JPH03146463A - ムライト質焼結体及びその製造方法 - Google Patents
ムライト質焼結体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH03146463A JPH03146463A JP1285250A JP28525089A JPH03146463A JP H03146463 A JPH03146463 A JP H03146463A JP 1285250 A JP1285250 A JP 1285250A JP 28525089 A JP28525089 A JP 28525089A JP H03146463 A JPH03146463 A JP H03146463A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mullite
- sintered body
- mgo
- particle size
- weight
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- Pending
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[a業上の利用分野]
本発明はムライト質焼結体及びその製造方法に係り、特
に高温強度等の特性に優れ、しかも安価に提供されるム
ライト質焼結体及びその製造方法に関する。
に高温強度等の特性に優れ、しかも安価に提供されるム
ライト質焼結体及びその製造方法に関する。
[従来の技術]
ムライトはAj!a Osと5102からなり、化学組
成は理論的には3AfL20s−2SiO2であり、そ
の特性としては、耐熱性に優れ、特にクリープ特性が良
好である。また、熱衝撃特性は良好であるが電気的特性
はあまり良くない。
成は理論的には3AfL20s−2SiO2であり、そ
の特性としては、耐熱性に優れ、特にクリープ特性が良
好である。また、熱衝撃特性は良好であるが電気的特性
はあまり良くない。
ムライトセラよツクスはオールドセラミックスに属し、
その研究の歴史は永く、原料としては、アルミナ源とし
てカオリン、バイヤーアル稟す、シリカ源として珪石が
主に用いられている。最近では、天然ムライトを改質す
ることにより、合成ムライト並の物性を出すことができ
るようになったが、この研究の主体はムライト組成中の
SiO2相の析出及びガラス化の防止であり、原料の調
製や焼結条件などを検討したものである。
その研究の歴史は永く、原料としては、アルミナ源とし
てカオリン、バイヤーアル稟す、シリカ源として珪石が
主に用いられている。最近では、天然ムライトを改質す
ることにより、合成ムライト並の物性を出すことができ
るようになったが、この研究の主体はムライト組成中の
SiO2相の析出及びガラス化の防止であり、原料の調
製や焼結条件などを検討したものである。
一方、ファインセラミックス技術を用いた高純度ムライ
トという理論組成の素材もあり、これは金属アルコキシ
ドから理論組成となるように共沈法で製造したものであ
る。
トという理論組成の素材もあり、これは金属アルコキシ
ドから理論組成となるように共沈法で製造したものであ
る。
しかして、これらの原料を目的に合わせて混合し、焼結
したものがムライト系セラミックス材料といわれ、ムラ
イト系セラよツクスはアルミナセラ稟ツクスと同様、高
温強度が比較的大きく、天然原料を用いたものは安価な
素材であることから、炉材、サヤ、セッター材、耐熱材
、構造材等、主に耐火材料として用いられてきた。
したものがムライト系セラミックス材料といわれ、ムラ
イト系セラよツクスはアルミナセラ稟ツクスと同様、高
温強度が比較的大きく、天然原料を用いたものは安価な
素材であることから、炉材、サヤ、セッター材、耐熱材
、構造材等、主に耐火材料として用いられてきた。
[発明が解決しようとする課題]
従来のムライト系セラミックスのうち、天然ムライトを
改質したものでは、長期間の使用や高温使用時に、もと
もと入っているAl103−3iO2ボンデイングが分
解し、SiO2がムライト粒界にガラス相として析出す
る。このため、強度が著しく低下し、連続的な使用や繰
り返しの使用に難があった。
改質したものでは、長期間の使用や高温使用時に、もと
もと入っているAl103−3iO2ボンデイングが分
