JPH03148106A - Manufacture of capacitor - Google Patents

Manufacture of capacitor

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JPH03148106A
JPH03148106A JP28716889A JP28716889A JPH03148106A JP H03148106 A JPH03148106 A JP H03148106A JP 28716889 A JP28716889 A JP 28716889A JP 28716889 A JP28716889 A JP 28716889A JP H03148106 A JPH03148106 A JP H03148106A
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JP
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ceramic
metal oxide
capacitor
molded body
ceramic molded
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JP28716889A
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Japanese (ja)
Inventor
Motoharu Fukai
深井 元春
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To easily manufacture capacitors having different permittivities by coating the surface of a ceramic molded form with metal oxide containing at lest one of Sr and Ti or/and at least one of Al, Si and Mg, and then conducting a predetermined step such as a baking step, etc. CONSTITUTION:When a ceramic molded form 1 is coated with metal oxide pastes 2a, 2b containing Sr or Ti and then baked, the Sr or Ti controls growth of crystal grains. Al, Si or Mg has an operation as a valence compensator. When the form 1 is coated with metal oxide pastes 2a, 2b containing Al, Si or Mg and then baked, the Al, Si or Mg controls growth of crystal grains. Thus, capacitors having different permittivity and made of the same ceramic material can be manufactured by altering the contents of the Sr, Ti, Al, Si, Mg.

Description

【発明の詳細な説明】 童!上辺■里会黒 本発明はコンデンサの製造方法に関する。[Detailed description of the invention] Child! Uabe ■ Satokai black The present invention relates to a method for manufacturing a capacitor.

鎧型Ω肢迷 結晶粒界に絶縁層が形成された半導体セラミックは、−
m9に大きな誘電率を有する。そして、このような半導
体セラミックを用いれば大きな容量を有するコンデンサ
が得られる。
A semiconductor ceramic in which an insulating layer is formed at the armor-type Ω-limb stray grain boundaries is −
It has a large dielectric constant at m9. If such a semiconductor ceramic is used, a capacitor with a large capacity can be obtained.

第2図はこの種コンデンサの断面図を示したものであっ
て、該コンデンサは、粒界絶縁型セラミック基板51の
表裏両面に上下一対の電極52a、52bが形成されて
いる。
FIG. 2 shows a cross-sectional view of this type of capacitor, in which a pair of upper and lower electrodes 52a and 52b are formed on both the front and back surfaces of a grain boundary insulated ceramic substrate 51.

セラミック基板51を構成するセラミック原料としては
、従来からチタン酸バリウム(BaTiO,1を主成分
としたものが広く使用されている。
As a ceramic raw material constituting the ceramic substrate 51, a material containing barium titanate (BaTiO, 1 as a main component) has been widely used.

しかし、このB a T i Osを主成分としたコン
デンサは、誘電率が20,000〜70,000と大き
いものの、誘電損失が5〜6%(IKHz)と大きく、
さらに静電容量の温度変化率も20℃を基準とした場合
、−25〜+85℃の範囲において±50%と大きい値
を示すという欠点がある。
However, although this capacitor mainly composed of B a Ti Os has a large dielectric constant of 20,000 to 70,000, it has a large dielectric loss of 5 to 6% (IKHz).
Furthermore, when the temperature change rate of capacitance is based on 20°C, there is a drawback that it shows a large value of ±50% in the range of -25°C to +85°C.

そこで、近年においては、誘電損失や静電容量の温度変
化率等、誘電特性の改良を試みたものとして、チタン酸
ストロンチウム(SrTiO−)を主成分としたコンデ
ンサが開発されてきている。
Therefore, in recent years, capacitors containing strontium titanate (SrTiO-) as a main component have been developed in an attempt to improve dielectric properties such as dielectric loss and temperature change rate of capacitance.

前記S r T i Oaを主成分としたセラミックコ
ンデンサは、誘電損失が1%以下となり、また静電容量
の温度変化率も20℃を基準とした場合、−25〜+8
5℃の範囲において±15%以内となる。
The ceramic capacitor whose main component is S r Ti Oa has a dielectric loss of 1% or less, and a temperature change rate of capacitance of -25 to +8 when 20°C is the standard.
It is within ±15% in the range of 5°C.

