JPH03153247A - 感光材料処理装置 - Google Patents
感光材料処理装置Info
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- JPH03153247A JPH03153247A JP29365489A JP29365489A JPH03153247A JP H03153247 A JPH03153247 A JP H03153247A JP 29365489 A JP29365489 A JP 29365489A JP 29365489 A JP29365489 A JP 29365489A JP H03153247 A JPH03153247 A JP H03153247A
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Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 32
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 20
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 20
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 25
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 25
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 21
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 14
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 10
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-pyrimidin-4-ylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC1=CC=NC=N1 JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はステンレス鋼で成形された部品が組み込まれて
、画像露、光された感光材料を処理する感光材料処理装
置に関する。
、画像露、光された感光材料を処理する感光材料処理装
置に関する。
感光材料として例えば画像露光された後のフィルムは、
感光材料処理装置内へ挿入されて現像、定着された後に
水洗されて乾燥される。
感光材料処理装置内へ挿入されて現像、定着された後に
水洗されて乾燥される。
感光材料処理装置内の処理槽例えば現像槽内に配置され
て、フィルムを搬送する処理ラックを構成するラック部
材は、常時現像液中に浸漬されている。このためこのラ
ック部材は現像液等に対して防食性の高いステンレス鋼
で成型されている。
て、フィルムを搬送する処理ラックを構成するラック部
材は、常時現像液中に浸漬されている。このためこのラ
ック部材は現像液等に対して防食性の高いステンレス鋼
で成型されている。
また処理槽以外にも、ステンレス鋼で成型された部材が
使用されている。これは感光材料によって持ち出された
現像槽内の現像液が定着槽内の定着液中へ混入して反応
することによって発生する腐食性のガス(硫酸アンモニ
ウム)等に対する防食のためである。
使用されている。これは感光材料によって持ち出された
現像槽内の現像液が定着槽内の定着液中へ混入して反応
することによって発生する腐食性のガス(硫酸アンモニ
ウム)等に対する防食のためである。
しかしながら、上記感光材料処理装置内のステンレス製
の部材の表面には微細な凹凸が有り、処理液に浸漬して
いない部分ではこの微細な凹凸に腐食性因子(例えば硫
酸アンモニウムや、ハo/7’ンイオン)が捕捉されや
すく、腐食が生じる場合があると問題がある。またステ
ンレス製の部材の表面には製造上の欠陥部(クロムプア
ー層)や不純物が含まれてふり、そこから腐食が進行す
る場合があるという問題がある。また上記感光材料処理
装置内のステンレス製の部材は、ステンレス鋼板を切断
