JPH0314806B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は日光遮へい剤の紫外線吸収性増強方法
に関する。 本発明は日光遮へい剤中にポリエチレン少なく
とも２重量％を包含せしめることから成る日光遮
へい剤の紫外線吸収性増強方法を提供するもので
ある。ここで、日光遮へい剤は油中水型エマルジ
ヨンであつて、その中に通常の乳化剤、軟化剤、
保存剤および１種ないしそれ以上の公知紫外線吸
収性化合物を含有せしめるのが好ましい。 紫外線エネルギーがヒトの皮ふに吸収されて紅
班反応（発赤）を起こす。この皮ふ反応は紫外線
エネルギー吸収量に依存する。日光および人工光
源のいずれであつてもそれから放射される紫外線
は３種の波長帯、すなわちUV−Ａ、UV−Ｂお
よびUV−Ｃに分けられ、これらの波長帯は異な
る量のエネルギーを放出し、それ故、皮ふ上にさ
らされたとき異なる時間間隔で皮ふの紅斑反応を
起こす。皮ふに感受される最少の紅斑反応を起こ
すのに必要な光源からのエネルギーを最少紅斑誘
発放射量（Minimal Erythema Dose＝MED）
という。 UV−Ａ放射線は地表面上に達する日光中に存
在し、320〜400ナノメーター（nm）の波長を有
する。この波長帯の放射線は皮ふの日焼けを起こ
すが、皮ふを発赤させる作用は弱い。1MEDを発
生させるためにはUV−Ａエネルギー約20〜50ジ
ユール／cm²を要する。露光後、約72時間で紅斑反
応の強さは最大となる。 UV−Ｂ放射線は地表面上に達する日光中に存
在し、290〜320nmの波長を有する。この波長帯
の放射線は皮ふの色素形成（着色）を刺激する日
焼反応の原因となる。1MEDを発生させるために
はUV−Ｂエネルギー約20〜50ミリジユール／cm²
を要する（すなわちUV−ＡのMEDの約1/1000
である。）。露光後、約６〜20時間で紅斑反応の強
さは最大となる。 UV−Ｃ放射線は地表面上に達する日光中には
存在しないが、人工紫外線源により放射される。
この放射線は皮ふの色素形成を刺激することはな
いが、約５〜20ミリジユール／cm²のエネルギーで
1MEDの放射量を発生して紅斑を起こす。 個人の皮ふ着色能は遺伝的にあらかじめ定まつ
ており、UV−ＢおよびUV−Ａにより刺激され
るときに色素細胞中のメラニン色素を産生する個
人許容能に左右される。紅斑応答の強さは皮ふの
色の作用に依存し、淡色の皮ふの個人が1MEDを
受けるに要する時間は濃色の皮ふの個人が1MED
を受けるに要する時間より短かい。 皮ふ着色を起こさせる最も強い方法は日光にさ
らされて皮ふの紅斑を発生させることである。苦
痛を感じさせるような激しさでなく日焼けを起こ
させるのに充分な紅斑反応は日焼けによる苦痛を
感じさせる露光時間の半分の時間でその反応を現
わす。UV−Ａの波長でも目焼けは起こるが、自
然の条件下では徐々に日焼けが起こる。最も一般
的には日焼けを起こさせるUV−Ｂの波長帯にさ
らされた後に皮ふ着色が現われる。 日光にさらされて日焼けを起させるまでの時間
を長くするための日光遮へい物質は市販品として
入手することができる。このような物質の例とし
て、種々の波長の紫外線を吸収することができる
化学物質、たとえば２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフエノン（UV−Ａを吸収する物質）ま
たは紫外線を物理的に反射ないし散乱させる不透
明物質、たとえばタルクなどが挙げられる。 紫外線を吸収する化合物およびかかる化合物を
含有する日光遮へい剤は、たとえば米国特許第
3004896号、第3189615号、第3403207号、第
3479428号、第3644614号、第360074号、第
3751563号、第3821363号、第3892844号および英
国特許第1291917号などに開示されている。 日光遮へい剤はしばしば特に温暖な気候条件の
もとに肉体労働を行なう人々または水に関係する
仕事に従事する人々により使用されるので、湿気
を防ぐ物質を使用するのが好ましい。かかる製品
を製造する試みの例として、紫外線を吸収するポ
リマー化合物およびその混合物を開発する試みが