また、前記5rTiOs系コンデンサは、結晶粒径が5
0μm=100μmと大きく、誘電率は平均結晶粒径に
略比例して大きくなるため、50.000〜120,0
00程度の高誘電率を有するコンデンサが得られる。
Further, the 5rTiOs capacitor has a crystal grain size of 5
0 μm = 100 μm, and the dielectric constant increases approximately in proportion to the average crystal grain size, so it is 50.000 to 120.0
A capacitor having a high dielectric constant of about 0.00 is obtained.

上記粒界絶縁型のセラミックコンデンサは、従来、第3
図に示す工程にしたがって製造されていた。
Conventionally, the grain boundary insulation type ceramic capacitor mentioned above is
It was manufactured according to the process shown in the figure.

すなわち、半導体化剤等を含有したセラミック原料に所
定の成形加工を施して成形体を作製した後(■)、還元
雰囲気中で該成形体に一次焼成を施し、焼結体を作製す
る(IT)。次いで、該焼結体の表面に添加剤としての
金属酸化物を塗布した後(III)、大気中で熱処理を
施しく二次焼成)、セラミック基板を作製する(TV)
。この熱処理によって前記添加剤が前記半導体磁器の内
部に浸透してゆき、結晶粒界が絶縁化される。つまり、
結晶粒子は半導体状態を保持したまま、粒界層部のみが
上下縦横に連結されて絶縁体状態となる。
That is, after a ceramic raw material containing a semiconducting agent is subjected to a predetermined shaping process to produce a compact (■), the compact is subjected to primary firing in a reducing atmosphere to produce a sintered compact (IT ). Next, after applying a metal oxide as an additive to the surface of the sintered body (III), heat treatment is performed in the air and secondary firing), and a ceramic substrate is produced (TV).
. Through this heat treatment, the additive penetrates into the interior of the semiconductor ceramic, and the grain boundaries are insulated. In other words,
While the crystal grains maintain their semiconductor state, only the grain boundary layer portions are vertically and horizontally connected to become an insulator.

そして最後にスクリーン印刷等によりセラミック基板の
表裏両面に上下一対の電極を形成しくV)、セラミック
コンデンサの製造を完了する。
Finally, a pair of upper and lower electrodes is formed on both the front and back sides of the ceramic substrate by screen printing or the like (V), completing the production of the ceramic capacitor.

日が ンしようとする課1 しかし、上記した従来のコンデンサにおいては、その誘
電特性(誘電率、誘電損失、絶縁抵抗率、静電容量の温
度変化率等)がセラミック原料に大きく依存するため、
同一のセラミック原料を使用している限り、誘電率が大
幅に異なるコンデンサを製造することができないという
課題があった。
Lesson 1: However, in the conventional capacitors mentioned above, their dielectric properties (permittivity, dielectric loss, insulation resistivity, rate of change of capacitance with temperature, etc.) largely depend on the ceramic raw material.
There was a problem in that as long as the same ceramic raw material was used, it was not possible to manufacture capacitors with significantly different dielectric constants.

本発明はこのような課題に鑑み、同一のセラミック原料
を使用した場合においても誘電率が大幅に異なるコンデ
ンサを製造することができるコンデンサの製造方法を提
供することを目的とする。
In view of these problems, an object of the present invention is to provide a capacitor manufacturing method that allows capacitors with significantly different dielectric constants to be manufactured even when the same ceramic raw material is used.

言 を ゛するための 上記目的を達成するために本発明に係るコンデンサの製
造方法にあっては、Sr、Tiのうち少なくとも一種類
の成分又は/及びAl1、Si、Mgのうち少なくとも
一種類の成分を含有した金属酸化物ペーストを半導体化
剤を含有したセラミック成形体の表面に塗布する工程と
、前記金属酸化物ペーストが塗布された前記セラミック
成形体を焼成して焼結体を得る工程と、該焼結体に電極
を形成する工程とを含んでいることを特徴としている。
In order to achieve the above object, the method for manufacturing a capacitor according to the present invention includes at least one component among Sr and Ti, and/or at least one component among Al1, Si, and Mg. a step of applying a metal oxide paste containing the component to the surface of a ceramic molded body containing a semiconducting agent; and a step of firing the ceramic molded body coated with the metal oxide paste to obtain a sintered body. , forming an electrode on the sintered body.

