され、レーザヘツド20の部分を通過する。レー
ザヘツド20は駆動機構22によつて走査移動さ
れ、これに伴つてレーザ光が生地18上で一定パ
ターンを描きながら走査が行なわれることとな
る。
上記のような従来のレーザ加工装置では、駆動
機構22の大きさが裁断するパターンの大きさに
比例して大きくなり、配置スペースも十分とる必
要が生ずる。このため、レーザ加工装置、特に裁
断コンベヤ10の長さが大となる。また、駆動機
構22の動作に伴う騒音あるいは振動も相当大と
ならざるを得ない。
機構22の大きさが裁断するパターンの大きさに
比例して大きくなり、配置スペースも十分とる必
要が生ずる。このため、レーザ加工装置、特に裁
断コンベヤ10の長さが大となる。また、駆動機
構22の動作に伴う騒音あるいは振動も相当大と
ならざるを得ない。
また、レーザヘツド20の移動範囲は裁断パタ
ーンと一致するため、高速で裁断加工を行うこと
が困難であるという不都合もある。高速で裁断加
工を行うためにレーザ照射手段を複数設けること
も考えられるが、レーザ照射手段を複数設けるた
めにはレーザ発振器に複数設けなければならず、
装置が相当大がかりとなる。しかも、レーザ照射
手段を複数設けて裁断を行う場合は、レーザヘツ
ドのクロスは不可能であるとともにその接近にも
限界があるため、レーザヘツドの移動が重ならな
いように配慮する必要がある。
ーンと一致するため、高速で裁断加工を行うこと
が困難であるという不都合もある。高速で裁断加
工を行うためにレーザ照射手段を複数設けること
も考えられるが、レーザ照射手段を複数設けるた
めにはレーザ発振器に複数設けなければならず、
装置が相当大がかりとなる。しかも、レーザ照射
手段を複数設けて裁断を行う場合は、レーザヘツ
ドのクロスは不可能であるとともにその接近にも
限界があるため、レーザヘツドの移動が重ならな
いように配慮する必要がある。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであ
り、簡単な装置により、高速で生産性よく所定の
加工を行うことができるとともに、騒音あるいは
振動の低減し得るレーザ加工装置を提供すること
をその目的とする。
り、簡単な装置により、高速で生産性よく所定の
加工を行うことができるとともに、騒音あるいは
振動の低減し得るレーザ加工装置を提供すること
をその目的とする。
この発明に係るレーザ加工装置は、支持台に支
持された被加工物に対し、レーザ光を2次元的に
走査しつつ照射することによつて被加工物を加工
するレーザ加工装置において、該装置はレーザ光
源から出力されるレーザ光を被加工物に対して集
中照射する光学手段を含み、この光学手段はま
た、レーザ光のビームを拡大するビーム拡大手段
と、該拡大されたレーザ光の集光を行なう集光レ
ンズ手段と、該集光レンズ手段の出力レーザ光を
複数に分割する分割手段と、分割された該レーザ
光を反射させて被加工物に各々照射する複数の反
射手段とを含み、該各々の反射手段は、それぞ
れ、第1及び第2の軸に対する揺動手段を備えて
いるものである。
持された被加工物に対し、レーザ光を2次元的に
走査しつつ照射することによつて被加工物を加工
するレーザ加工装置において、該装置はレーザ光
源から出力されるレーザ光を被加工物に対して集
中照射する光学手段を含み、この光学手段はま
た、レーザ光のビームを拡大するビーム拡大手段
と、該拡大されたレーザ光の集光を行なう集光レ
ンズ手段と、該集光レンズ手段の出力レーザ光を
複数に分割する分割手段と、分割された該レーザ
光を反射させて被加工物に各々照射する複数の反
射手段とを含み、該各々の反射手段は、それぞ
れ、第1及び第2の軸に対する揺動手段を備えて
いるものである。
[作用]
この発明においては、透過性ミラー等で構成で
きる分割手段により複数に分けられたレーザ光を
被加工物に対して各々反射する反射手段(反射ミ
ラーで構成できる)を設けているので、それら各
反射手段をそれぞれ第1、第2の軸に対して揺動
させることで、2つに分割されたそれらレーザ光
は、各々、被加工物上で所定のパターンを描く。
きる分割手段により複数に分けられたレーザ光を
被加工物に対して各々反射する反射手段(反射ミ
ラーで構成できる)を設けているので、それら各
反射手段をそれぞれ第1、第2の軸に対して揺動
させることで、2つに分割されたそれらレーザ光
は、各々、被加工物上で所定のパターンを描く。
しかも、それに際してはまた、レーザ光源から
のレーザ光をビーム拡大手段により一旦拡大した
上で集光レンズ手段に入射させ、再度集束を計つ
ているので、当該集光レンズ手段の焦点距離を設
計的に長目に選ぶことにより、被加工物上でのス
ポツト径を十分に絞つても、各反射手段と被加工
物との距離を大きく保つことができ、これはま
た、それら各反射手段の揺動の程度を小さく抑え