解し、SiO2がムライト粒界にガラス相として析出す
る。このため、強度が著しく低下し、連続的な使用や繰
り返しの使用に難があった。
アルコシキト法による高純度ムライトは、上記欠点を解
決するために開発されたものであるが、高純度ムライト
は高温強度、耐久性等に大きな改善効果を有するものの
、価格が高いために従来より用いられている耐熱材料等
の工業材料の分野で使用するにはコスト的に不利であっ
た。
決するために開発されたものであるが、高純度ムライト
は高温強度、耐久性等に大きな改善効果を有するものの
、価格が高いために従来より用いられている耐熱材料等
の工業材料の分野で使用するにはコスト的に不利であっ
た。
本発明は上記従来の問題点を解決し、高温強度等の特性
に優れ、かつ安価に提供されるムライト質セラくツクス
焼結体及びその製造方法を提供することを目的とする。
に優れ、かつ安価に提供されるムライト質セラくツクス
焼結体及びその製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
請求項(1)のムライト質焼結体は、A42N(窒化ア
ルミニウム)、MgO及びムライトよりなり、AfN%
MgO含有量がムライトに対して各々5〜40重量%、
1〜10重量%であって、ムライト粒径が10〜100
μmであることを特徴とする 請求項(2)のムライト質焼結体の製造方法は、精製粘
土鉱物、バイヤーアル主す、水酸化アルミニウム及び珪
石よりなる群から選ばれる少なくとも2種を主原料とし
て、AIt20a /SiO2の組成比がムライト生成
範囲となるように調合し、該調合原料を90%以上が粒
径5μm以下となるように湿式粉砕した後、粒径30μ
m以下のAfLNを前記調合原料に対して5〜40重量
%、粒径1μm以下のMgOを前記調合原料に対して1
〜10重量%添加混合し、次いで、得られた混合物を乾
燥、解砕し、その後、有機質バインダーを用いて成形し
、成形体を1600℃以上の温度で1時間以上焼成する
ことを特徴とする。
ルミニウム)、MgO及びムライトよりなり、AfN%
MgO含有量がムライトに対して各々5〜40重量%、
1〜10重量%であって、ムライト粒径が10〜100
μmであることを特徴とする 請求項(2)のムライト質焼結体の製造方法は、精製粘
土鉱物、バイヤーアル主す、水酸化アルミニウム及び珪
石よりなる群から選ばれる少なくとも2種を主原料とし
て、AIt20a /SiO2の組成比がムライト生成
範囲となるように調合し、該調合原料を90%以上が粒
径5μm以下となるように湿式粉砕した後、粒径30μ
m以下のAfLNを前記調合原料に対して5〜40重量
%、粒径1μm以下のMgOを前記調合原料に対して1
〜10重量%添加混合し、次いで、得られた混合物を乾
燥、解砕し、その後、有機質バインダーを用いて成形し
、成形体を1600℃以上の温度で1時間以上焼成する
ことを特徴とする。
即ち、本発明は、原料として従来より用いられている安
価な原料を用い、物性改良の手段として、特定のセラミ
ックス粒子を第2相としてムライト結晶内又は粒界面に
分散させることにより高強度化を図り、更に、MgOの
添加により遊離したガラス状シリカを固溶体として固定
し、高純度合成ムライト並の特性を有する材料を提供す
るものである。
価な原料を用い、物性改良の手段として、特定のセラミ
ックス粒子を第2相としてムライト結晶内又は粒界面に
分散させることにより高強度化を図り、更に、MgOの
添加により遊離したガラス状シリカを固溶体として固定
し、高純度合成ムライト並の特性を有する材料を提供す
るものである。
以下に本発明の詳細な説明する。
請求項(1)のムライト質焼結体は、ムライトに対して
5〜40重量%のAJ2Nと1〜10重量%のMgOを
含有するものである。AJ2Nの含有量がムライトに対
して5重量%未満では本発明による強度の改善効果が得
られず、40重量%を超えるとAfNの量が多くなり過
ぎて、ムライト質焼結体としての特性が損なわれる。従
って、本発明においては、AiN含有量はムライトに対
して5〜40重量%とする。特に、AiN含有量がムラ
イトに対してlO〜20!i量%であると、とりわけ高
強度なムライト質焼結体を得ることができる。
5〜40重量%のAJ2Nと1〜10重量%のMgOを
含有するものである。AJ2Nの含有量がムライトに対