作里 Sr又はTiを含有し在金属酸化物ペーストをセラミッ
ク成形体に塗布した後、焼成を施した場合、前記Sr又
はTiは結晶粒子の成長を制御する作用をなすことが知
られている。
It is known that when a metal-containing oxide paste containing Sr or Ti is applied to a ceramic molded body and then fired, the Sr or Ti acts to control the growth of crystal grains.

また、AC31又はMgは、原子価補償剤としての作用
を有するものであって、Aρ、Si又はMgを含有した
金属酸化物ペーストを前記セラミック成形体に塗布した
後、焼成を施した場合、前記AI2、Si又はMgは結
晶粒子の成長を抑制することが知られている。
Moreover, AC31 or Mg has an action as a valence compensator, and when a metal oxide paste containing Aρ, Si or Mg is applied to the ceramic molded body and then fired, the above-mentioned It is known that AI2, Si or Mg suppresses the growth of crystal grains.

したがって、上記製造方法によれば、Sr、Tiのうち
少なくとも一種類又は/及びAl、Si、Mgのうち少
なくとも一種類の成分を含有した金属酸化物ペーストを
半導体化剤が含有されたセラミック成形体の表面に塗布
する工程が含まれているので、これらSr、Ti、A1
1.Si、Mgの含有率を変えることにより、セラミッ
ク原料が同一であっても誘電率が大幅に異なるコンデン
サを製造することができる。
Therefore, according to the above manufacturing method, a ceramic molded body containing a semiconducting agent is made of a metal oxide paste containing at least one component among Sr and Ti and/or at least one component among Al, Si, and Mg. Since it includes a step of coating on the surface of Sr, Ti, A1
1. By changing the content of Si and Mg, capacitors with significantly different dielectric constants can be manufactured even if the ceramic raw materials are the same.

夾施固 以下、本発明に係る実施例を図面に基づき詳説する。Consolidation Hereinafter, embodiments of the present invention will be explained in detail based on the drawings.

第1図は本発明の一実施例としての粒界絶縁型コンデン
サの製造方法を示した工程図である。
FIG. 1 is a process diagram showing a method of manufacturing a grain boundary insulated capacitor as an embodiment of the present invention.

すなわち、まず、第1図(I)に示したように、セラミ
ック成形体lを製造する。
That is, first, as shown in FIG. 1(I), a ceramic molded body 1 is manufactured.

セラミック原料の半導体化に寄与する原子価制御剤(例
えばLa、Dy、Nd、Y、Nb、Ta、Er、Gd、
Ho、Ceなどの酸化物)及びセラミックの性質の改良
や特性の安定化などの作用をなす焼結助剤(Cu、Mn
などの酸化物)を所定のセラミック原料に混入させた後
、プレス成形または押し出し成形によりシート状の成形
体を製造する。
Valence control agents that contribute to semiconducting ceramic raw materials (e.g. La, Dy, Nd, Y, Nb, Ta, Er, Gd,
oxides such as Ho, Ce) and sintering aids (Cu, Mn, etc.) that act to improve and stabilize the properties of ceramics.
After mixing a predetermined ceramic raw material with oxides such as oxides, etc., a sheet-shaped molded body is manufactured by press molding or extrusion molding.

つぎに金型ブレスによって、このシート状の成形体を所
定の形状にプレスする。
Next, this sheet-like molded body is pressed into a predetermined shape using a mold press.

ここで、前記セラミック原料としては、ペロブスカイト
型結晶構造(−毅式RMOa)を有する複合酸化物、例
えば、BaTi0a 、SrTiO3、(Ba、5r)
(Ti、5n)Os系複合酸化物(固溶体を含む)、(
Ba、5r)Ties系複合酸化物(固溶体を含む)、
(Mg、Sr、Ca)TiOa系複合酸化物(固溶体を
含む)。
Here, as the ceramic raw material, a composite oxide having a perovskite crystal structure (-Toshiki RMOa), for example, BaTiOa, SrTiO3, (Ba, 5r)
(Ti, 5n)Os-based composite oxide (including solid solution), (
Ba, 5r) Ties-based composite oxide (including solid solution),
(Mg, Sr, Ca) TiOa-based composite oxide (including solid solution).