知られている（たとえば米国特許第3666732号、
第3795733号、第3864473号、第3895104号、第
3980617号、第004047号など参照）。 本発明は日光遮へい剤（または遮断剤）にその
紫外線吸収性を増大させることを目的とするもの
である。対象とする日光遮へい剤は水、軟化剤、
乳化剤、保存剤、酸化防止剤、紫外線吸収性化合
物１種ないしそれ以上を含有する油中水型エマル
ジヨンであるのが好ましい。この組成物にポリエ
チレン約2.0〜15重量％、好ましくは低密度、低
分子量のポリエチレンホモポリマー約2.5〜6.0重
量％を含有せしめることによりその紫外線吸収性
を増大させることができる。 更に具体的に言えば、本発明は日光遮へい剤の
日焼領域（UV−Ｂ）および皮ふ着色領域（UV
−Ａ）の紫外線の吸収性を増強せしめることを目
的とするものである。このような日光遮へい剤は
この中に公知の紫外線吸収性化合物１種ないしそ
れ以上およびポリエチレン約2.0〜15重量％を含
有せしめ、またその中に他の成分、たとえば軟化
剤、乳化剤、保存剤、酸化防止剤、香料、着色剤
などを含有させてもよい。 日光遮へい剤はこれに耐湿性を加えることがで
きるので、油中水型エマルジヨンであるのが好ま
しい。しかし日光遮へい剤は水中油型エマルジヨ
ン、クーム剤または油剤として製剤されてもよ
い。種々の成分を選択するのに伴つて遮へい剤が
半固状クリーム様濃度を保持するとき、これをプ
ラスチツク製押出しチユーブに詰めることがで
き、ローシヨン様濃度を保持するとき、これをプ
ラスチツク製押出し容器に詰めることができる。
かかる容器として流体物型のキヤツプまたはポン
プ型デスペンサー（押出、噴霧またはその他の方
法で内容物を供給できる容器）を例示することが
できる。 日光遮へい剤はこれに公知の紫外線吸収剤１種
ないしそれ以上、好ましくはUV−Ｂ領域の紫外
線を吸収する少なくとも１種の化合物とUV−Ａ
領域の紫外線を吸収する少なくとも１種の化合物
を含有せしめる。この遮へい剤の中に含有せしめ
るUV吸収剤の総量は約３〜15重量％であつてよ
い。 適当なUV−Ａ吸収剤を例示すれば次のとおり
である。２−（2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエ
ニル）ベンゾトリアゾール（チヌビン
（Tinuvin）Ｐ）；２−（2′−ヒドロキシ−5′−ｔ−
オクチルフエニル）ベンゾトリアゾール（スペク
トラ−ソープ（Spectra−Sorb）UV5411）；２，
４−ジヒドロキシベンゾフエノン（ユビヌル
（Uvinul）400）；２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフエノン（オキシベンゾン、スペクトラ−
ソーブUV9、ユビヌルＭ−40）；２，2′，４，
4′−テトラヒドロキシベンゾフエノン（ユビヌル
D50）；２，2′−ジヒドロキシ−４，4′−ジメトキ
シベンゾフエノン（ユビヌルD49）；２，2′−
ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン（ジ
オキシベンゾン、スペクトラ−ソープUV24）；
２−エチルヘキシル−４−フエニル−ベンゾフエ
ノンカーボネート（ユウソレツクス（Eusolex）
3573）；２−ヒドロキシ−４−メトキシ−4′−メ
チルベンゾフエノン（メキセノン、ユビスタツト
（Uvistat）2211）；２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オ
クチルオキシ）ベンゾフエノン（オクタベンゾ
ン、ペクトラ−ソーブUV531）；４−フエニルベ
ンゾフエノン（ユウソレツクス3490）；および２
−エチルヘキシル−２−シアノ−３，3′−ジフエ
ニルアクリレート（ユビヌルN539）など。最終
生成物中にUV−Ａ吸収剤１種ないしそれ以上を
約0.5〜10重量％存在せしめる。その量は選定さ
れる特定の物質に応じて変化させ、また皮ふの着
色を最少限に止めるか、もしくはこれをある程度
許容する遮へい剤を製造するかのいずれかにより
変化させればよい。好ましいUV−Ａ吸収剤は２
