JPH0314823B2 - - Google Patents

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JPH0314823B2
JPH0314823B2 JP63001678A JP167888A JPH0314823B2 JP H0314823 B2 JPH0314823 B2 JP H0314823B2 JP 63001678 A JP63001678 A JP 63001678A JP 167888 A JP167888 A JP 167888A JP H0314823 B2 JPH0314823 B2 JP H0314823B2
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JP
Japan
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ester
acid
compound
salts
reaction
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JP63001678A
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JPS63239277A (ja
Inventor
Takao Takatani
Takashi Masugi
Hisashi Takasugi
Hiromu Kawachi
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Astellas Pharma Inc
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP63001678A priority Critical patent/JPS63239277A/ja
Publication of JPS63239277A publication Critical patent/JPS63239277A/ja
Publication of JPH0314823B2 publication Critical patent/JPH0314823B2/ja
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明は一般式 (式中、R1はアミノ又は保護されたアミノを
意味する) で示されるチアゾール酢酸誘導体(シン異性体)
およびセフアロスポリン化合物のアミノ基のアシ
ル化反応に使用しうる、そのカルボキシ基におけ
る反応性誘導体並びにそれらの塩類に関するもの
である。 この発明の目的化合物〈〉は新規であり下記
図式で示す方法によて製造することができる。 (式中、R1aは保護されたアミノ、Zは保護さ
れたカルボキシ、XおよびYはハロゲンをそれぞ
れ意味する) 得られた化合物〈a〉および〈b〉は、常
法により、セフアロスポリン化合物のアミノ基の
アシル化反応に使用しうる、そのカルボキシ基に
おける反応性誘導体に導くことができる。 式〈〉、〈a〉および〈b〉で示される目
的化合物については、それらのチアゾール基に基
づく互変異性体を含むものと理解されるべきであ
る。即ち目的化合物において 式
【式】(式中、R1は前と同じ意 味)はその互変性構造である
【式】(式中、R1bはイミノ又は 保護されたイミノ)で示される。即ち上記の各基
〈A〉および〈B〉は、下記平衡式によつて示さ
れるいわゆる互変異性の関係にある。 (式中R1およびR1bは前と同じ意味) 上記したような2−アミノチアゾール化合物と
2−イミノチアゾリン化合物との間の互変異性は
文献上広く知られており、上記異性体が平衡関係
にあること、交互に容易に変換し得ることは当業
者にとつて自明のことである。従つてそれらは化
合物自身として同一のカテゴリーに属するものと
認識されるべきである。従つてまた原料化合物及
び目的化合物のいずれにおいても、これら互変異
性体は明らかに本発明の範囲に含まれる。本明細
書及び実施例中の説明では、この様な互変異性体
を含む原料化合物及び目的化合物は、便宜上これ
らのうちの一方の表現、即ち
【式】 〈A〉をもつて表わす。 目的化合物〈〉の好適な塩類としては、酸付
加塩、例えば有機酸塩(例えば酢酸塩、マイレン
酸塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエ
ンスルホン酸塩等)或は無機酸塩(例えば塩酸
塩、臭酸塩、硫酸塩、燐酸塩等);金属塩(例え
ばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マ
グネシウム塩等);アンモニウム塩;有機アミン
塩(例えばトリエチルアミン塩、ジシクロヘキシ
ルアミン塩等)等が挙げられる。 本明細書の前・後記の説明において、本発明の
範囲内に含められる各種の基の例示については以
下の如く説明される。 「低級」の用語は、他に特別の定義をしない限
り1〜6個の炭素数を有するものを意味する。 好適な保護されたアミノ基の例としては、アシ
ルアミノ、又はアシル以外の常用保護基例えばア
リール(低級)アルキル(例えばベンジル,トリ
チル等)等で置換されたアミノを含む。 好適な保護されたイミノとしては、アシルイミ
ノ、又はアシル以外の常用保護基、例えばアリー
ル(低級)アルキル(例えばベンジル,トリチル
等)等で置換されたイミノを含む。 「アシルアミノ」及び「アシルイミノ」の各用
語における好適なアシル部分としては、カルバモ
イル、脂肪族アシル、芳香族或は複素環式基を含
むアシルを含む。上記アシルの好適な例として
は、低級アルカノイル(例えばホルミル,アセチ
ル,プロピオニル,ブチリル,イソブチリル,バ
レリル,イソバレリル,オキザリル,サクシニ
ル,ピバロイル等)、好ましくは炭素数1〜4、
より好ましくは炭素数1〜2のもの;炭素数2〜
7個の低級アルコキシカルボニル(例えばメトキ
シカルボニル,エトキシカルボニル,プロポキシ
カルボニル,1−シクロプロピルエトキシカルボ
ニル,イソプロキシカルボニル,プトキシカルボ
ニル,第3級ブトキシカルボニル,ペンチルオキ
シカルボニル,第3級ベンチルオキシカルボニ
ル,ヘキシルオキシカルボニル等);低級アルカ
ンスルホニル(例えばメシル,エタンスルホニ
ル,プロパンスルホニル,イソプロパンスルホニ
ル,ブタンスルホニル等);アレーンスルホニル
(例えばベンゼンスルホニル,トシル等);アロイ
ル(例えばベンゾイル,トルオイル,ナフトイ
ル,フタロイル,インダンカルボニル等);アリ
ール(低級)アルカノイル(例えばフエニルアセ
チル,フエニルプロピオニル等);アリール(低
級)アルコキシカルボニル(例えばベンジルオキ
シカルボニル,フエネチルオキシカルボニル
等);等が例示される。 上記アシル部分は1〜3個の適当な置換分、例
えばハロゲン(例えば塩素、臭素、沃素或は弗
素)、ヒドロキシ,シアノ,ニトロ,低級アルコ
キシ(例えばメトキシ,エトキシ,プロポキシ,
イソプロポキシ等)、低級アルキル(例えばメチ
ル,エチル,プロピル,イソプロピル,ブチル
等)、低級アルケニル(例えばビニル,アリル
等)、アリール(例えばフエニル,トリル等)等
を有していてもよい。 アシルアミノの好適な例としては、低級アルカ
ノイルアミノ或いはハロ(低級)アルカノイルア
ミノ[より好ましくはトリハロ(低級)アルカノ
イルアミノ]が挙げられる。 セフアロスポリン化合物のアミノ基のアシル化
反応に使用しうる、化合物〈〉のカルボキシ基
における反応性誘導体の好適例としては、酸ハラ
イド、酸無水物、活性アミド、活性エステルが含
まれ、例えば酸クロリド;酸アジド;置換燐酸
(例えばジアルキル燐酸、フエニル燐酸、ジフエ
ニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等)、
ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、ア
ルキル炭酸、脂肪族カルボン酸(例えばピバル
酸、吉草酸、イソ吉草酸、2−エチル酪酸、トリ
クロル酢酸等)、芳香族カルボン酸(例えば安息
香酸等)等の酸との混合酸無水物;対称型酸無水
物;イミダゾール、4−置換イミダゾール,ジメ
チルピラゾール,トリアゾール或はテトラゾール
等との活性アミド;又は活性エステル(例えばシ
アノメチルエステル,メトキシメチルエステル,
ジメチルイミノメチル[〈CH〉3N+ 2=CH−]エス
テル,ビニルエステル,プロパルギルエステル,
P−ニトロフエニルエステル,2,4−ジニトロ
フエニルエステル,トリクロロフエニルエステ
ル,ペンタクロロフエニルエステル,メシルフエ
ニルエステル,フエニルアゾフエニルエステル,
フエニルチオエステル,P−ニトロフエニルチオ
エステル,P−クレジルチオエステル,カルボキ
シメチルチオエステル,ピラニルエステル,ピリ