得ることを意味するため、高精度を保ちながらの
高速加工が可能となる。
のレーザ光をビーム拡大手段により一旦拡大した
上で集光レンズ手段に入射させ、再度集束を計つ
ているので、当該集光レンズ手段の焦点距離を設
計的に長目に選ぶことにより、被加工物上でのス
ポツト径を十分に絞つても、各反射手段と被加工
物との距離を大きく保つことができ、これはま
た、それら各反射手段の揺動の程度を小さく抑え
得ることを意味するため、高精度を保ちながらの
高速加工が可能となる。
[実施例]
第1図には、本発明に従つて構成されたレーザ
加工装置の一実施例が示されており、この装置の
正面から見た概略の構成が第2図に示されてい
る。これら第1図及び第2図において、加工対象
の生地100が支持される支持台であるスラツト
コンベヤ102の左方には生地100の延反装置
104が配置されている。この延反装置104に
は生地100が巻回された原反ロール106がセ
ツトされており、この原反ロール106に巻回さ
れた生地100は延反装置104によつてスラツ
トコンベヤ102上に送り出されるようになつて
いる。スラツトコンベヤ102の右方にはスクラ
ツプ処理装置108が配置されており、加工終了
後の残余のスクラツプが収容されるようになつて
いる。
加工装置の一実施例が示されており、この装置の
正面から見た概略の構成が第2図に示されてい
る。これら第1図及び第2図において、加工対象
の生地100が支持される支持台であるスラツト
コンベヤ102の左方には生地100の延反装置
104が配置されている。この延反装置104に
は生地100が巻回された原反ロール106がセ
ツトされており、この原反ロール106に巻回さ
れた生地100は延反装置104によつてスラツ
トコンベヤ102上に送り出されるようになつて
いる。スラツトコンベヤ102の右方にはスクラ
ツプ処理装置108が配置されており、加工終了
後の残余のスクラツプが収容されるようになつて
いる。
スラツトコンベヤ102の中央付近適宜位置に
は、略コ字状のフレーム110が配置されてお
り、更にフレーム110の水平部の略中央にはレ
ーザヘツド112,212が固定されている。レ
ーザヘツド112,212は、例えばジンバル状
に構成された第1のミラー駆動部114,21
4、第2のミラー駆動部116,216、及び集
光手段118を各々含んでいる。レーザヘツド1
12,212の光学系の一例は第3図に示されて
いる。この図に示すように、レーザ光は図の一点
鎖線の如く凸面鏡120、凹面鏡122から成る
ビーム拡大手段を介してビーム径が拡大された
後、集光手段118であるレンズ124に入射
し、更にはハーフミラー125によつて一部が反
射され、ミラー126によつて反射され、生地1
00に入射し、他方、ハーフミラー125を透過
した一部がミラー226によつて反射され、生地
100に入射するようになつている。
は、略コ字状のフレーム110が配置されてお
り、更にフレーム110の水平部の略中央にはレ
ーザヘツド112,212が固定されている。レ
ーザヘツド112,212は、例えばジンバル状
に構成された第1のミラー駆動部114,21
4、第2のミラー駆動部116,216、及び集
光手段118を各々含んでいる。レーザヘツド1
12,212の光学系の一例は第3図に示されて
いる。この図に示すように、レーザ光は図の一点
鎖線の如く凸面鏡120、凹面鏡122から成る
ビーム拡大手段を介してビーム径が拡大された
後、集光手段118であるレンズ124に入射
し、更にはハーフミラー125によつて一部が反
射され、ミラー126によつて反射され、生地1
00に入射し、他方、ハーフミラー125を透過
した一部がミラー226によつて反射され、生地
100に入射するようになつている。
第1のミラー駆動部114はミラー126を軸
PX1を中心として第2図の矢印FA又は第3図の
矢印FB1の如く揺動駆動するものであり、この
軸PX1は集光手段118のレンズ124の光軸
と平行である。また、第1のミラー駆動部214
はミラー226を軸PX2を中心としてミラー1
26と同様に第3図の矢印FB2の如く揺動駆動
するものであり、この軸PX2は集光手段118
のレンズ124の光軸と一致している。
PX1を中心として第2図の矢印FA又は第3図の
矢印FB1の如く揺動駆動するものであり、この
軸PX1は集光手段118のレンズ124の光軸
と平行である。また、第1のミラー駆動部214
はミラー226を軸PX2を中心としてミラー1
26と同様に第3図の矢印FB2の如く揺動駆動
するものであり、この軸PX2は集光手段118
のレンズ124の光軸と一致している。
第2のミラー駆動部116はミラー126を軸
PY1を中心として第2図の矢印FC又は第3図の
矢印FD1の如く揺動するものである。また、第
2のミラー駆動部216はミラー226を軸PY