(Sr、Pb)Tie3系複合酸化物(固溶体を含む)
、(Sr、Ca)Ties系複合酸化物(固溶体を含む
)などの誘電体成分の1種または2種以上を用いる。
(Sr, Pb) Tie3 complex oxide (including solid solution)
, (Sr, Ca) Ties-based composite oxide (including solid solution), or the like is used.

次に、第1図(II)に示したように、セラミック成形
体1の表裏両面に金属酸化物ペースト2a、2bを塗布
する。
Next, as shown in FIG. 1 (II), metal oxide pastes 2a and 2b are applied to both the front and back surfaces of the ceramic molded body 1.

金属酸化物ペースト2a、2bとしては、Sr、Tiの
うち少なくとも一種類の成分を含有したもの、又は/及
びAI2、Si、Mgのうち少なくとも一種類の成分を
含有したものが使用される。
As the metal oxide pastes 2a and 2b, those containing at least one component among Sr and Ti, and/or those containing at least one component among AI2, Si, and Mg are used.

次に、これを−次焼成し、第1図(Ill)に示すよう
に、焼結体3を作製する。
Next, this is subjected to secondary firing to produce a sintered body 3 as shown in FIG. 1 (Ill).

すなわち、金属酸化物ペースト2a、2bが塗布された
前記セラミック成形体を還元雰囲気中(H21〜15v
o1%、N299〜85vo1%)において、1400
〜1540℃の温度で4〜6時間焼成を行い、焼結体3
を作製する。そして、上記金属酸化物ペースト2a、2
bの組成の相違により、前記−次焼成の過程において結
晶粒の成長が異なる焼結体3が作製される。
That is, the ceramic molded body coated with the metal oxide pastes 2a and 2b was placed in a reducing atmosphere (H21-15V).
o1%, N299-85vo1%), 1400
Firing was performed at a temperature of ~1540°C for 4 to 6 hours, and the sintered body 3
Create. Then, the metal oxide paste 2a, 2
Due to the difference in the composition of b, sintered bodies 3 with different growth of crystal grains are produced during the second firing process.

すなわち、Sr及びTiをセラミック成形体lに塗布し
て焼成された焼結体3においては、その結晶粒の成長が
制御される。つまり、セラミック原料としてペロブスカ
イト型結晶構造RMO3を使用した場合、Sr及びTi
は、A/B (Aは金属イオンR(Sr、Ca、Pb、
Ba、Mg等)の原子数、Bは金属イオンM(Ti等)
の原子数)を変化させる作用を有するため、Sr及びT
iを含む金属酸化物の組成比を変えることにより、焼結
体3の結晶粒の成長を適当に制御することができる。し
たがって、セラミック原料が同一であっても誘電率が大
幅に異なるコンデンサを得ることが可能となる。
That is, in the sintered body 3 obtained by applying Sr and Ti to the ceramic molded body 1 and firing it, the growth of the crystal grains is controlled. In other words, when using perovskite crystal structure RMO3 as a ceramic raw material, Sr and Ti
is A/B (A is metal ion R (Sr, Ca, Pb,
The number of atoms of Ba, Mg, etc.), B is the metal ion M (Ti, etc.)
Sr and T
By changing the composition ratio of the metal oxide containing i, the growth of crystal grains in the sintered body 3 can be appropriately controlled. Therefore, even if the ceramic raw materials are the same, it is possible to obtain capacitors with significantly different dielectric constants.

また、Al、Si又はMgを含有する金属酸化物をセラ
ミック成形体重に含有させた場合、これらAI2、Si
又はMgは原子価補償剤としての作用を有する。すなわ
ち、セラミック成形体1は原子価制御剤(半導体化剤)
を含有することにより半導体化されているが、セラミッ
ク成形体1に原子価補償剤を含有させると結晶粒の成長
が抑制され、半導体化することなく絶縁体化される。し
たがって、セラミック原料が同一であっても低誘電率の
コンデンサを得ることが可能となる。
In addition, when a metal oxide containing Al, Si or Mg is contained in the ceramic molding weight, these AI2, Si
Alternatively, Mg acts as a valence compensator. That is, the ceramic molded body 1 contains a valence control agent (semiconducting agent)
However, when the ceramic molded body 1 contains a valence compensator, the growth of crystal grains is suppressed, and the ceramic molded body 1 is made into an insulator without being made into a semiconductor. Therefore, it is possible to obtain a capacitor with a low dielectric constant even if the ceramic raw materials are the same.