ジルエステル,ピペリジルエステル,8−キノリ
ルチオエステル等)若しくはN−ヒドロキシ化合
物(例えばN,N−ジメチルヒドロキシルアミ
ン,4−ヒドロキシ−2−(1H)−ピリドン,N
−ヒドロキシサクシンイミド,N−ヒドロキシフ
タルイミド,1−ヒドロキシ−6−クロロ−1H
−ベンゾトリアゾール等)とのエステルが例示さ
れる。 好適な保護されたカルボキシとは、エステル化
されたカルボキシを含み、ここでエステル部分と
しては、低級アルキルエステル(例えばメチルエ
ステル,エチルエステル,プロピルエステル,イ
ソプロピルエステル,ブチルエステル,イソブチ
ルエステル,第3級ブチルエステル,ペンチルエ
ステル,第3級ペンチルエステル,ヘキシルエス
テル,1−シクロプロピルエチルエステル等)、
ここで低級アルキル部分は1〜4個の炭素を有す
るものが好ましい;低級アルケニルエステル(例
えばビニルエステル,アリルエステル等);低級
アルキニルエステル(例えばエチニルエステル,
プロピニルエステル等);モノ(又はジ又はトリ)
ハロ(低級)アルキルエステル(例えば2−ヨー
ドエチルエステル,2,2,2−トリクロロエチ
ルエステル等);低級アルカノイルオキシ(低級)
アルキルエステル(例えばアセトキシメチルエス
テル,プロピオニルオキシメチルエステル,ブチ
リルオキシメチルエステル,バレリルオキシメチ
ルエステル,ピバロイルオキシメチルエステル,
ヘキサノイルオキシメチルエステル,2−アセト
キシエチルエステル,2−プロピオニルオキシエ
チルエステル等);低級アルカンスルホニル(低
級)アルキルエステル(例えばメシルメチルエス
テル,2−メシルエチルエステル等);アリール
(低級)アルキルエステル[例えばフエニル(低
級)アルキルエステルで、これらは1又はそれ以
上の適当な置換分を有していてもよい(例えばベ
ンジルエステル,4−メトキシベンジルエステ
ル,4−ニトロベンジルエステル,フエネチルエ
ステル,トリチルエステル,ジフエニルメチルエ
ステル,ビス(メトキシフエニル)メチルエステ
ル,3,4−ジメトキシベンジルエステル,4−
ヒドロキシ−3,5−ジ第3級ブチルベンジルエ
ステル)];1又はそれ以上の適当な置換分を有し
ていてもよいアリールエステル(例えばフエニル
エステル,トリルエステル,第3級ブチルフエニ
ルエステル,キシリルエステル,メシチルエステ
ル,クメニルエステル等)等が例示される。保護
されたカルボキシの好適な例としては、炭素数2
〜7個の低級アルコキシカルボニル(例えばメト
キシカルボニル,エトキシカルボニル,プロポキ
シカルボニル,ブトキシカルボニル,第3級ブト
キシカルボニル,第3級ペンチルオキシカルボニ
ル,ヘキシルオキシカルボニル等)、好ましくは
炭素数2〜5個のものが挙げられる。 好ましいハロゲンは塩素、臭素、弗素及び沃素
である。 上記で説明し且つ例示した目的化合物における
R1の好適例のうち、特に好ましいのはアミノ又
はアシルアミノ[より好ましいのは低級アルカノ
イルアミノ又はハロ(低級)アルカノイルアミノ
(一層好ましいのはトリハロ(低級)アルカノイ
ルアミノ)]である。 この発明の目的化合物の製造方法は以下詳述す
る通りである。 製造法 1 工程 1 化合物〈〉は化合物〈〉に化合物〈〉を
反応させることにより製造することができる。 反応は通常炭酸カリウム等の塩素の存在下、
N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸エチル等の
溶媒中、室温で行なわれる。 工程 2 化合物〈〉は化合物〈〉をハロゲン化反応
に付すことにより製造することができる。 好適なハロゲン化剤としては塩化スルフリル等
が挙げられる。 反応は、通常、酢酸等の溶媒中、室温ないし加
温下で行なわれる。 工程 3 化合物〈〉は化合物〈〉にチオ尿素を反応
させることにより製造することができる。 この反応は、好ましくは、酢酸ナトリウム等の
塩基の存在下、通常、水、アルコール(メタノー
ル,エタノール等)、テトラヒドロフラン等の溶
媒中又はそれらの混合溶媒中、室温ないし加温下
で行なわれる。 工程 4 目的化合物〈a〉は化合物〈〉をカルボキ
シ保護基の脱離反応に付すことにより製造するこ
とができる。 この反応におけるカルボキシ保護基の脱離反応
としては通常の加水分解反応を利用することがで
きる。 この反応は、通常、水酸化ナトリウム等の塩基
の存在下、水、アルコール(メタノール,エタノ
