JPH03149221A - ポリカーボネートの製造法 - Google Patents

ポリカーボネートの製造法

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JPH03149221A
JPH03149221A JP28850989A JP28850989A JPH03149221A JP H03149221 A JPH03149221 A JP H03149221A JP 28850989 A JP28850989 A JP 28850989A JP 28850989 A JP28850989 A JP 28850989A JP H03149221 A JPH03149221 A JP H03149221A
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Tatsuya Sugano
菅野 龍也
Yasuhiro Oshino
康弘 押野
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は周期律表第Vb族の元素を含む化合物から選択
された少なくとも1種の触媒の存在下で2価ヒドロキシ
化合物とビスアリールカーボネート等とを溶融重縮合さ
せて得られる高分子量ポリカーボネートの製法に関する
ものである。
(従来技術と発明が解決しようとする課題)本発明の高
分子量ポリカーボネートは、幅広い用途、特に射出成形
用又は窓ガラスの代わりのガラスシートとしての用途を
有する。汎用エンジニアリングサーモプラスチックスで
ある。界面重縮合法は一般的にポリカーボネートの製造
に効果的であるが、有毒なホスゲンを使用することや塩
素イオンが生成するポリカーボネートに残存することな
どの欠点を有する。これらの欠点を除くために有毒なホ
スゲンの代わりにホスゲンのダイマーである液体のトリ
クロロメチルクロロホルメートを用いて特殊な2価フェ
ノールとを界面重縮合反応でポリカーボネートを製造す
ることが特開昭63−182336に開示されている。
しかしながら、特殊な2価フェノールである9、9−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン類についての
記載があるのみである。また、有毒なホスゲンの代わり
にトリホスゲンを用いて2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパンからポリカーボネートを得ることが
Angew−Chem、 (アンゲバンテ、ヘミ−)毀
922(1987)に記載されているが、ホスゲンが発
生する反応機構も提唱されている。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは、カーボネート結合を生成する化合物とし
てビスアリールカーボネートと2価ヒドロキシ化合物を
周期律表第Vb族の元素を含む化合物から選択された少
なくとも1種の存在下、溶融重縮合させることにより、
毒性のホスゲンを用いず且つ塩素イオンを本質的に含ま
ない高分子量ポリカーボネートが得られる事実を見い出
すに至った。
本発明は(1)周期律表第Vb族の元素を含む化合物か
ら選択された少なくとも1種の触媒の存在下で2価ヒド
ロキシ化合物とビスアリールカーボネ−とを溶融重縮合
させることを特徴とするポリカーボネートの製造法。(
2)2価ヒドロキシ化合物が一般式(I )、(II)
、(III)、(IV)で表される前記(1)記載のポ
リカーボネートの製造法。
R1 e (Rz 、 R2,Rs 、R4は水素又は炭素数1〜
8の直鎖又は枝分れを含むアルキル基、又はフェニル基
でありXはハロゲン原子でn=0〜4.m=1〜4)に
関するものである。(3)前記(1)又は(2)記載の
ポリカーボネート共重合体の製造法。
本発明に使用しうる周期律表第Vb族の元素を含む化合
物の代表例を以下に挙げる。第11周期のアミン化合物
の代表例としては、N、N−ジメチル−ルアミノピリジ
ン、4−ジエチルアミノピリジン、4ピロリジノピリジ
ン、 4−(5−ルル)−ピリジン、4−アミノピリジ
ン2−アミノピリジン2−ヒドロキシピリジン、2−メ
トキシピリジン、4メトキシピリジン、4−ヒドロキシ
ピリジン、2−ジメチルアミノイミダゾール、2−メト
キシイミダゾール、2−メルカプトイミダゾール、2−
アミノピリジン、アミノキルン。
イミダゾール、2−メチルイミダゾール、本メチルイミ
ダゾール、ジアザビシクロオクタン(DABCO)等が
挙げられる。また、これらのアミン化合物の塩も用いる
ことができる。
上記アミン化合物の塩を形成する酸の代表例としては、
炭酸、酢酸、ギ酸、硝酸、亜硝酸、しゅう酸、硫酸、リ
ン酸、フッ化ホウ素酸、水素ホウ素酸などが挙げられる
さらに、第1II周期のリン化合物の代表例としては、
トリエチルホスフィン トリーn−プロピルホスフィン
、トリイソプロピルホスフィン、トリーn−ブチルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、トリーp−トリルホ
スフィン、トリーかトリルホスフィン。
トリブチルホスファイト トリフェニルホスファイト、
トリー店トリルホスファイト、トリ→−トリルホスファ
イトなどが挙げられる。
第■周期のヒ素化合物の代表例としては、テトラフェニ
ルヒ素、テトラフエニルヒ素オキサイド等がある。
第V周期のアンチモン化合物の代表例としては、テトラ
フェニルアンチモン、三酸化アンチモン等がある。