2を中心としてミラー126と同様に第3図の矢
印FD2の如く揺動駆動するものである。
PY1を中心として第2図の矢印FC又は第3図の
矢印FD1の如く揺動するものである。また、第
2のミラー駆動部216はミラー226を軸PY
2を中心としてミラー126と同様に第3図の矢
印FD2の如く揺動駆動するものである。
すなわち、レーザ光LA(第1図参照)は、凸面
鏡120、凹面鏡122及びレンズ124によつ
て焦点が生地100上となるように合わせられる
とともに、ハーフミラー125で分割され、その
一方が第1のミラー駆動部114によつて生地1
00上に想定される座標X方向に走査され、第2
のミラー駆動部116によつて生地100上に想
定される座標Y方向に走査されるようになつてい
る。ハーフミラー125で分割された他方のレー
ザ光もレーザヘツド212により上記同様に走査
されるようになつている。なお、127はシヤツ
ターであり、このシヤツター127でレーザ光を
さえぎることにより、レーザヘツド121のみ走
査させることもできるようになつている。
鏡120、凹面鏡122及びレンズ124によつ
て焦点が生地100上となるように合わせられる
とともに、ハーフミラー125で分割され、その
一方が第1のミラー駆動部114によつて生地1
00上に想定される座標X方向に走査され、第2
のミラー駆動部116によつて生地100上に想
定される座標Y方向に走査されるようになつてい
る。ハーフミラー125で分割された他方のレー
ザ光もレーザヘツド212により上記同様に走査
されるようになつている。なお、127はシヤツ
ターであり、このシヤツター127でレーザ光を
さえぎることにより、レーザヘツド121のみ走
査させることもできるようになつている。
なお、凸面鏡120及び凹面鏡122から成る
ビーム拡大手段は生地100上におけるレーザ光
LBのスポツト径dを絞るためのものである。す
なわち、スポツト径dはレンズ124の焦点距離
f、レンズ124に入射するレーザ光のビーム径
D、定数kに対して、 d=kf/D で表わされる。従つて、焦点距離fを大きくとる
場合であつても、スポツト径dを一定にしようと
するとビーム径Dも焦点距離fに比例して大きく
する必要がある。本発明においては、レンズ12
4の焦点距離fを大きくし、長焦点集光手段ない
し長焦点凸レンズとすることにより、レーザヘツ
ド112,212と生地100との距離を大とす
る方がミラー126,216の揺動の程度を小さ
くすることができるため、かかるビーム拡大手段
を用いている。
ビーム拡大手段は生地100上におけるレーザ光
LBのスポツト径dを絞るためのものである。す
なわち、スポツト径dはレンズ124の焦点距離
f、レンズ124に入射するレーザ光のビーム径
D、定数kに対して、 d=kf/D で表わされる。従つて、焦点距離fを大きくとる
場合であつても、スポツト径dを一定にしようと
するとビーム径Dも焦点距離fに比例して大きく
する必要がある。本発明においては、レンズ12
4の焦点距離fを大きくし、長焦点集光手段ない
し長焦点凸レンズとすることにより、レーザヘツ
ド112,212と生地100との距離を大とす
る方がミラー126,216の揺動の程度を小さ
くすることができるため、かかるビーム拡大手段
を用いている。
次に、スラツトコンベヤ102あるいは延反装
置104の近辺にはレーザ発振器128が配置さ
れており、更に、フレーム110の一方の肩11
0Aにはミラーなどから成る光学手段130が配
置固定されている。レーザ発振器128と光学手
段130の間には伝送体132,134及び光学
手段130によつてレーザ発振器128によつて
出力されるレーザ光をレーザヘツド112,21
2に導く伝送手段が構成されている。
置104の近辺にはレーザ発振器128が配置さ
れており、更に、フレーム110の一方の肩11
0Aにはミラーなどから成る光学手段130が配
置固定されている。レーザ発振器128と光学手
段130の間には伝送体132,134及び光学
手段130によつてレーザ発振器128によつて
出力されるレーザ光をレーザヘツド112,21
2に導く伝送手段が構成されている。
次にスラツトコンベヤ102は一部が円弧状に
わん曲しており、これによつて加工わん曲部10
2Aが形成されている。この加工わん曲102A
はミラー126の軸PX1の回転中心を中心点と
した半径rの円周の一部となるように構成されて
いる(第2図参照)このため、第1のミラー駆動
部114によりミラー126を軸PX1に対して
回転することによつてレーザ光LAを座標軸X方
向に走査する場合にあつては、ミラー126と生
地100との光学的距離が変化しないため、焦点
がずれるおそれがない。第2のミラー駆動部21
4に対しても同様である。
わん曲しており、これによつて加工わん曲部10