ール等)、テトラヒドロフラン等の溶媒中又はそ
れらの混合溶媒中、室温で行なわれる。 製造法 2 目的化合物〈b〉は、化合物〈a〉にアミ
ノ保護化剤を反応させることにより製造すること
ができる。 この反応で用いられるアミノ保護化剤は、アミ
ノ保護基を導入する際に慣用されている試薬であ
り、好ましくは、酸無水物(例えば2,2,2−
トリフルオロ酢酸無水物、蟻酸酢酸混合酸無水物
等)等が挙げられる。 反応は、好ましくは、ビス(トリメチルシリ
ル)アセトアミド等のアミノ活性化剤の存在下、
通状、酢酸エチル、酢酸等の溶媒中、室温で行な
われる。 この発明の目的化合物(I)は、抗菌性物質と
して有用な一般式 (式中、R1は前と同じ意味、R2はカルボキシ
又は保護されたカルボキシ、R3は低級アルケニ
ルを有するテトラゾリルをそれぞれ意味する)で
示されるセファロ化合物またはその塩類を合成す
るための中間体として有用である。 このセファロ化合物(C)は以下の方法によつ
て製造される。 (式中、R1、R2、およびR3は夫々前と同じ意
味である) 化合物(C)またはその塩類は、化合物()
もしくはそのアミノ基における反応性誘導体又は
それらの塩類に、化合物(I)もしくはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体又はそれらの塩類
を作用させることによつて製造することができ
る。 化合物()のアミノ基における反応性誘導体
には、化合物()にアセト酢酸等のカルボニル
化合物を反応させて得られるシッフ塩基型のイミ
ノ若しくはその互変異性体であるエナミン型化合
物;化合物()にトリメチルシリルアセトアミ
ド、ビス(トリメチルシリル)アセトアミド等の
シリル化合物を反応させることによつて得られる
シリル化合物;化合物()と3塩化燐やホスゲ
ン等との反応によつて得られる誘導体等が含まれ
る。 化合物(I)のカルボキシ基における反応性誘
導体の好適な例としては、前述の「セファロスポ
リン化合物のアミノ基のアシル化反応に使用しう
る、化合物(I)のカルボキシ基における反応性
誘導体」の例示を参照することができる。 化合物()の好適な塩類としては、酸付加
塩、例えば有機酸塩(例えば酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエン
スルホン酸塩等)或は無機酸塩(例えば塩酸塩、
臭酸塩、硫酸塩、燐酸塩等);金属性(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネ
シウム塩等);アンモニウム塩;有機アミン塩
(例えばトリエチルアミン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩等)等が挙げられる。 化合物(C)の塩類としては常用の非毒性塩が
あり、金属塩〔例えばアルカリ金属塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属
塩(例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等)〕、
アンモニウム塩等の無機塩、有機アミン塩(例え
ばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、エ
タノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、ピリ
ジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン
塩、N,N′−ジベンジルエチレンジアミン塩
等)、有機酸塩(例えば酢酸塩、マレイン酸塩、
酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホ
ン酸塩、トルエンスルホン酸塩等)等の有機塩、
無機酸塩(例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、燐酸塩等)、アミノ酸(例えばアルギニン、
アスパラギン酸、グルタミン酸等)との塩等が例
示される。 反応は常用溶媒、例えば水、アセトン、ジオキ
サン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチ
レン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジ
ン或は反応の進行に悪影響を与えない他の有機溶
媒等の存在下に行なうのが一般的であり、これら
は混合して用いることもできる。 化合物(I)を遊離酸又はその塩類の形で反応
させるときは、この反応は一般的な縮合剤、例え
ばN,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド;
N−シクロヘキシル−N′−モルホリノエチルカ
ルボジイミド;N−シクロヘキシル−N′−(4−
ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミ
ド;N,N′−ジエチルカルボジイミド;N,
N′−ジイソプロピルカルボジイミド;N−エチ
ル−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボ
ジイミド;N,N−カルボニルビス−(メチルイ
ミダゾール);ペンタメチレンケテン−N−シク
ロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シク
ロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;1−ア
ルコキシ−1−クロロエチレン;トリアルキル亜
燐酸;ポリ燐酸エチル;ポリ燐酸イソプロピル;
オキシ塩化燐;3塩化燐;塩化チオニル;塩化オ
キサリル;トリフェニルホスフィン;2−エチル
−7−ヒドロキシベンズイソキサゾリウム塩;2
−エチル−5−(m−スルホフェニル)イソキサ
ゾリウム水酸化物分子内塩;1−(p−クロロベ
ンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベ
ンゾトリアゾール;ジメチルホルムアミドと塩化
チオニル、ホスゲン、オキシ塩化燐との反応によ
つて得られるいわゆるビルスマイヤー試薬;等の
存在下に行なうのが好ましい。 又反応は、有機又は無機塩基例えば炭酸水素ア
ルカリ金属、トリ(低級)アルキルアミン、ピリ
ジン、N−(低級)アルキルモルホリン、N,N
−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の存在下
に行なうこともできる。反応温度は制限されず、
通常は冷却ないし室温下に進行する。 この反応では、好ましくは化合物()に対し
て、化合物(I)のシン異性体を、例えば上記ビ
ルスマイヤー試薬の存在下に中性付近で反応させ
ることによつて、化合物(C)の対応するシン異
性体を製造することができる。 化合物(C)中、R1が保護されたアミノの場
合には、常法によりそのアミノ保護基を脱離する
ことができる。 以下、実示例によりこの発明を説明する。 実施例 1 (1) 2−ヒドロキシイミノ−3−オキソ酪酸エチ
ル(シン異性体)(50g)および炭酸カリウム
(65.8g)のN,N−ジメチルホルムアミド
(150ml)懸濁液に、氷冷下攬拌しながらシクロ
ペンチルブロミド(47.4g)を2〜3分間かけ
て滴下する。室温で2時間40分攬拌した後、反
応混合物を塩化メチレン(300ml)および水
(600ml)の混合物中に注ぐ。有機層を分取し、
水層を更に塩化メチレン(200ml)で2回抽出
して、有機層をすべて合わせる。食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去
して、2−シクロペンチルオキシイミノ−3−
オキソ酪酸エチル(シン異性体)(68.7g)の
油状物を得る。 I.R(液膜):1740,1670,1495,1430cm-1 N.M.R.(CC14,δ):1.32(3H,t,J==7
Hz),1.4−2.2(8H,m),2.33(3H,s),
4.27(2H,q,J=7Hz),4.87(1H,m) (2) 2−シクロペンチルオキシイミノ−3−オキ
ソ酪酸エチル(シン異性体)(89g)の酢酸
(89ml)溶液に、氷冷下、塩化スルフリル
(26.5ml)を10分間かけて滴下する。30〜35℃
で6時間50分撹拌した後、反応混合物に氷冷下
水(30ml)を加える。得られた混合物を水
(500ml)に注ぎ、塩化メチレン(300ml×1回、
100ml×1回)で抽出する。抽出液を食塩水、
希炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。溶
煤を留去して、2−シクロペンチルオキシイミ
ノ−3−オキソ−4−クロロ酪酸エチル(シン