したり、部材形状にプレス成形する際に、ステンレス鋼
の表面に形成されている酸化皮膜が傷付き一時的に、下
地が露出する。−時的に下地が露出した部分はその後空
気酸化によって酸化皮膜が形成されたとしても薄いので
、この部分から腐食が進行することがあるという問題が
ある。
の部材の表面には微細な凹凸が有り、処理液に浸漬して
いない部分ではこの微細な凹凸に腐食性因子(例えば硫
酸アンモニウムや、ハo/7’ンイオン)が捕捉されや
すく、腐食が生じる場合があると問題がある。またステ
ンレス製の部材の表面には製造上の欠陥部(クロムプア
ー層)や不純物が含まれてふり、そこから腐食が進行す
る場合があるという問題がある。また上記感光材料処理
装置内のステンレス製の部材は、ステンレス鋼板を切断
したり、部材形状にプレス成形する際に、ステンレス鋼
の表面に形成されている酸化皮膜が傷付き一時的に、下
地が露出する。−時的に下地が露出した部分はその後空
気酸化によって酸化皮膜が形成されたとしても薄いので
、この部分から腐食が進行することがあるという問題が
ある。
本発明は上記事実を考慮し、感光材料処理装置内に配置
されたステンレス鋼で成形された部品の腐食を防止する
ことが出来る感光材料処理装置を提供することが目的で
ある。
されたステンレス鋼で成形された部品の腐食を防止する
ことが出来る感光材料処理装置を提供することが目的で
ある。
上記目的を達成するため請求項(1)記載の発明では、
成形後にひようめん電解研磨処理されたステンレス鋼に
より成る部材が組み込まれたことを特徴としている。
成形後にひようめん電解研磨処理されたステンレス鋼に
より成る部材が組み込まれたことを特徴としている。
また請求項(2)記載の発明では成形後に表面を不働体
化処理されたステンレス鋼により成る部材が組み込まれ
たことを特徴としている。
化処理されたステンレス鋼により成る部材が組み込まれ
たことを特徴としている。
また請求項(3)記載の発明では、成形後に表面を電解
研磨処理されその後不働体化処理されたステンレス鋼よ
りなる部材が組み込まれたことを特徴としている。
研磨処理されその後不働体化処理されたステンレス鋼よ
りなる部材が組み込まれたことを特徴としている。
上記請求項(1)記載の発明では感光材料処理装置内に
組み込まれたステンレス鋼より成る部材は成形後に電解
研磨処理する。
組み込まれたステンレス鋼より成る部材は成形後に電解
研磨処理する。
これによって、部材表面の微細な凹凸がなくなるので、
処理液外に露出している部材表面上へ腐食性因子が捕捉
されにくくなり、腐食を防止することが出来る。また、
ステンレス製の表面にはクロムプアー層や不純物が含ま
れており、電解研磨処理によりこれらが除かれ、腐食を
防止することが出来る。
処理液外に露出している部材表面上へ腐食性因子が捕捉
されにくくなり、腐食を防止することが出来る。また、
ステンレス製の表面にはクロムプアー層や不純物が含ま
れており、電解研磨処理によりこれらが除かれ、腐食を
防止することが出来る。
また請求項(2)記載の発明では感光材料処理装置内の
部材は成形後に、表面を不働体化処理することによって
ステンレス鋼の部材の表面の酸化膜を再生強化する。こ
れによって感光材料処理装置内に発生する腐食性のガス
による腐食及び処理液による腐食を防止することが出来
る。
部材は成形後に、表面を不働体化処理することによって
ステンレス鋼の部材の表面の酸化膜を再生強化する。こ
れによって感光材料処理装置内に発生する腐食性のガス
による腐食及び処理液による腐食を防止することが出来
る。
さらに請求項(3)の発明では、処理液中へ浸漬される
ステンレス鋼で成型されて感光材料を搬送するラック部
材の表面を電解研磨処理した後に不働体化処理をする。
ステンレス鋼で成型されて感光材料を搬送するラック部
材の表面を電解研磨処理した後に不働体化処理をする。
これにより、ラック部材かの腐食性因子による腐食を防
止するとが出来る。
止するとが出来る。
以下図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する
。第1図には本発明に係る感光材料処理装置lOの概略
側面図が示されている。
。第1図には本発明に係る感光材料処理装置lOの概略
側面図が示されている。