して5重量%未満では本発明による強度の改善効果が得
られず、40重量%を超えるとAfNの量が多くなり過
ぎて、ムライト質焼結体としての特性が損なわれる。従
って、本発明においては、AiN含有量はムライトに対
して5〜40重量%とする。特に、AiN含有量がムラ
イトに対してlO〜20!i量%であると、とりわけ高
強度なムライト質焼結体を得ることができる。
一方、MgOの含有量がムライトに対して1重量%未満
では後述のムライト生成時に遊離するガラス相を十分に
固定することができず、強度改善効果が十分ではなく、
10重量%を超えるとMgO相が大きくなり好ましくな
い。従って、本発明においては、MgO含有量はムライ
トに対して1〜101i量%とする。特に、MgO含有
量がムライトに対して2〜5重量%であると、とりわけ
高強度なムライト質焼結体を得ることができる。
では後述のムライト生成時に遊離するガラス相を十分に
固定することができず、強度改善効果が十分ではなく、
10重量%を超えるとMgO相が大きくなり好ましくな
い。従って、本発明においては、MgO含有量はムライ
トに対して1〜101i量%とする。特に、MgO含有
量がムライトに対して2〜5重量%であると、とりわけ
高強度なムライト質焼結体を得ることができる。
請求項(1)のムライト質焼結体中のムライト結晶は、
粒径が1100aの範囲のものである。
粒径が1100aの範囲のものである。
ムライト結晶の粒径が100μmよりも大きいと得られ
るムライト質焼結体の曲げ強度が低下し、また10μm
よりも小さいとAJ2N粒子やMgO粒子をムライ、ト
結晶内又は粒界面に取り込み難くなる。従って、ムライ
ト結晶の粒径は10〜100μm、好ましくは10〜5
0μmとする。
るムライト質焼結体の曲げ強度が低下し、また10μm
よりも小さいとAJ2N粒子やMgO粒子をムライ、ト
結晶内又は粒界面に取り込み難くなる。従って、ムライ
ト結晶の粒径は10〜100μm、好ましくは10〜5
0μmとする。
一方、AiN粒子の粒径が微細過ぎるとムライトと均一
に混合することが難しい、このため、ムライト結晶粒内
に均一に取り込まれなくなる。逆にAIN粒子の粒径が
大き過ぎるとムライト結晶粒界にのみAj!Nが存在す
るようになり、粒界クラック発生の原因となる。従って
、本発明において、AiN粒子の粒径は30μm以下、
特に10um以下、とりわけ3〜10μmであることが
好ましい。
に混合することが難しい、このため、ムライト結晶粒内
に均一に取り込まれなくなる。逆にAIN粒子の粒径が
大き過ぎるとムライト結晶粒界にのみAj!Nが存在す
るようになり、粒界クラック発生の原因となる。従って
、本発明において、AiN粒子の粒径は30μm以下、
特に10um以下、とりわけ3〜10μmであることが
好ましい。
また、MgO粒子の粒径は、大きいとSiO2と、の反
応性に劣ることから、1μm以下、好ましくは0.5μ
m以下とする。
応性に劣ることから、1μm以下、好ましくは0.5μ
m以下とする。
なお、ムライト質焼結体中のムライトはその組成が理論
組成のA J220 s / S i O2!3/2(
モル比) 即ち72O3/SiO8728.2(重量%
)であることが好ましい、ムライト組成のAl12 o
sが理論組成よりも多過ぎるとAu203中にムライト
結晶が分散した形となり十分な強度が得られない、逆に
、ムライト組成の5i02が理論組成よりも多過ぎると
、ムライト中に遊離シリカ相がガラス相となって生成し
、十分な高温強度が得られない、従って、ムライト質焼
結体中のムライトは、理論組成Aj!20s /S i
02 =3/2 (モル比)にできるだけ近い組成で
あることが好ましい。
組成のA J220 s / S i O2!3/2(
モル比) 即ち72O3/SiO8728.2(重量%
)であることが好ましい、ムライト組成のAl12 o
sが理論組成よりも多過ぎるとAu203中にムライト
結晶が分散した形となり十分な強度が得られない、逆に
、ムライト組成の5i02が理論組成よりも多過ぎると
、ムライト中に遊離シリカ相がガラス相となって生成し
、十分な高温強度が得られない、従って、ムライト質焼
結体中のムライトは、理論組成Aj!20s /S i
02 =3/2 (モル比)にできるだけ近い組成で
あることが好ましい。
以上のように、可能な限りシリカガラス相が析出しない