異性体)(69g)の油状物を得る。 I.R(液膜):1750,1735,1465,1435,cm-1 N.M.R.(CCI4,δ):1.33(3H,t,J=7
Hz),1.3−2.4(8H,m)4.28(2H,q,J=
7Hz),4.46(2H,s),4.86(1H,m) (3) 2−シクロペンチルオキシイミノ−3−オキ
ソ−4−クロロ酪酸エチル(シン異性体)
(69.0g)、チオ尿素(20.1g)、酢酸ナトリウ
ム三水和物(35.9g)、エタノール(172ml)お
よび水(172ml)の混合物を室温で1時間10分
撹拌する。エタノールを減圧留去し、析出した
結晶を濾取する。濾取した結晶を水次いでジイ
ソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥させて、2
−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)酢酸エチル(シン
異性体)(37.5g)を得る mp.134〜136℃ I.R.(ヌジョール):3490,3450,3250,3120,
1735,1540,1460cm-1 N.M.R.(DMSO−d6,δ):1.25(3H,t,J
=7Hz),1.62(8H,ブロードs),4.27(2H,
q,J=7Hz),4.70(1H,m),6.85(1H,
s),7.20(2H,s) (4) 2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)酢酸エチル
(シン異性体)(37.4g)、2N水酸化ナトリウム
水溶液(132ml)、メタノール(132ml)および
テトラヒドロフラン(100ml)の混合物を35℃
で6.5時間撹拌する。反応混合物を10%塩酸で
中和し、メタノールを減圧留去した後、水を加
えて不溶物を濾去する。濾液を氷冷下、5%塩
酸でpH3.0に調整し、30分間撹伴する。生成し
た沈殿物濾取し、残渣を水洗し、乾燥させて、
2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性
体)(29.0g)を得る。 mp. 186℃(分解) I.R.(ヌジヨール):3330,3120,1635,1450cm
-1 NMR(DMSO−d6):1.1−2.2(8H,m),4.68
(1H,m),6.81(1H,s),7.18(2H,ブロ
ードs) (5) 2−シクロペンチルオキシイミノ(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性体)
(8.5g)の乾燥酢酸エチル(85.0ml)溶液に、
10℃でビス(トリメチルシリル)アセトアミド
(13.5g)を加え、20分間撹伴する。混合物を−
10℃に冷却し、2,2,2−トリフルオロ酢酸
無水物(22.0g)を20分間かけて滴下した後−
5〜0℃で2時間撹伴する。反応混合物を−10
℃に冷却し、水(50ml)および酢酸エチル
(100ml)を加える。生成した結晶を濾取し、乾
燥させて、2−シクロペンチルオキシイミノ−
2−[2−(2,2,2,−トリフルオロアセト
アミド)チアゾール−4−イル]酢酸(シン異
性体)(1.12g)を得る。 I.R.(ヌジヨ−ル):3200,3130,1720,1590,
1580cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.34−2.22(8H,
m),4.81(1H,m),7.71(1H,s) 濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でPH1.5
に調整した後、分取した有機層を飽和食塩水で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。溶媒を留
去し、残渣をジイソプロピルエ−テルおよびn−
ヘキサンから結晶化させて、同化合物(9.35g)
を更に得る。 参考例 1 乾燥ジメチルホルムアミド(2.6g)、オキシ塩
化燐(5.4g)及び乾燥酢酸エチル(10.4ml)から
常法によりビルスマイヤ−試薬を調整し、これに
乾燥酢酸エチル(100ml)を加え、更に0℃で2
−シクロペンチルオキシイミノ−2−[2−(2,
2,2,−トリフルオロアセトアミド)チアゾー
ル−4−イル]酢酸(シン異性体)(10.4g)を加
えた。この混合物を同温度で30分間撹伴した。得
られた生成混合物を、7−アミノ−3(1−アリ