本実施例に係る感光材料処理装置10は感光材料として
のフィルム20を現像する機能、定着する機能、水洗す
る機能、乾燥する機能、を備えている。
のフィルム20を現像する機能、定着する機能、水洗す
る機能、乾燥する機能、を備えている。
感光材料処理装置lOには、外部からの光を遮光する開
閉可能な蓋体12.14.16が上部に設けられた筐体
18が備えられている。この筐体18の前部上側にはフ
ィルム20を挿入する挿入台22が備えられ、後部°側
には処理済みフィルムを貯めておくフィルムストッカ2
4が備えられている。
閉可能な蓋体12.14.16が上部に設けられた筐体
18が備えられている。この筐体18の前部上側にはフ
ィルム20を挿入する挿入台22が備えられ、後部°側
には処理済みフィルムを貯めておくフィルムストッカ2
4が備えられている。
筐体18の挿入台22の近傍にはフィルム20が挿入さ
れる挿入口26が形成されており、この挿入口26の近
傍にはフィルムの通過を検出する検出器28が取付けら
れている。
れる挿入口26が形成されており、この挿入口26の近
傍にはフィルムの通過を検出する検出器28が取付けら
れている。
検出器28はフィルム挿入口26近傍に複数個の発光り
子と受光素子とを対向してフィルム幅方向に配列して構
成されており、発光素子から照射された光線がフィルム
によって遮光されることより各受光素子は挿入されたフ
ィルムの輻及び長さに応じてオン、オフする。なお、検
出器28は、とフィルム20によって反射した発光素子
の光を受光素子が受光することによりオン、オフする種
類の検出器でも良い。
子と受光素子とを対向してフィルム幅方向に配列して構
成されており、発光素子から照射された光線がフィルム
によって遮光されることより各受光素子は挿入されたフ
ィルムの輻及び長さに応じてオン、オフする。なお、検
出器28は、とフィルム20によって反射した発光素子
の光を受光素子が受光することによりオン、オフする種
類の検出器でも良い。
筐体18の内部には、上方が開口された箱体形状の処理
槽本体30が配置されている。この処理槽本体30内は
隔壁32によって仕切られており、現像槽34、定着槽
36、水洗槽38が順に形成されている。現像槽34の
深さは定着槽36及び水洗槽38の深さより若干深くな
っている。また定着槽36の深さは水洗槽38の深さと
同深さとされている。
槽本体30が配置されている。この処理槽本体30内は
隔壁32によって仕切られており、現像槽34、定着槽
36、水洗槽38が順に形成されている。現像槽34の
深さは定着槽36及び水洗槽38の深さより若干深くな
っている。また定着槽36の深さは水洗槽38の深さと
同深さとされている。
現像槽34内には搬送ランク40が挿入配置され、定着
槽36、水洗槽38内には搬送ラック42が配置されて
いる。
槽36、水洗槽38内には搬送ラック42が配置されて
いる。
第1図に示されるように、搬送ランク40は一対の側板
(但し第1図には一方の側板のみ図示して、他方の側板
は省略した)44と、これらの側板44間に千鳥状に配
置され、回転可能に支持された複数本の搬送ローラ46
とを有し、側板の下方にはフィルム20を反転させるた
めのガイド48が配置されている。搬送ローラ46は、
図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転しフィル
ム20を搬送する。
(但し第1図には一方の側板のみ図示して、他方の側板
は省略した)44と、これらの側板44間に千鳥状に配
置され、回転可能に支持された複数本の搬送ローラ46
とを有し、側板の下方にはフィルム20を反転させるた
めのガイド48が配置されている。搬送ローラ46は、
図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転しフィル
ム20を搬送する。
この搬送ラック40は、現像槽34内へ挿入されたフィ
ルム20を底部へ下降搬送した後に反転し、現像槽34
の上部へ向けて上昇搬送して、現像槽34内から送り出
す。これにより、フィルム20は現像槽34内へ貯留さ
れた現像液で現像処理される。
ルム20を底部へ下降搬送した後に反転し、現像槽34
の上部へ向けて上昇搬送して、現像槽34内から送り出
す。これにより、フィルム20は現像槽34内へ貯留さ