次いで、第1図(TV)に示したように、焼結体3の表
面に添加剤4として金属酸化物(例えばB i 20s
 、Cub、Na2O,MnO2、Tl220.、Pb
O,Na2O5、ZnOなど)を塗布する。
Next, as shown in FIG. 1 (TV), a metal oxide (for example, B i 20s
, Cub, Na2O, MnO2, Tl220. , Pb
O, Na2O5, ZnO, etc.).

この添加剤4は、粒界の絶縁層を円滑に形成して所望の
誘電特性を有するセラミックコンデンサを得るために添
加される。
This additive 4 is added in order to smoothly form an insulating layer at grain boundaries to obtain a ceramic capacitor having desired dielectric properties.

次に、第1図(V)に示したように、これに二次焼成を
施しセラミック基板5を作製する6二次焼成は大気中、
1000〜1300℃の温度範囲で、熱処理を行なう。
Next, as shown in FIG. 1(V), this is subjected to secondary firing to produce the ceramic substrate 5. 6 The secondary firing is performed in the atmosphere.
Heat treatment is performed in a temperature range of 1000 to 1300°C.

この二次焼成により、焼結体3中の結晶粒子間に上記添
加剤4が拡散し、結晶粒界が絶縁化され、粒界絶縁層が
形成されることとなる。
By this secondary firing, the additive 4 is diffused between the crystal grains in the sintered body 3, the grain boundaries are insulated, and a grain boundary insulating layer is formed.

最後に、スクリーン印刷等番こよりセラミック基板5の
表裏両面に導電性の金属ペーストを塗布した後焼き付け
を行ない、第1図(Vl)に示したように、電極6a、
6bを形成してセラミックコン 0 デンサの製造を完了する。
Finally, a conductive metal paste is applied to both the front and back surfaces of the ceramic substrate 5 by screen printing, and then baked to form the electrodes 6a, as shown in FIG. 1 (Vl).
6b is formed to complete the production of the ceramic capacitor.

ここで、前記金属ペーストとしてはAg、Au、Zn又
はNiのうち少なくとも1種類を含有したものを使用す
る。但し、電気特性等を考慮するとAgを使用するのが
最も望ましい。また、前記金属ペーストの焼き付けは大
気中、700〜900℃の温度で行なう。
Here, as the metal paste, one containing at least one of Ag, Au, Zn, or Ni is used. However, in consideration of electrical characteristics etc., it is most desirable to use Ag. Further, the metal paste is baked in the atmosphere at a temperature of 700 to 900°C.

以下、(Sr、Ca)Tie3系セラミックコンデンサ
を製造した具体例について説明する。
A specific example of manufacturing a (Sr, Ca) Tie 3 ceramic capacitor will be described below.

セラミック原料を所定の組成比に調合する。Mix ceramic raw materials to a predetermined composition ratio.

すなわち、セラミック原料としてT i O2、SrO
,CaOを主成分として使用し、その組成比がTiCh
 50.0〜52.0 mo1%、5rO40,0−5
0,0mo1%、Ca0O〜10.Omo1%となるよ
うに調合した。具体的には、(Sr、Ca)T i O
3系のセラミック原料において、A/B=0.994〜
0.998 (AはSrイオン又は/及びCaイオンの
原子数、BはTiイオンの原子数)となるように調合し
た6次いで、該セラミック原料に、原子価制御剤として
Nb2O5、Y2O5等を0.1〜0.5mo1%、焼
結助剤としてCuO1M n 02等を0.05〜0.
4 mo1%程度混入させた後、バインダ、水、分散剤
と共にこれらを混練した。そしてこの後、プレス成形又
は押し出し成形により、シート状のセラミック成形体を
作製した。
That is, T i O2, SrO as ceramic raw materials
, CaO is used as the main component, and its composition ratio is TiCh.
50.0-52.0 mo1%, 5rO40.0-5
0.0mo1%, Ca0O~10. It was blended so that the Omo content was 1%. Specifically, (Sr, Ca)T i O
In three types of ceramic raw materials, A/B = 0.994 ~
0.998 (A is the number of atoms of Sr ion or/and Ca ion, B is the number of atoms of Ti ion) 6 Next, Nb2O5, Y2O5, etc. were added to the ceramic raw material as a valence control agent. .1 to 0.5 mo1%, and 0.05 to 0.1% of CuO1M n 02 as a sintering aid.
After mixing approximately 1% by mole of 4 mo, these were kneaded together with a binder, water, and a dispersant. Thereafter, a sheet-like ceramic molded body was produced by press molding or extrusion molding.