−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン単独
か、またはこれと２，2′−ジヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノンとの混合物である。 適当なUV−Ｂ吸収剤を例示すれば次のとおり
である。４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチル
エステル；４−（ジルアミノ）安息香酸２−エチ
ルヘキシルエステル（エスカロール（Escalol）
507）；４−（ジメチルアミノ）安息香酸ペンチル
エステル（エスカロール506）；ｐ−アミノ安息香
酸グリセリルエステル（エスカロール106）；ｐ−
アミノ安息香酸イソブチルエステル（シクロホル
ム（Cycloform））；およびｐ−アミノ安息香酸イ
ソプロピルエステルなど。最終生成物中にUV−
Ａ吸収剤１種ないしそれ以上を約３〜10重量％存
在せしめる。その量は選定される特定の物質に応
じ、また最終生成物に要求される日光遮へい程度
に応じて変えればよい。好ましいUV−Ｂ吸収剤
は４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘ
キシルエステルである。 日光遮へい剤中に存在せしめる最も重要な成分
はポリエチレン約2.0〜15重量％（好ましくは約
2.5〜６重量％）である。本発明者らは日光遮へ
い剤にポリエチレン2.0重量％ないしそれ以上を
含有させることによりそのUV−ＡおよびUV−
Ｂの双方の領域における紫外線吸収性を増強せし
め得ることを見出した。ポリエチレン約5.5重量
％を起えない量をその範囲内で増加すれば、その
増加量に対応して紫外線吸収性が増大する。ポリ
エチレンを5.5％以上に増加しても、その結果は
5.5％以内におけるような紫外線吸収性の増大は
認められない。本発明におけるポリエチレン約15
重量％という上限は、その量を多くすれば生成物
の触感および粘度により好ましくない生成物が得
られるという事実に基づく限界である。 日光遮へい剤内に含有させるのに適当な形状の
ポリエチレンは約1100〜2000の低分子量を約0.88
〜0.92ｇ／c.c.の低密度を有するホモポリマーよび
約2000〜3500の分子量と約0.91〜0.93ｇ／c.c.の密
度を有するポリエチレン−酢酸ビニルの共重合物
である。この内前者、すなわち低分子量、低密度
のポリエチレンホモポリマーが好ましい。 またポリエチレン成分は生成物の耐湿性および
耐洗浄性を増大させる機能を有する。ポリエチレ
ンは油中水型エマルジヨンの安定性を保持し、生
成物の触感および展開性を改良する作用をも有す
る。 日光遮へい剤はこの中に更に水約40〜65重量
％、軟化剤約15〜30重量％、乳化剤約３〜10重量
％、保存剤と酸化防止剤約１重量％を越えない
量、香料と着色剤約１重量％を越えない量を含有
させる。 適当な軟化剤として、鉱油、スクワラン、パル
ミチン酸オクチル、ココア脂、ゴマ油、プリスタ
ンなどが例示される。日光遮へい剤中にこれらの
軟化剤２種以上の混合物または化粧用に許容され
る他の類似物質を含有させるのが好ましい。 適当な乳化剤として、ポリオキシエチレン
（３）オレイルエーテル（オレス（oleth）３）、
オレイン酸ポリグリセリル−４、ポリソルベート
80（トウイーン80）など。日光遮へい剤中にこれ
らの乳化剤２種ないしそれ以上の混合物または化
粧用に許容される他の類似物質を含有させるのが
好ましい。 適当な保存剤として、メチルパラペン（テゴセ
プト（Tegosept）Ｍ）；クオターニウム−15
（quaternium−15（Ｎ−（３−クロロアリル）ヘキ
サミニウムクロリド、ダウシル（Dowcil）
200）；プロピルパラペン（テゴセプト
（Tegosept）Ｐ）などが例示される。酸化防止剤
はブチル化ヒドロキシアニソール、プロピレング
リコール、没食子酸プロピルおよびクエン酸（テ
ノツクス（Tenox）２）の混合物が好ましい。
日光遮へい剤は酸化防止剤混合物と保存剤１種な
いしそれ以上、または化粧用として許容される他
の保存剤と酸化防止剤を含有せしめるのが好まし