れた現像液で現像処理される。
また一対の側板44や、この搬送ランク40を構成する
部品は防食のためにステンレ鋼で成形されている。さら
にこれらの側板44及び部材はステンレス鋼によって部
材として成形された後に電解研磨処理がなされている。
部品は防食のためにステンレ鋼で成形されている。さら
にこれらの側板44及び部材はステンレス鋼によって部
材として成形された後に電解研磨処理がなされている。
この電解研磨処理はステンレス鋼表面が有する微細な凹
凸とクロムプアー層及び不純物を除去し、不動体皮膜を
形成する処理である。これによって、処理液外に露出し
ている部材表面に腐食性因子が捕捉されにくくなり、腐
食を防止する。また、ステンレス鋼によって部材として
成形された後に不働体化処理を行ってステンレス鋼部材
の腐食を防止する。この不働体化処理はステンレス鋼の
表面に極めて薄い不溶性かつ絶縁性の薄膜(多くは酸化
物または水酸化物)を生成する処理である。部材に成形
された時にステンレス鋼表面に形成されている酸化皮膜
が一時的になくなり、その後空気酸化によって酸化皮膜
が形成されたとしても薄いので、不働体化処理処理を行
い、酸化皮膜を再生、強化し腐食を防止する。
凸とクロムプアー層及び不純物を除去し、不動体皮膜を
形成する処理である。これによって、処理液外に露出し
ている部材表面に腐食性因子が捕捉されにくくなり、腐
食を防止する。また、ステンレス鋼によって部材として
成形された後に不働体化処理を行ってステンレス鋼部材
の腐食を防止する。この不働体化処理はステンレス鋼の
表面に極めて薄い不溶性かつ絶縁性の薄膜(多くは酸化
物または水酸化物)を生成する処理である。部材に成形
された時にステンレス鋼表面に形成されている酸化皮膜
が一時的になくなり、その後空気酸化によって酸化皮膜
が形成されたとしても薄いので、不働体化処理処理を行
い、酸化皮膜を再生、強化し腐食を防止する。
なお電解研磨処理は硫酸、クロム酸、シニウ酸等が含有
されたリン酸浴中へ部材を浸漬し、部材を陽極として、
リン酸浴中へ陰極を配置し、これらの間に電流を流すこ
とによって陽極の溶解反応すなわち部材の表面の溶解反
応によってステンレス鋼部材の微細な凹凸とクロムプア
ー層及び不純物を除去する。また、不働体化処理は硝酸
と重クロム酸ナトリウムの混合液中にステンレス鋼部材
を所定時間浸漬し、酸化皮膜を再生強化する。
されたリン酸浴中へ部材を浸漬し、部材を陽極として、
リン酸浴中へ陰極を配置し、これらの間に電流を流すこ
とによって陽極の溶解反応すなわち部材の表面の溶解反
応によってステンレス鋼部材の微細な凹凸とクロムプア
ー層及び不純物を除去する。また、不働体化処理は硝酸
と重クロム酸ナトリウムの混合液中にステンレス鋼部材
を所定時間浸漬し、酸化皮膜を再生強化する。
また電解研磨をした後に不働体化処理しても良い。
搬送ラック42は一対の側板(但し第2図には一方の側
板のみ図示し、他方の側板は図示を省略した)50と、
これらの側板50間に上下に配置された2本のローラ5
2と、それらの下部に配置された大径のローラ54と、
これらのローラ52.54へ当接配置された小径のロー
ラ56とで構成されている。また側板50の下部にはフ
ィルム20を反転させるためのガイド58が配置されて
いる。ローラ52.54.56は図示しない駆動手段の
駆動力が伝達されてフィルムを20挟持搬送する。
板のみ図示し、他方の側板は図示を省略した)50と、
これらの側板50間に上下に配置された2本のローラ5
2と、それらの下部に配置された大径のローラ54と、
これらのローラ52.54へ当接配置された小径のロー
ラ56とで構成されている。また側板50の下部にはフ
ィルム20を反転させるためのガイド58が配置されて
いる。ローラ52.54.56は図示しない駆動手段の
駆動力が伝達されてフィルムを20挟持搬送する。
この搬送ラック42は定着槽36又は水洗槽38内へ送
り込まれたフィルム20を底部へ向けて下降搬送した後
に反転して上昇搬送し、定着槽36又は水洗槽38内か
ら送り出す。これにより定着槽34内を搬送されたフィ
ルム20は定着槽36内に貯留された定着液で定着処理
される。また水洗槽36内を搬送されたフィルム20は
水洗槽38内に貯留された水洗水で水洗される。
り込まれたフィルム20を底部へ向けて下降搬送した後