さらにこの後、金型ブレスによってシート状の前記セラ
ミック成形体をプレスして所定形状のセラミック成形体
1を作製した。
Thereafter, the sheet-like ceramic molded body was pressed using a mold press to produce a ceramic molded body 1 having a predetermined shape.

次に、Sr、Tiのうち少なくとも一種類の成分を含有
した、又は/及びAl2.Si、Mgのうち少なくとも
一種類の成分を含有した金属酸化物ペースト2a、2b
を所定の組成比に調合して前記セラミック成形体lの表
裏両面に塗布した。具体的には、本実施例では前記金属
酸化物ペースト2a、2bとして、S r CO3、T
 i 02、Al210a 、5iOi 、MgO,M
nCO3を使用し、所定の組成比でもって調合された前
記金属酸化物ペースト2a、2bを前記セラミック成形
体lの表裏両面に塗布した。
Next, containing at least one component of Sr, Ti, or/and Al2. Metal oxide pastes 2a and 2b containing at least one component of Si and Mg
were prepared in a predetermined composition ratio and applied to both the front and back surfaces of the ceramic molded body I. Specifically, in this example, as the metal oxide pastes 2a and 2b, S r CO3, T
i02, Al210a, 5iOi, MgO,M
The metal oxide pastes 2a and 2b prepared using nCO3 at a predetermined composition ratio were applied to both the front and back surfaces of the ceramic molded body I.

1 2 そしてこの後、金属酸化物ペースト2a、2bが塗布さ
れたセラミック成形体lを還元雰囲気中(Hz  : 
1〜l 5 vo1%、 Na : 85〜99vo1
%)において1400〜1540℃の温度で4〜6時間
、−次焼成を行ない、焼結体3を作製した。
1 2 After this, the ceramic molded body l coated with the metal oxide pastes 2a and 2b is placed in a reducing atmosphere (Hz:
1-l 5 vo1%, Na: 85-99 vol
%) at a temperature of 1400 to 1540° C. for 4 to 6 hours to produce a sintered body 3.

この−次焼成後、該焼結体3の断面をSEMで観察した
ところ、金属酸化物2a、2bの組成比の相違により結
晶粒径は2μm〜200umの範囲でバラツキが生じ、
結晶粒の成長状態が異なることが確認された。
After this secondary firing, when the cross section of the sintered body 3 was observed with an SEM, it was found that the crystal grain size varied in the range of 2 μm to 200 μm due to the difference in the composition ratio of the metal oxides 2a and 2b.
It was confirmed that the growth states of crystal grains were different.

次に、これにB z z Oa 、Cub、Nag O
等の混合ペースト(添加剤4)を塗布した後、二次焼成
を行ない、セラミック基板5を作製した。この二次焼成
の条件は、温度1000〜1300℃、焼成時間は約1
時間である。そして、この二次焼成により、焼結体3中
の結晶粒子間に前記添加剤成分のイオンが拡散して結晶
粒界が絶縁化され、粒界絶縁層が形成される。
Next, add B z z Oa, Cub, Nag O to this.
After applying a mixed paste (additive 4), secondary firing was performed to produce a ceramic substrate 5. The conditions for this secondary firing are a temperature of 1000 to 1300°C and a firing time of approximately 1.
It's time. By this secondary firing, ions of the additive component diffuse between the crystal grains in the sintered body 3, thereby insulating the grain boundaries and forming a grain boundary insulating layer.