い。 前記のように日光遮へい剤中の成分百分率を変
えることにより、この遮へい剤をローシヨン型ま
たは半固形型として得ることができる。たとえば
生成物をローシヨンとして製剤するとき最終生成
物の約60〜65重量％の範囲の水を含有させるのが
良く、１種ないしそれ以上の湿潤剤（たとえばプ
ロピレングリコール、グリセリン、１，３−ブチ
レングリコール、ソルビトールまたはピログルタ
ミン酸ナトリウム（ナトリウムPCA）など）を
最終生成物の約7.5重量％もしくはそれ以下の量
で含有させるのがよい。 かかる日光遮へい剤の製造法は使用する特定の
成分によつて幾らか異なるが、一般に次のような
製造法により製造することができる。軟化剤、乳
化剤、UV吸収剤、保存剤、抗酸化剤を混合して
温和な混合機で混和し、90℃以上（好ましくは約
92〜95℃）に加熱する。この混合物は撹拌しなが
らポリエチレンを徐々に添加し、90℃以上で加熱
する。好ましくは高速ミキサーを使用し、軟化剤
のうち主混合物中に混合しなかつたもの１種にポ
リエチレンを徐々に加え、ポリエチレンを完全に
分散させて第２の混合物を製し、次いで主混合物
を加熱、撹拌しながらこれに第２の混合物を徐々
に添加するのがよい。混合物中にポリエチレンの
不溶解粒子が観察されなくなり、油層を保存する
まで、90℃以上で撹拌を続ける。 水（好ましくは脱イオン水）を90℃以上（前記
と同様、好ましくは約92〜95℃）に加熱する。こ
の水相に水溶性成分のうちのいずれかを含有させ
ることができる。 この水層を上記油層に、おだやかに撹拌しなが
ら徐々に添加する。添加終了後、混合物を90℃以
上に保持し、均質になるまで撹拌の強さを強くし
ながら撹拌する。混合物を続けて撹拌し、均質状
態を保持しながら数段階で室温まで冷やした後、
保管または包装する。 最大の日光遮へい効果を提供する本発明の好ま
しい日光遮へい剤に含有させる成分を例示すれば
次のとおりである。水約50〜60重量％；低分子
量、低密度のポリエチレンホモポリマー約4.5〜
６重量％；２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ
フエノン（オキシベンゾン）または２，2′−ジヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン（ジオキ
シベンゾン）から選ばれるUV−Ａ吸収剤約2.5〜
3.5重量％；４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−
エチルヘキシルエステル（エスカロール507）
UV−Ｂ吸収剤約５〜10重量％；軟化剤約20〜27
重量％；乳化剤約４〜７重量％；および保存剤、
酸化防止剤、香料の混合物約１重量％を越えない
量。 最大の日光遮へい効果を現わす本発明の最も好
ましい日光遮へい剤に含有させる成分を例示すれ
ば次のとおりである。脱イオン水約55重量％；平
均分子量約2000、密度約0.92ｇ／c.c.を有するポリ
エチレンホモポリマー約5.5重量％；２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン約2.0〜2.5重
量％；２，2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフエノン約１重量％を越えない量；４−（ジメ
チルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステ
ル約７重量％；軟化剤約23〜25重量％；乳化剤約
５重量％；および保存剤、酸化防止剤、香料混合
物約１重量％を越えない量。 日光を部分に遮へいするが徐々に目焼けを許容
する本発明の好ましい日光遮へい剤に含有させる
成分を例示すれば次のとおりである。水約55〜65
重量％；低密度、低分子量のポリエチレンホモポ
リマー約2.5〜4.5重量％；２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフエノン（オキシベンゾン）約１
重量％を越えない量；４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エカロール