ようにしても、若干の析出があり、このため十分に強度
を上げることはできない、ここにMgOを添加した場合
、ムライト生成時に遊離する若干のシリカガラスが、こ
のMgOと反応して固定されるため、ムライト粒界にガ
ラス相として析出しなくなり、高強度なものとなる。M
gOの添加量を1〜10重量%、より好ましくは2〜5
重量%とすると、遊離ガラス相は、コージライトとして
固定されているものと思われ、X線回折では含有量が少
ないため確認できないが、非常に高強度なものとなった
。なお、前述の如く、MgOの添加量が多すぎるとMg
O相が大きくなり好ましくない、また、少なすぎると遊
離ガラス相を十分固定できなくなり効果がない。
ようにしても、若干の析出があり、このため十分に強度
を上げることはできない、ここにMgOを添加した場合
、ムライト生成時に遊離する若干のシリカガラスが、こ
のMgOと反応して固定されるため、ムライト粒界にガ
ラス相として析出しなくなり、高強度なものとなる。M
gOの添加量を1〜10重量%、より好ましくは2〜5
重量%とすると、遊離ガラス相は、コージライトとして
固定されているものと思われ、X線回折では含有量が少
ないため確認できないが、非常に高強度なものとなった
。なお、前述の如く、MgOの添加量が多すぎるとMg
O相が大きくなり好ましくない、また、少なすぎると遊
離ガラス相を十分固定できなくなり効果がない。
このような請求項(1)のムライト質焼結体は請求項(
2)の方法により容易かつ効率的に低コストにて製造す
ることができる。
2)の方法により容易かつ効率的に低コストにて製造す
ることができる。
以下に請求項(2)のムライト質焼結体の製造方法につ
いて説明する。
いて説明する。
請求項(2)の方法においては、まず、原料として精製
粘土鉱物、′パイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム又
は珪石(シリカ)を用い、AAaOa/SiO2組成比
がムライト生成範囲、好ましくはA j! 20 s
/ S i O2= 3 / 2(モル比)となるよう
に調合する。この場合、特に原料としては精製カオリン
とパイヤーアルミナ又は水酸化アル主二りム、或いは、
パイヤーアルミナ又は水酸化アルミニウムと珪石を用い
るのが好ましい、これらの原料はその所要量をボール主
ル、又はアトライター等によりアルコール等を用いて9
0%以上が粒径5μm以下となるように湿式粉砕する6
次に、得られた粉砕物に粒径30μm以下、好ましくは
10μm以下、特に3〜10μmのAftNを該粉砕物
に対して5〜40重量%、好ましくは10〜20重量%
添加し、更に1μm以下のMgOを1〜10重量%、好
ましくは2〜5重量%添加しポールよル等で混合する。
粘土鉱物、′パイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム又
は珪石(シリカ)を用い、AAaOa/SiO2組成比
がムライト生成範囲、好ましくはA j! 20 s
/ S i O2= 3 / 2(モル比)となるよう
に調合する。この場合、特に原料としては精製カオリン
とパイヤーアルミナ又は水酸化アル主二りム、或いは、
パイヤーアルミナ又は水酸化アルミニウムと珪石を用い
るのが好ましい、これらの原料はその所要量をボール主
ル、又はアトライター等によりアルコール等を用いて9
0%以上が粒径5μm以下となるように湿式粉砕する6
次に、得られた粉砕物に粒径30μm以下、好ましくは
10μm以下、特に3〜10μmのAftNを該粉砕物
に対して5〜40重量%、好ましくは10〜20重量%
添加し、更に1μm以下のMgOを1〜10重量%、好
ましくは2〜5重量%添加しポールよル等で混合する。
得られた混合物は乾燥、解砕した後、ポリビニルアルコ
ール(PVA)等の有機質バインダーを用いて成形する
。成形は300 k g f / c rn’以上での
加圧成形後、100100O/cm’以上での静水圧プ
レス成形による2段成形で行なうのが好ましい。
ール(PVA)等の有機質バインダーを用いて成形する
。成形は300 k g f / c rn’以上での
加圧成形後、100100O/cm’以上での静水圧プ
レス成形による2段成形で行なうのが好ましい。
得られた成形体はホットプレス又は常圧焼結により焼成