次いで、セラミック基板5の表裏両面に導電性の金属ペ
ースト、具体的にはAgペーストを塗布した後、焼付け
を施し、電極6a、6bを形成しセラミックコンデンサ
を製造した。尚、焼付けは大気中、700〜900℃の
温度で行なった。
Next, a conductive metal paste, specifically an Ag paste, was applied to both the front and back surfaces of the ceramic substrate 5, and then baked to form electrodes 6a and 6b, thereby manufacturing a ceramic capacitor. Incidentally, the baking was performed in the air at a temperature of 700 to 900°C.

第1表は金属酸化物2a、2bの組成比を種々変えてセ
ラミックコンデンサを形成した場合の誘電特性(誘電率
、誘電損失、静電容量の温度変化率、静電容量のバラツ
キ)を金属酸化物が塗布されていない従来例(第2図)
と共に示したものである。ここで、誘電率ε、誘電損失
tanδ(%)は1kHz、1vの交流電圧下で測定し
た値から求めた。また、絶縁抵抗率ρは、直流電圧25
Vを1分間印加した後の電流値から求めた。さらに、静
電容量の温度変化率C%)は、−25℃に冷却した時及
び+85℃に昇温させた時の静電容量を測定し、+25
℃の時の静電容量と比較してその差から算出した。
Table 1 shows the dielectric properties (permittivity, dielectric loss, temperature change rate of capacitance, variation in capacitance) when ceramic capacitors are formed with various composition ratios of metal oxides 2a and 2b. Conventional example where no material is coated (Fig. 2)
This is shown together with Here, the dielectric constant ε and the dielectric loss tan δ (%) were determined from values measured under an alternating current voltage of 1 kHz and 1 V. In addition, the insulation resistivity ρ is the DC voltage 25
It was determined from the current value after applying V for 1 minute. Furthermore, the capacitance temperature change rate (C%) is determined by measuring the capacitance when cooled to -25°C and when heated to +85°C.
It was calculated from the difference between the capacitance and the capacitance at ℃.

 4 No、1=No、10は金属酸化物ヘーストトして、5
rCO−とT i O2とを等mo1%ずつ含み、かつ
Aj!203 、S i O□、MnCO3の含有量を
種々変えた場合を示し、 No、11〜No、15は金属酸化物ペーストとして、
それぞれS r CO3、T i O2、Aρ20x 
、5iOz 、MgOのみを使用した場合を示し、 No、16〜No、21は金属酸化物ペーストとして、
AA203.5in2.MgO1M n COsの混合
物を使用した場合を示している。
4 No, 1=No, 10 is metal oxide, 5
Contains rCO- and T i O2 in equal mo1%, and Aj! 203, SiO□, shows cases where the content of MnCO3 is varied, No. 11 to No. 15 are metal oxide pastes,
S r CO3, T i O2, Aρ20x, respectively
, 5iOz, shows the case where only MgO is used, No. 16 to No. 21 are metal oxide pastes,
AA203.5in2. The case is shown using a mixture of MgO1M n COs.

また、No、22は、従来例(第3図参照)であって、
金属酸化物2a、2bがセラミック成形体1に塗布され
ていない場合を示している。
Moreover, No. 22 is a conventional example (see FIG. 3),
A case is shown in which the metal oxides 2a and 2b are not applied to the ceramic molded body 1.

この第1表から明らかなように、(Sr、Ca)TiO
a系セラミックコンデンサにおいて、誘電率εが350
〜79,000の範囲で誘電率が大幅に異なるコンデン
サを得ることができる。
As is clear from this Table 1, (Sr,Ca)TiO
In a-type ceramic capacitors, the dielectric constant ε is 350.
Capacitors with significantly different dielectric constants in the range ˜79,000 can be obtained.

また、S r COzとT i 02とを等mo1%ず
っ含み、Aj2a O3,S i 02 、MnCO3
の含有量を変えた場合においては(No、1〜No。
In addition, it contains S r COz and T i 02 at equal mo1%, Aj2a O3, S i 02 , MnCO3
When the content of (No, 1 to No.