507）約３〜５重量％；湿潤剤約7.5重量％を越え
ない量；軟化剤約20〜25重量％；乳化剤約４〜７
重量％；および保存剤、酸化防止剤、香料混合物
約１重量％を越えない量。 上記のような徐々に日焼けを許容する最も好ま
しい遮へい剤の形態は次のような成分を含むロー
シヨンである。脱イオン水約60〜61重量％；平均
分子量約1500、密度約0.91ｇ／c.c.を有するポリエ
チレンホモポリマー約3.5重量％；２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフエノン約0.6重量％；
４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキ
シルエステル約3.5重量％；グリシンもしくはプ
ロピレングリコール約５重量％；軟化剤約20〜22
重量％；乳化剤約５〜６重量％；および保存剤、
酸化防止剤、香料混合物約１重量％を越えない
量。 次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
る。 実施例 １〜４ 日光遮へい率（Sun protection factor）15よ
り大なる値の日光遮へい剤よびその製造法を以下
詳述する。日光遮へい剤（SPF）は遮へい剤を２
mg／cm²の割合で使用した後、保護された皮ふにお
ける最少紅斑誘発放射量（MED）を、保護され
ていない皮ふにおけるMEDで割ることにより計
算する。 ４種の遮へい剤はいずれも濃厚ローシヨン形態
を有する油中水型エマルジヨンである。成分（化
学名、CTFAおよび／または商標名を含む。）を
列挙すれば次のとおりである。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン（ホモポリマー）：（アライド・
ケミカルＡ−C6A（重量平均分子量2000、密度
0.92ｇ／c.c.）） (3) UV−Ａ吸収剤：(a)２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビ
ヌル（Uvinul）Ｍ−40）および(b)２，2′−ジヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン（ジオ
キシベンゾン、スペクトラ−ソーブ（Spectra
−Sorb）UV24） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ール（Escalol）507） (5) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール（Blandol）、
(b)スクワラン（ロベーン（Robane））、(c)パル
ミチン酸オクチル（セルフイル（Ceraphyl）
368）、(d)ゴマ油、(e)ココア脂 (6) 乳化剤：(a)ポリオキエチレン（３）オレイル
エーテル（オレス（Oleth）−３、ボルポ
（Volpo）−３）、(b)オレイン酸ポリグリセリル
−４（ホイツトコノール（Witconol）14） (7) 保存剤：(a)メチルパラベン（テゴセプト
（Tegosept）Ｍ）、(b)プロピルパラベン（デゴ
セプト（Tegosept）Ｐ）、(c)クオータニウム−
15（Ｎ−（３−クロロアリル）−ヘキサミニウム
クロリド、ダウイシル（Dowicil）200） (8) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス（Tenex）２） 各成分の重量％を第１表に示す。

【表】 実施例１〜４の日光遮へい剤をそれぞれ実質的
に同様の方法により製造した。実施例３を例にと
り、その製造法を以下に詳述する。 ポリオキシエチレン（３）オレイルエーテル
3.5Kg、オレイン酸ポリグリセリル−４の1.5Kg、
４−（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキ
シルエステル７Kg、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフエノン2.5Kg、２，2′−ジヒドロキシ