ル−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−セフエム−4−カルボン酸(9.6g)とトリ
メチルシリルアセトアミド(24.8gの乾燥した酢
酸エチル(192ml)溶液に撹伴下−10℃で添加し、
同温度で30分間撹伴した。反応混合物に水を加
え、酢酸エチル層を分離し炭酸水素ナトリウム水
溶液(PH7.5)で抽出した。水層を2倍量の酢酸
エチルで洗浄し、酢酸エチル及びテトラドロフラ
ンを添加したあと後10%の塩酸でPH2.0に調整し
た。油層を分離した後水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥して活性炭で処理し、蒸発乾固した。残留
物をジエチルエーテル中で粉末化し、粉末を濾取
しジエチルエーテルで洗浄して、7−[2−シク
ロペンチルオキシイミノ−2−{2−(2,2,2
−トリフルオロアセトアミド)チアゾール−4−
イル}アセドアミド]−3−(1−アリル−1H−
テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(シン異性体)(18.18g)
を得た。 N.M.R.(DMSO−d6,δ):1.28−2.26(8H,
m),3.73(2H,m),4.39(2H,ABq,J=
14Hz),4.77(1H,m),4.88−5.47(5H.m),
5.70−6.52(2H,m),7.50(1H,s),9.67
(1H,d,J=8.0Hz) 参考例 2 7−[2−シクロペンチルオキシイミノ−2−
{2−(2,2,2−トリフルオロアセトアミド)
チアゾール−4−イル}アセドアミド]−3−(1
−アリル−1H−テトラゾール−5−イル)チオ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸(シン異
性体(18.0g)とテトラヒドロフラン(36ml)を、
酢酸ナトリウム3水和物(35.6g)の水(360ml)
溶液に加え、室温で18時間撹伴した後、反応混合
物からテトラヒドロフランを留去した。残留液を
15%の塩酸でPH3.0に調整し、生成した沈殿を水
洗後乾燥して、粗製の7−[2−シクロペンチル
オキシイミノ−2(2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド]−3−(1−アリル−
1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3
−セフエム−4−カルボン酸(シン異性体)
(20g)を得た。この粗製物を酸化アルミニウム
(60ml)のカラムクロマトラフイーで、3〜5%
酢酸ナトリウム水溶液を溶出液として精製し、純
粋な目的物質(8.31g)を得た。mp.140〜145℃
(分解)。 I.R.(ヌジヨール):3300,1770,1660,1620cm
-1 N.M.R.(DMSO−d6,δ):1.16−2.26(8H,
m),3.73,(2H,m),4.41(2H,ABq,J
=14Hz),4.68(1H,m)4.89−5.52(5H,
m),5.62−6.43(2H,m),6.73(1H,s),
9.51(1H,d,J=8Hz)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1はアミノ又は保護されたアミノを
    意味する) で示されるチアゾール酢酸誘導体(シン異性体)
    およびセフアロスポリン化合物のアミノ基のアシ
    ル化反応に使用しうる、そのカルボキシ基におけ
    る反応性誘導体並びにそれらの塩類。 2 2−シクロペンチルオキシイミノ−2−(2
    −アミノチアゾール−4−イル)酢酸(シン異性
    体)である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 R1がアシルアミノである特許請求の範囲第
    1項記載の化合物。 4 R1が低級アルカノイルアミノまたはハロ
    (低級)アルカノイルアミノである特許請求の範
    囲第3項記載の化合物。 5 2−シクロペンチルオキシイミノ−2−[2
    −(2,2,2−トリフルオロアセトアミド)チ
    アゾール−4−イル]酢酸(シン異性体)である
    特許請求の範囲第4項記載の化合物。
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