10)、SrCO3及びT i O□の含有量を増加さ
せると共に、Ag2O,、SiO□、M n CO3の
添加量を減少させてゆくに伴い、誘電率εが増加してゆ
くことが判明した。
10) It was found that the dielectric constant ε increases as the contents of SrCO3 and T i O□ are increased and as the amounts of Ag2O, SiO□, and M n CO3 added are decreased.

また、誘電損失、絶縁抵抗率、静電容量の温度変化率等
、誘電特性も充分満足することができ、所期の目的を達
成することができる。
In addition, dielectric properties such as dielectric loss, insulation resistivity, and rate of change in capacitance with temperature can be sufficiently satisfied, and the intended purpose can be achieved.

尚、本発明は上記実施例に限定されることはなく、要旨
を逸脱しない範囲において変更可能である。また、セラ
ミック原料についても(Sr、Ca)TiOx系のもの
に限られることはなく、BaTi0.l系やその他のセ
ラミック原料を使用しても本発明の所期の目的を達成す
ることができる。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and can be modified without departing from the spirit of the invention. Furthermore, ceramic raw materials are not limited to (Sr, Ca)TiOx type materials, but include BaTi0. The intended purpose of the present invention can also be achieved using l-based and other ceramic raw materials.

兄!像と仇里 以上詳述したように本発明に係るコンデンサの製造方法
においては、結晶粒の成長を制御するSr、Tiのうち
少な(とも一種又は/及び結晶6 7 粒の成長を抑11i1JするAl1、Si、Mgのうち
少なくとも一種を含有した金属酸化物をセラミック成形
体の表面に塗布した後、焼成工程等所定の工程を経てコ
ンデンサが製造されるので、前記金属酸化物の塗布工程
を付加するだけで、誘電損失等の誘電特性を損なうこと
なく誘電率が大幅に異なるコンデンサを簡単かつ容易に
製造することができる。したがって、同一のセラミック
原料を使用した場合においても、種々の用途に応用可能
な誘電率の大幅に異なるコンデンサを容易に製造するこ
とができる。
older brother! As detailed above, in the method for manufacturing a capacitor according to the present invention, a small amount of Sr and Ti, which control the growth of crystal grains (both are one type or/and which suppresses the growth of crystal grains), is used to control the growth of crystal grains. After applying a metal oxide containing at least one of Al1, Si, and Mg to the surface of a ceramic molded body, a capacitor is manufactured through a predetermined process such as a firing process, so the process of applying the metal oxide is added. By simply doing this, capacitors with significantly different dielectric constants can be manufactured simply and easily without impairing dielectric properties such as dielectric loss.Therefore, even when using the same ceramic raw material, it can be applied to various applications. Capacitors with widely different possible dielectric constants can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るコンデンサの製造方法の一実施例
を示す製造工程図、第2図は従来の粒界絶縁型コンデン
サを示す断面図、第3図は従来のコンデンサの製造方法
を示す工程図である。 2a、2b・・・金属酸化物ペースト、3・・・焼結体
、4・・・添加剤、6a、6b・・・電極。  8 (m) (V) 第2図 第3図 (1) (n) /m )
FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing an example of the method for manufacturing a capacitor according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing a conventional grain boundary insulated capacitor, and FIG. 3 is a diagram showing a conventional method for manufacturing a capacitor. It is a process diagram. 2a, 2b...Metal oxide paste, 3...Sintered body, 4...Additive, 6a, 6b...Electrode. 8 (m) (V) Figure 2 Figure 3 (1) (n) /m)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)Sr、Tiのうち少なくとも一種類の成分又は/
及びAl、Si、Mgのうち少なくとも一種類の成分を
含有した金属酸化物ペーストを半導体化剤を含有したセ
ラミック成形体の表面に塗布する工程と、 前記金属酸化物ペーストが塗布された前記セラミック成
形体を焼成して焼結体を得る工程と、該焼結体に電極を
形成する工程と、 を含んでいることを特徴とするコンデンサの製造方法。
(1) At least one component among Sr and Ti or/
and a step of applying a metal oxide paste containing at least one component among Al, Si, and Mg to the surface of a ceramic molded body containing a semiconducting agent; and the ceramic molded body coated with the metal oxide paste. A method for producing a capacitor, the method comprising the steps of: obtaining a sintered body by firing the sintered body; and forming an electrode on the sintered body.
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