第■周期のビスマス化合物の代表例としては、ビスマス
トリメチルカルボキシレート ビスマストリエチルカル
ボキシレート等がある。
また、2価ヒドロキシ化合物の代表例としては、以下の
化合物が挙げられる。一般式(I)に分類される2価ヒ
ドロキシ化合物として、2,2−ビス−(4ヒドロキシ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(本ヒドロキシフェ
ニル)ブタン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)↓メチルペンタン、2,2−ビス−(4ヒドロキシ
フェニル)オクタン、4.4−ジヒドロキシ−2,2,
2−トリフェニルエタン、2,2−ビス−(3,5−ジ
ブロモ−本ヒドロキシフエニル)プロパンなどが挙げら
れる。
一般式(II)に分類される2価ヒドロキシ化合物とし
て、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス−(4ヒドロキシ−3−
イソプロピルフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4
ヒドロキシ−3−5ec、ブチルフェニル)プロパン、
2,2−ビス−(3,5−ジメチル↓ヒドロキシフエニ
ル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3−
ターシャリ−ブチルフェニル)プロパンなどが挙げられ
る。一般式(III))二分類されフー る2価ヒドロキシ化合物として、1,1′−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)−店ジイソプロピルベンゼン、
 1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジ
イソプロピルベンゼンなどが挙げられる。一般式(IV
)に分類されるビスフェノールとして、1,1−ビス−
(4ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンが挙げられる
。さらに、一般式(I )、(II)、(m)、(IV
)の中から選択された2種又は3種以上の2価ヒドロキ
シ化合物を組み合せた共重合ポリカーボネートを製造す
ることも可能である。
本発明の方法は、周期律表第Vb族の元素を含む化合物
から選択された少なくとも1種の触媒を−用いてビスフ
ェノールAのような2価のヒドロキシ化合物をビスフェ
ニルカーボネートと溶融重縮合反応させることによって
実施される。
この反応が進む温度は、100°C以上から約300°
Cまでの範囲である。好ましくは130°Cから280
°Cの範囲である。130°C未満であると反応速度が
遅くなり、280℃を越えると副反応が起こりやすくな
る。
触媒として用いる周期律表第Vb族の元素を含む化合物
から選択された少なくとも1種の化合物は、反応系中に
存在する2価フェノールに対して104モルから10−
5モルを必要とするが、好ましくは10−2モルから1
04モルである。10−5モル未満であると触媒作用が
少なくポリカーボネートの重合速度が遅くなり10−1
モル以上であると触媒として生成するポリカーボネート
に残存する率が高くなるのでポリカーボネートの物性低
下をまねく。
また、ビスアリールカーボネートの必要量は反応系中に
存在する2価ヒドロキシ化合物と当モル必要である。一
般に高分子ポリカーボネートが生成するためにはカーボ
ネート化合物1モルと2価のヒドロキシ化合物1モルが
反応しなければならない。ビスアリールカーボネートを
用いた場合、ヒドロキシ化合物2モルが前記反応によっ
て生じる。これら2モルのヒドロキシ化合物は反応系外
に留去される。
以下に本発明を実施例について説明するが、本発明は、
これらの実施例によって限定されるものではない。
(実施例) 実施例1 2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン22
.8g(0,1モル)と2−メチルイミダゾールの炭酸
塩0−288g(2X1G−3モル)、ビスフェニルカ
ーボネート21.4g(0,1モル)を加え窒素下、1
80°Cで1時間積はん後、徐々に減圧にしながら昇湿
させ、最終的にQ−ITorr 、270°c、i時間
重縮合反応させ生成するとフェノールを留去させて、無
色透明なポリカーボネートを得た。粘度平均分子量を測
定するとMv=27,000であった。また、ガラス転
移温度は150°Cであグた。
粘度平均分子量の測定方法は、20°Cにおける塩化メ
チレン溶液の固有粘度[」]をウベローデ粘度計を用い
て測定し、次式を用いて粘度平均分子量Mvを計算した
。    − [ql=1.11X10−(Nfv)−82実施例2 実施例1と全く同様の条件下で2−メチルイミダゾール
の炭酸塩の代わりに本ジメチルアミノピリジンの炭酸塩
0.0184g(IIIO4モル)を加え・窒素下、2
時間積はん後、実施例1と同様の方法で重縮合反応を行
い無色透明のポリカーボネートを得た。粘度平均分子量
を測定するとMv=28,000であった。また、ガラ
ス転移温度は150°Cであった。
実施例3 2.2−ヒス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン11
.4g(50モル%) 、 2.2−ビス(4−ヒドロ
キシ−3−ターシャリブチルフェニル)プロパン17.