し、ムライト質焼結体を得る。この場合、昇温速度は5
0〜b 好ましく、焼成温度は1600℃以上、好ましくは16
00〜1650℃とし、焼成時間は1時間以上、好まし
くは1〜3時間とするのが好ましい、なお、ホットプレ
スを採用する場合、圧力は300〜600 k g /
c m’程度とするのが好ましい。
し、ムライト質焼結体を得る。この場合、昇温速度は5
0〜b 好ましく、焼成温度は1600℃以上、好ましくは16
00〜1650℃とし、焼成時間は1時間以上、好まし
くは1〜3時間とするのが好ましい、なお、ホットプレ
スを採用する場合、圧力は300〜600 k g /
c m’程度とするのが好ましい。
【作用]
一般に、精製カオリン、バイヤーアル主す、水酸化アル
ミニウム又は珪石等の原料を用いて、これをボールミル
等で微粉砕して混合しても、原子レベルで理論組成に混
合することは不可能であり、焼結により拡散させるため
には長時間を必要とする。
ミニウム又は珪石等の原料を用いて、これをボールミル
等で微粉砕して混合しても、原子レベルで理論組成に混
合することは不可能であり、焼結により拡散させるため
には長時間を必要とする。
これに対して、ムライト組成中にN2相としてAjlN
粒子を5〜401i量%、MgO粒子を1〜10重量%
添加すると、ボールよル等による粉砕混合でも、通常の
成形、焼成により高温強度に優れ、たムライト質焼結体
が得られる。
粒子を5〜401i量%、MgO粒子を1〜10重量%
添加すると、ボールよル等による粉砕混合でも、通常の
成形、焼成により高温強度に優れ、たムライト質焼結体
が得られる。
このAJZN添加による高温強度改善の機構の詳細は明
らかではないが、ムライト結晶内又は粒界面に取り込ま
れたAiN粒子がムライト中の5iOzのガラス相への
移動をブロックしているため、更には、AIN粒子がム
ライト結晶粒内や結晶粒界へ分散し、ムライト結晶の戊
辰を抑制しているためと考えられる。まり、Mgo添加
については、遊離シリカ(ガラス相)がMgOと反応し
てコージライトなどの結晶となり、固定されるため、ガ
ラス相の析出がなくなり、高温強度の大きなものとなっ
ているためと考えられる。
らかではないが、ムライト結晶内又は粒界面に取り込ま
れたAiN粒子がムライト中の5iOzのガラス相への
移動をブロックしているため、更には、AIN粒子がム
ライト結晶粒内や結晶粒界へ分散し、ムライト結晶の戊
辰を抑制しているためと考えられる。まり、Mgo添加
については、遊離シリカ(ガラス相)がMgOと反応し
てコージライトなどの結晶となり、固定されるため、ガ
ラス相の析出がなくなり、高温強度の大きなものとなっ
ているためと考えられる。
[実施例]
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
説明する。
実施例2O3/SiO2、比較例1
精製しにカオリナイトに組成がAJ!a O3/5IO
a=3/2(モル比〉となるようにアルミナを添加し、
ボールミル(ZrOaボール)によりアルコールを用い
て48時時間式粉砕した。なお、この場合、メディア攪
拌型粉砕機(アトライター> ヲ用いると1〜2時間で
処理することが可能である。原料を90%以上が粒径5
μm以下となるようじ粉砕した後、これにAftN粉末
(電気化学工業社製)及びMgO粉末(三菱鉱業セメン
ト■製:平均粒径0.5μm)を第1表に示す量添加し
く比較例1は添加せず)、更にボールよルで5時間混合
した。これを乾燥、解砕した後、有機質バインダー(P
VA)を53i量%添加して十分に混練した。
a=3/2(モル比〉となるようにアルミナを添加し、
ボールミル(ZrOaボール)によりアルコールを用い
て48時時間式粉砕した。なお、この場合、メディア攪
拌型粉砕機(アトライター> ヲ用いると1〜2時間で
処理することが可能である。原料を90%以上が粒径5
μm以下となるようじ粉砕した後、これにAftN粉末
(電気化学工業社製)及びMgO粉末(三菱鉱業セメン
ト■製:平均粒径0.5μm)を第1表に示す量添加し
く比較例1は添加せず)、更にボールよルで5時間混合
した。これを乾燥、解砕した後、有機質バインダー(P
VA)を53i量%添加して十分に混練した。
混練物をプレス成形により50mmφX5mmに500
kg/crn’で成形した後、ラバープレスにより15