2Aが形成されている。この加工わん曲102A
はミラー126の軸PX1の回転中心を中心点と
した半径rの円周の一部となるように構成されて
いる(第2図参照)このため、第1のミラー駆動
部114によりミラー126を軸PX1に対して
回転することによつてレーザ光LAを座標軸X方
向に走査する場合にあつては、ミラー126と生
地100との光学的距離が変化しないため、焦点
がずれるおそれがない。第2のミラー駆動部21
4に対しても同様である。
次に、上記実施例における全体的動作について
説明する。まず、生地100は延反装置104に
よつて原反ロール106からスラツトコンベヤ1
02上に送り出される。他方、レーザ光は、レー
ザ発振器128から前述した伝送手段を介してレ
ーザヘツド112に達する。レーザ光は前述した
ビーム拡大手段120及びレンズ124を通過
し、一部がハーフミラー125によつて反射さ
れ、ミラー126によつて生地100上に焦点が
合うように反射される。ハーフミラー125を通
過したレーザ光はレーザヘツド212に達し、ミ
ラー226によつて生地100上に焦点が合うよ
うに反射される。
説明する。まず、生地100は延反装置104に
よつて原反ロール106からスラツトコンベヤ1
02上に送り出される。他方、レーザ光は、レー
ザ発振器128から前述した伝送手段を介してレ
ーザヘツド112に達する。レーザ光は前述した
ビーム拡大手段120及びレンズ124を通過
し、一部がハーフミラー125によつて反射さ
れ、ミラー126によつて生地100上に焦点が
合うように反射される。ハーフミラー125を通
過したレーザ光はレーザヘツド212に達し、ミ
ラー226によつて生地100上に焦点が合うよ
うに反射される。
このとき、第1及び第2のミラー駆動部11
4,116によつてミラー126が軸PX1,PY
1を中心として揺動し、必要な裁断のパターンに
従つてレーザ光LAが生地100上で走査される
(第1図参照)。レーザ光LBについても同様に第
1及び第2のミラー駆動部214,216によつ
て所定のパターンを描くように生地100上で走
査される。
4,116によつてミラー126が軸PX1,PY
1を中心として揺動し、必要な裁断のパターンに
従つてレーザ光LAが生地100上で走査される
(第1図参照)。レーザ光LBについても同様に第
1及び第2のミラー駆動部214,216によつ
て所定のパターンを描くように生地100上で走
査される。
以上の動作により、生地100は、同時に2つ
の対象のパターンが形成されて裁断され、生地1
00は、スラツトコンベヤ102によつてスクラ
ツプ処理装置108の方向に送られる。裁断され
た生地100A,100Bはオペレータによつて
スラツトコンベヤ102上から収集され、スクラ
ツプはスクラツプ処理装置に収容される。
の対象のパターンが形成されて裁断され、生地1
00は、スラツトコンベヤ102によつてスクラ
ツプ処理装置108の方向に送られる。裁断され
た生地100A,100Bはオペレータによつて
スラツトコンベヤ102上から収集され、スクラ
ツプはスクラツプ処理装置に収容される。
なお、上記実施例では第1及び第2のミラー駆
動部114,116によつてレーザ光LAを直交
する座標軸XY方向に走査することとしたが、レ
ーザ光LAを平面的ないしは2次元的に走査でき
れば十分である。レーザ光LBについても同様で
ある。
動部114,116によつてレーザ光LAを直交
する座標軸XY方向に走査することとしたが、レ
ーザ光LAを平面的ないしは2次元的に走査でき
れば十分である。レーザ光LBについても同様で
ある。
また、上記実施例では生地100を座標軸Xの
方向にわん曲させたが、これをY方向にわん曲さ
せるようにしてもよい。
方向にわん曲させたが、これをY方向にわん曲さ
せるようにしてもよい。
更に、加工対象物としては生地、皮等の他、金
属、プラスチツクなどでもよいが、上記実施例で
は可とう性のあるものが好ましいことはいうまで
もない。このような性質を有しない場合には、ス
ラツトコンベヤ102を第4図に示すように平担
に構成することとなる。更に、加工対象物が比較
的小面積のものであるときは、直接スラツトコン
ベヤ102上に載せるようにする。
属、プラスチツクなどでもよいが、上記実施例で
は可とう性のあるものが好ましいことはいうまで
もない。このような性質を有しない場合には、ス
ラツトコンベヤ102を第4図に示すように平担
に構成することとなる。更に、加工対象物が比較
的小面積のものであるときは、直接スラツトコン
ベヤ102上に載せるようにする。
以上説明したように、本発明によるレーザ加工
装置によれば、透過性ミラーで複数に分けたレー
ザ光を被加工物に対して各々照射する光学手段で
あるミラーを複数設けるとともに、これらのミラ
ーを第1及び第2の軸を中心として所定のパター