４−メトキシベンゾフエノン0.5Kg、ゴマ油２Kg、
鉱油13.48Kg、ココア脂0.5Kg、テノツクス２の
0.02Kgおよびプロピルパラベン0.1Kgを、おだや
かに撹拌しながら92〜95℃で混合し、混合物が均
質かつ透明になるまで92〜95℃で混和する。 その間、パルミチン酸オクチル８Kgを高速で撹
拌しながらポリエチレン5.5Kgが完全に分散する
までこれを約15分間でゆつくり加える。 主混合物を92〜95℃で撹拌しながら、これに上
記ポリエチレン混合物をゆつくり添加する。油状
混合物中の不溶解様ポリエチレン粒子が肉眼で観
察されななつて完全に透明な液体となるまで、混
和を続ける。 脱イオン水54.5Kgを92〜95℃に熱し、この温度
でおだやかに撹拌しながらメチルパラベン0.2Kg
を加え、メチルパラベンが完全に溶解するまで混
和する。 透明な油状混合物をおだやかに撹拌しながらこ
れに上記水溶液を徐々に添加する。添加終了時
に、このパツチが均質となるまで混和速度を高め
た後、これを90〜95℃に保持する。 このバツチを速やかに60℃に冷やし、この温度
で約80分間混和し、引続き混和しながら50℃に冷
やす。この時点でクオータニウム−15の0.2Kgを
脱イオン水0.5Kgに溶解し、バツチが再び均一と
なるまで（すなわち約15分間）撹拌しながら、上
記クオータニウム水溶液を添加する。このバツチ
を撹拌しながら室温に冷やし、ホモジナイザーで
均質にして実施例３の最終生成物を得た。 実施例５および６ 日光遮へい率それぞれ７および８を有する日光
遮へい剤の製造法を以下に説明する。この２種の
日光遮へい剤は双方共にローシヨン濃度を有する
油中水型エマルジヨンである。各成分（CTFAお
よび商標名を含む。）を列挙すれば次のとおりで
ある。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン（ホモポリマー）：（アライド・
ケミカルＡ−C617A（重量平均分子量1500、密
度0.91ｇ／c.c.）） (3) UV−Ａ吸収剤：２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビヌ
ルＭ−40） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ール507） (5) 湿潤剤：(a)プロピレングリコール、(b)グリセ
リン (6) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール）、(b)鉱油
（クレアロール（Klearol））、(c)プリスタン (7) 乳化剤：(a)ポリオキシエチレン（３）オレイ
ルエーテル（オレス−３、ボルポ−３）、(b)オ
レイン酸ポリグリセリル−４（ホイツトコノー
ル14）、(c)ポリソルベート80（トウイーン80） (8) 保存剤：(a)メチルパラベン（デコセプトＭ）、
(b)プロピルパラベン（テゴセプトＰ）、(c)クオ
ータニウム−15（Ｎ−（３−クロロアリル）−ヘ
キサミニウムクロリド（ダウイシル200） (9) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス２） (10) 香料 各成分の重量％を第２表に示す。

【表】 前記実施例に記載の方法に従つて上記実施例５
および６の日光遮へい剤を製造した。この最終生
成物は実施例１〜４の生成物より流動性大なるロ
ーシヨンである。 実施例７および８ 実施例３と同様の操作に従つて下記日光遮へい
剤を製造した。この日光遮へい剤は双方共に油中
水型エマルジヨンである。実施例７の生成物は濃
厚ローシヨン（すなわちクリーム）、実施例８の
生成物は実施例７の生成物より流動性大である。
各成分（CTFAおよび商標名を含む。）を以下に
列挙する。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン（酢酸エチルとの共重合物）：
（アライド・ケミカルＡ−C400（重量平均分子
量3500、密度0.92ｇ／c.c.）） (3) UV−Ａ吸収剤：(a)２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビ
ヌルＭ−40）、(b)２，2′−ジヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフエノン（ジオキシベンゾン、
スペクトラ−ソーブUV24） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ール507） (5) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール）、(b)鉱油
（クレアロール）、(c)パルミチン酸オクチル（セ
ラフイル368）、(d)ゴム油、(e)ココア脂 (6) 湿潤剤：グリセリン (7) 乳化剤：(a)ポリオキシエチン（３）オレイル
エーテル（オレス−３、ボルポ−３）、(b)オレ
イン酸ポリグリセリル−４（ホイツトコノール
14）、(c)ポリソルベート80（トウイーン80） (8) 保存剤：(a)メチルパラベン（デコセプトＭ）、
(b)プロピルパラベン（テゴセプトＰ）、(c)クオ
ータニウム−15（Ｎ−（３−クロロアリール）ヘ
キサミニウムクロリド、ダウイシル200） (9) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス２） 各成分の重量％を第３表に示す。

【表】 実施例 ９ ポリエチレンを含有するもの（Ｐ）と含有しな
いもの（NP）各１種（その他の成分の種類は同
一）の日光遮へい剤について、そのUV吸収率の
比較を行なつた。この両遮へい剤の各成分を列挙
すれば次のとおりである。 (1) 脱イオン水 (2) ポリエチレン：（アライド・ケミカルＡ−
C6A） (3) UV−Ａ吸収剤：(a)２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフエノン（オキシベンゾン、ユビ
ヌルＭ−40）、(b)２，2′−ジヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフエノン（ジオキシベンゾン、
スペクトラ−ソープUV24） (4) UV−Ｂ吸収剤：４−（ジメチルアミノ）安
息香酸２−エチルヘキシルエステル（エスカロ
ール507） (5) 軟化剤：(a)鉱油（ブランドール）、(b)スクワ
ラン（ロベイン）、(c)ゴマ油、(d)ココア脂 (6) 乳化剤：(a)ポリオキシエチレン（３）オレイ
ルエーテル（オレス−３、ボルポ−３）、(b)オ
レイン酸ポリグリセリル−４（ホイツトコノー
ル14） (7) 保存剤：(a)メチルパラベン（テゴセプトＭ）、
(b)プロピルパラベン（テゴセプトＰ）、(c)クオ
ータニウム−15（Ｎ−（３−クロロアリル）−ヘ
キサミニウムクロリド、ダウイシル200） (8) 酸化防止剤：プロピレングリコール、ブチル
化ヒドロキシアニソール、没食子酸プロピルお
よびクエン酸（テノツクス２） 各成分の重量％を第４表に示す。

【表】

【表】 実質的に同様の方法により上記２種の日光遮へ
い剤を製し、カンペリツク（Cumpelic）の方法
（アナリテイカル・プロセジヤース・アンド・エ
バリユエイシヨン・オブ・サンスクリーンス
（Analytical Procedures and Evaluation of
Sun−screens）：J.Soc.Cosmet.Chem.第23巻333
〜345頁（1972年）参照）に従つて次のとおり実
験し、評価を行なつた。 各遮へい剤組成物から薄膜を製し、熱風乾燥し
て240〜400nmの波長領域の紫外線の吸収率を記
録する。これらの値を用い、292.5〜342.5nmの領
域の紫外線が伝達されて発現した紅斑（日焼症）
の皮ふ面積および322.5〜372.5nmの領域で発現し
た日焼の皮ふ面積の百分率を計算する。薄膜を通
過した紫外線の百分率が大となれば日光遮へい効
率が低いということは言うまでもない。 各薄膜について３回試験を行なつた。ポリエチ
レンを含有する組成物（Ｐ）において、紫外線が
伝達されて現われた紅斑の相対的平均％は5.105、
紫外線が伝達されて現われた日焼の相対的平均％
は19.569であつた。 ポリエチレンを含有しない組成物（NP）にお
いて、紫外線が伝達されて現われた紅斑の相対的