00kg/err?で更に加圧して成形体を得た。この
成形体を焼結してムライト質焼結体を得た。なお、焼結
はホットプレスを用い、昇温速度は150℃/ h r
とし、30Okg/crr?にて1600℃で1時間行
なった。
kg/crn’で成形した後、ラバープレスにより15
00kg/err?で更に加圧して成形体を得た。この
成形体を焼結してムライト質焼結体を得た。なお、焼結
はホットプレスを用い、昇温速度は150℃/ h r
とし、30Okg/crr?にて1600℃で1時間行
なった。
得られたムライト質焼結体の緒特性を第1表に示す。
TS1表
第1表より所定量のAfLN及びMgOを添加したムラ
イト質焼結体により、常温から1300’eといった高
温まで安定して著しく高い強度が得られることが明らか
である。
イト質焼結体により、常温から1300’eといった高
温まで安定して著しく高い強度が得られることが明らか
である。
[発明の効果コ
以上詳述した通り、本発明のムライト!焼結体は、安価
な原料を用いて低コストに提供されるものであり、しか
も、高温強度、耐久性等の特性に著しく優れる。従って
、本発明のムライト質焼結体は、工業用耐火材料等とし
て、長期にわたり極めて有効に使用することができる。
な原料を用いて低コストに提供されるものであり、しか
も、高温強度、耐久性等の特性に著しく優れる。従って
、本発明のムライト質焼結体は、工業用耐火材料等とし
て、長期にわたり極めて有効に使用することができる。
しかして、このような本発明のムライト質焼結体は、本
発明の方法により容易かつ効率的に低コストにて製造す
ることが可能とされる。
発明の方法により容易かつ効率的に低コストにて製造す
ることが可能とされる。
Claims (2)
- (1)AlN、MgO及びムライトよりなり、AlN含
有量がムライトに対して5〜40重量%、MgO含有量
がムライトに対して1〜10重量%であって、ムライト
粒径が10〜100μmであることを特徴とするムライ
ト質焼結体。 - (2)精製粘土鉱物、パイヤーアルミナ、水酸化アルミ
ニウム及び珪石よりなる群から選ばれる少なくとも2種
を主原料として、Al_2O_3/SiO_2の組成比
がムライト生成範囲となるように調合し、該調合原料を
90%以上が粒径5μm以下となるように湿式粉砕した
後、粒径30μm以下のAlNを前記調合原料に対して
5〜40重量%、粒径1μm以下のMgOを前記調合原
料に対して1〜10重量%添加混合し、次いで、得られ
た混合物を乾燥、解砕し、その後、有機質バインダーを
用いて成形し、成形体を1600℃以上の温度で1時間
以上焼成することを特徴とするムライト質焼結体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1285250A JPH03146463A (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | ムライト質焼結体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1285250A JPH03146463A (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | ムライト質焼結体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03146463A true JPH03146463A (ja) | 1991-06-21 |
Family
ID=17689064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1285250A Pending JPH03146463A (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | ムライト質焼結体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03146463A (ja) |
-
1989
- 1989-11-01 JP JP1285250A patent/JPH03146463A/ja active Pending
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