ンを描くように制御しつつレーザ光を走査するよ
うにしたので、レーザ光のクロスあるいは接近も
容易に行うことができ、高速で生産性よく加工を
行うことができるとともに、騒音あるいは振動が
低減されるという効果がある。また、1つのレー
ザ光を複数に分割して使用するのでレーザ発振器
およびレンズが1基ですみ、従つて設備費を低減
させることができる。
装置によれば、透過性ミラーで複数に分けたレー
ザ光を被加工物に対して各々照射する光学手段で
あるミラーを複数設けるとともに、これらのミラ
ーを第1及び第2の軸を中心として所定のパター
ンを描くように制御しつつレーザ光を走査するよ
うにしたので、レーザ光のクロスあるいは接近も
容易に行うことができ、高速で生産性よく加工を
行うことができるとともに、騒音あるいは振動が
低減されるという効果がある。また、1つのレー
ザ光を複数に分割して使用するのでレーザ発振器
およびレンズが1基ですみ、従つて設備費を低減
させることができる。
さらに、レーザビームはあらかじめビーム拡大
手段により拡大した後、集光レンズ手段に入射さ
せているので、この集光レンズ手段に望ましくは
長焦点のものを使うことができる。そのため、被
加工物上でのスポツト径を十分に絞つても、各反
射手段と被加工物との距離は大きく採ることがで
き、結局はそれら各反射手段の揺動の程度を小さ
く抑えることができる。このこともまた、上記の
高精度、高速加工性に大いに寄与するものとな
る。
手段により拡大した後、集光レンズ手段に入射さ
せているので、この集光レンズ手段に望ましくは
長焦点のものを使うことができる。そのため、被
加工物上でのスポツト径を十分に絞つても、各反
射手段と被加工物との距離は大きく採ることがで
き、結局はそれら各反射手段の揺動の程度を小さ
く抑えることができる。このこともまた、上記の
高精度、高速加工性に大いに寄与するものとな
る。
第1図は本発明レーザ加工装置の一実施例を示
す斜視図、第2図は第1図に示す装置の簡略化し
た正面図、第3図はレーザヘツドの構成例を示す
説明図、第4図は従来のレーザ加工装置の一例を
示す斜視図である。 図において、100は生地、102はスラツト
コンベヤ、112,212はレーザヘツド、11
4,116,214,216はミラー駆動部、1
18は集光手段、120は凸面鏡、122……凹
面鏡、124はレンズ、125はハーフミラー、
126,226はミラー、128はレーザ発振
器、102Aはわん曲部、PX1,PX2,PY1,
PY2は軸、LA,LBはレーザ光である。なお、
各図中、同一符号は同一又は相当部分を示すもの
とする。
す斜視図、第2図は第1図に示す装置の簡略化し
た正面図、第3図はレーザヘツドの構成例を示す
説明図、第4図は従来のレーザ加工装置の一例を
示す斜視図である。 図において、100は生地、102はスラツト
コンベヤ、112,212はレーザヘツド、11
4,116,214,216はミラー駆動部、1
18は集光手段、120は凸面鏡、122……凹
面鏡、124はレンズ、125はハーフミラー、
126,226はミラー、128はレーザ発振
器、102Aはわん曲部、PX1,PX2,PY1,
PY2は軸、LA,LBはレーザ光である。なお、
各図中、同一符号は同一又は相当部分を示すもの
とする。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持台に支持された被加工物に対し、レーザ
光を2次元的に走査しつつ照射することによつて
被加工物を加工するレーザ加工装置において; 該装置はレーザ光源から出力されるレーザ光を
被加工物に対して集中照射する光学手段を含み; 該光学手段は、レーザ光のビームを拡大するビ
ーム拡大手段と、該拡大されたレーザ光の集光を
行なう集光レンズ手段と、該集光レンズ手段の出
力レーザ光を複数に分割する分割手段と、分割さ
れた該レーザ光を反射させて被加工物に各々照射
する複数の反射手段とを含み; 該各々の反射手段は、それぞれ、第1及び第2
の軸に対する揺動手段を備えていること; を特徴とするレーザ加工装置。 2 前記各々の反射手段は第1又は第2の軸の一
方を前記集光手段の光軸と平行にしていること; を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザ
加工装置。 3 前記支持台は前記第1又は第2の軸の中心に
対する円弧を形成するわん曲部を有しているこ
と; を特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記
載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59267488A JPS61145882A (ja) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59267488A JPS61145882A (ja) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61145882A JPS61145882A (ja) | 1986-07-03 |