平均％は6.58、紫外線が伝達されて現われた日焼
の相対的平均％は55.23。それ故ポリエチレンを
含有しない組成物（NP）はポリエチレン含有組
成物（Ｐ）より、紅斑発現領域で1.28倍、日焼発
現領域で2.82倍の紫外線を伝達させることとな
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 日光遮へい剤中にポリエチレン少なくとも２
   重量％を包含せしめることを特徴とする紫外線吸
   収剤１種ないしそれ以上を含有する日光遮へい剤
   の紫外線吸収性増強方法。 ２ 紫外線吸収剤約３〜15重量％を含有する日光
   遮へい剤に、ポリエチレン約2.0〜15重量％を含
   有せしめる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ ２−（2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル）
   ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキシ−
   5′−ｔ−オクチルフニル）ベンゾトリアゾール、
   ２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン、２−ヒド
   ロキシ−４−メトキシベンゾフエノン、２，2′，
   ４，4′−テトラヒドロキシベンゾフエノン、２，
   2′−ジヒドロキシ−４，4′−ジメトキシベンゾフ
   エノン、２，2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベ
   ンゾフエノン、２−エチルヘキシル−４−フエニ
   ルベンゾフエノンカーボネート、２−ヒドロキシ
   −４−メトキシ−4′−メチルベンゾフエノン、２
   −ヒドロキシ−４−（ｎ−オクチルオキシ）ベン
   ゾフエノン、４−フエニルベンゾフエノンおよび
   ２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，3′−ジフ
   エニルアクリレートから選ばれる１種ないしそれ
   以上のUV−Ａ吸収剤約0.5〜10重量％ならびに４
   −（ジメチルアミノ）安息香酸２−エチルヘキシ
   ルエステル、４−（ジメチルアミノ）安息香酸エ
   チルエステル、４−（ジメチルアミノ）安息香酸
   ペンチルエステル、ｐ−アミノ安息香酸グリセリ
   ルエステル、ｐ−アミノ安息香酸イソブチルエス
   テルおよびｐ−アミノ安息香酸イソプロピルエス
   テルから選ばれる１種ないしそれ以上のUV−Ｂ
   吸収剤約３〜10重量％を含有せしめる特許請求の
   範囲第２項記載の方法。 ４ ポリエチレンが約1100〜2000の低分子量を有
   し、約0.88〜0.92ｇ／c.c.の低密度を有するホモポ
   リマーであるか、または約2000〜3500の分子量を
   有し、約0.91〜0.93ｇ／c.c.の密度をするポリエチ
   レンと酢酸ビニルの共重合物である特許請求の範
   囲第３項記載の方法。 ５ UV−Ａ吸収剤が２−ヒドロキシ−４−メト
   キシベンゾフエノン単独もしくはこれと２，2′−
   ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノンとの
   組合わせ、UV−Ｂ吸収剤が４−（ジメチルアミ
   ノ）安息香酸２−エチルヘキシルエステルである
   特許請求の範囲第４項記載の方法。 ６ 日光遮へい剤に水約40〜65重量％、軟化剤約
   15〜30重量％、乳化剤約３〜10重量％、保存剤と
   酸化防止剤の混合物約１重量％を越えない量およ
   び香料と着色剤の混合物約１重量％を越えない量
   を含有せしめる特許請求の範囲第５項記載の方
   法。 ７ 日光遮へい剤が油中水型エマルジヨンの形状
   を保持し、その中にポリエチレン約2.5〜６重量
   ％を含有せしめ、該ポリエチレンが約1100〜2000
   の低分子量および0.88〜0.92ｇ／c.c.の低密度のホ
   モポリマーである特許請求の範囲第６項記載の方
   法。