0メ50モル%)。
イミダゾールのしゅう酸塩0.113g(10−3モル
)を窒素下、2時間積はん後実施例1と同様の方法で重
結合反応を行い無色透明のポリカーボネートを得た。こ
のポリカーボネートの粘度平均分子量Mv=25,00
0 .ガラス転移温度は128℃であった。
実施例4 2.2−ビス(本ヒドロキシフェニル)プロパン22−
8g(0,1モル)、ビス(2,4,ロー )リクロ口
フェニル)カーボネート42−1g(0,1モル)、ジ
メチルアミノピリジンの酢酸塩0.0182メ10モル
)を窒素下、180℃1時間積はん後、徐々に減圧しな
がら昇湿させ最終的には、0.1Torr 、 280
℃、1時間重縮合反応させ、生成する2、4,6−トリ
クUOフェノールを留去させて無色透明なポリカーボネ
ートを得た。
粘度平均分子量を測定するとMv=27,500であっ
た。また、ガラス転移温度は151℃であった。   
一実施例5 実施例1と全く同様の条件下で2−メチルイミダゾール
の炭酸塩の代わりにトリフェニルホスフィン0.525
g(2X10−”モル)を加え、窒素下、2時間積はん
後、実施例工と同様の方法で重縮合反応を行い無色透明
のポリカーボネートを得た。粘度平均分子量を測定する
とMv=28,000であった。また、ガラス転移温度
は150Cであった。
実施例6 13一 実施例1と全く同様の条件下で2−メチルイミダゾール
の炭酸塩の代わりにBi(III ) )リアセテート
無色透明のポリカーボネートを得た。粘度平均分子量を
測定するとNNv=26,800であった。また、ガラ
ス転移温度は151°Cであった。
実施例7 実施例1と全く同様の条件下で2−メチルイミダい無色
透明のポリカーボネートを得た。粘度平均分子量を測定
するとNIv=28,500であった。また、ガラス転
移温度は148℃であった。
実施例8 実施例工と全く同様の条件下で2−メチルイミダ無色透
明のポリカーボネートを得た。粘度平均分子量を測定す
るとMv=27,500であった。また、ガラス転移温
度は150°Cであった。
比較例 実施例1と全く同条件下で2−メチルイミダゾールの炭
酸塩の代わりにピリジンの炭酸塩な用V1て同様の処理
を行ったが、得られたポリカーボネートの粘度平均分子
量NIv:=4,000であり、ポリカーボネートとし
ての形態は成しているものの実用には適していない低分
子量であった。
(発明の効果) 周期律表第Vb族の元素を含む化合物から選択された少
なくとも1種の化合物を触媒として用いることにより毒
性のホスゲンを用いずに実質的に塩素イオンを含まない
高分子量で無色透明なポリカーボネートを得ることがで
きた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)周期律表第Vb族の元素を含む化合物から選択さ
    れた少なくとも1種の触媒の存在下で2価のヒドロキシ
    化合物とビスアリールカーボネートとを溶融重縮合させ
    ることを特徴とするポリカーボネートの製造法。
  2. (2)2価のヒドロキシ化合物が( I )、(II)、(
    III)、(IV)で表される特許請求の範囲第1項記載の
    ポリカーボネートの製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (R_1、R_2、R_3、R_4は水素又は炭素数1
    〜8の直鎖又は枝分れを含むアルキル基、又はフェニル
    基でありXはハロゲン原子でn=0〜4、m=1〜4)
    (3)特許請求の範囲第1項又は第2項記載のポリカー
    ボネート共重合体の製造法。
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