| JPH0314553B2 true JPH0314553B2 (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=17445542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59267488A Granted JPS61145882A (ja) | 1984-12-20 | 1984-12-20 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61145882A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1220891B (it) * | 1988-06-03 | 1990-06-21 | Buderus Sell | Procedimento di rilevamento di modelli tessili con sistema a scansione x y e dispositivo adottante il procedimento |
| JPH04124889A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-24 | Juki Corp | レーザー発振装置およびそのレーザー発振装置を備えた裁断装置 |
| EP1447068A1 (en) * | 2003-02-14 | 2004-08-18 | Fameccanica.Data S.p.A. | Process and device for the localised treatment of articles, for example hygienic and sanitary products |
| US8445812B2 (en) | 2007-01-02 | 2013-05-21 | Fameccanica.Data S.P.A. | Devices for treating film material, for instance for manufacturing sanitary products |
| ITFI20080053A1 (it) | 2008-03-20 | 2009-09-21 | Ot Las S R L | "dispositivo di lavorazione tramite fascio laser di un materiale in nastro con sistema di appoggio e alimentazione del materiale in corrispondenza della zona di lavoro" |
| CN103422295A (zh) * | 2010-10-29 | 2013-12-04 | 武汉金运激光股份有限公司 | 一种地毯激光加工机 |
| CN104668784A (zh) * | 2015-03-02 | 2015-06-03 | 通标标准技术服务(上海)有限公司 | 激光切割在纺织品检测取样应用的方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5211895A (en) * | 1975-07-18 | 1977-01-29 | Komatsu Ltd | Forming equipment for dooble parallel beams |
| JPS52122680U (ja) * | 1976-03-15 | 1977-09-17 | ||
| JPS6026312B2 (ja) * | 1977-06-23 | 1985-06-22 | 三菱電機株式会社 | 横方向励起気体循環形レ−ザ発振装置 |
| JPS5827000Y2 (ja) * | 1980-02-21 | 1983-06-11 | 新日本製鐵株式会社 | 電磁鋼板の磁気特性改善装置 |
| JPS5826999Y2 (ja) * | 1980-02-21 | 1983-06-11 | 新日本製鐵株式会社 | 電磁鋼板の磁気特性改善装置 |
-
1984
- 1984-12-20 JP JP59267488A patent/JPS61145882A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61145882A (ja) | 1986-07-03 |
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