に反転して上昇搬送し、定着槽36又は水洗槽38内か
ら送り出す。これにより定着槽34内を搬送されたフィ
ルム20は定着槽36内に貯留された定着液で定着処理
される。また水洗槽36内を搬送されたフィルム20は
水洗槽38内に貯留された水洗水で水洗される。
また一対の側板50や、この搬送ラック42を構成する
部材は防食のためにステンレ鋼で成形されている。さら
にこれらの側板50及び部材はステンレス鋼によって部
材として成形された後に電解研磨処理がなされている。
部材は防食のためにステンレ鋼で成形されている。さら
にこれらの側板50及び部材はステンレス鋼によって部
材として成形された後に電解研磨処理がなされている。
この電解研磨処理はステンレス鋼の部材に電流を流すこ
とにって陽極の溶解反応すなわち部材の表面の溶解反応
によって部材な凹凸やクロムプアー層、不純物を除去す
る処理である。またステンレス鋼にって部材としてとし
て成形された後に不働体化処理を行ってステンレス鋼部
材の腐食を防止する。この不働体化処理は、部材に成形
された時にステンレス鋼表面に形成されている酸化皮膜
がなくなって一時的に下地が露出した部分の酸化皮膜を
再生、強化する。
とにって陽極の溶解反応すなわち部材の表面の溶解反応
によって部材な凹凸やクロムプアー層、不純物を除去す
る処理である。またステンレス鋼にって部材としてとし
て成形された後に不働体化処理を行ってステンレス鋼部
材の腐食を防止する。この不働体化処理は、部材に成形
された時にステンレス鋼表面に形成されている酸化皮膜
がなくなって一時的に下地が露出した部分の酸化皮膜を
再生、強化する。
この電解研磨処理及び不動態化処理としては、上記搬送
ランク40を構成する側板44及び搬送ランク40を構
成する部材に施された処理と同様な処理がな今れる。
ランク40を構成する側板44及び搬送ランク40を構
成する部材に施された処理と同様な処理がな今れる。
また現像槽36内には挿入口26側に搬送ローラ対60
が配置されている。この搬送ローラ対60間へは挿入口
26から挿入されたフィルム20が挿入され、現像槽3
4内へ向けて送り出す。
が配置されている。この搬送ローラ対60間へは挿入口
26から挿入されたフィルム20が挿入され、現像槽3
4内へ向けて送り出す。
さらに現像槽34と定着槽36との間には現像槽34内
から送り出されたフィルム24を下方へ向けて反転し、
定着槽36へ向けて案内する上部反転ガイド62が配置
されている。
から送り出されたフィルム24を下方へ向けて反転し、
定着槽36へ向けて案内する上部反転ガイド62が配置
されている。
また定着槽36と水洗槽38の間には定着槽36内から
送り出されたフィルム20を水洗槽38内へ反転すると
共に再水洗用のためのフィルムを挿入する機能を持つク
ロスオーバーラック68が配置されている。
送り出されたフィルム20を水洗槽38内へ反転すると
共に再水洗用のためのフィルムを挿入する機能を持つク
ロスオーバーラック68が配置されている。
第1図に示されるように、水洗槽38のフィルム20の
搬送方向下流側にはスクイズ部66が設けられ、さらに
その後流側には乾燥部68が配置されている。
搬送方向下流側にはスクイズ部66が設けられ、さらに
その後流側には乾燥部68が配置されている。
スクイズ部66にはスクイズラック70配置されている
。このスクイズラック70は一対の側板72 (但し第
2図には一方の側板のみ図示して、他方の側板は図示を
省略した)と、これらの側板72間に配置されて回転可
能に支持された搬送ローラ対74.76とを有する。こ
れらの搬送ローラ対74.76は図示しない駆動手段の
駆動力が伝達されて回転し、水洗槽38内から送り出さ
れたフィルム20を乾燥部68へ向けて挟持搬送する。
。このスクイズラック70は一対の側板72 (但し第
2図には一方の側板のみ図示して、他方の側板は図示を
省略した)と、これらの側板72間に配置されて回転可
能に支持された搬送ローラ対74.76とを有する。こ
れらの搬送ローラ対74.76は図示しない駆動手段の
駆動力が伝達されて回転し、水洗槽38内から送り出さ
れたフィルム20を乾燥部68へ向けて挟持搬送する。
これによってフィルム20に付着している水洗水を絞り
取る。
取る。
スクイズランク70には、搬送ローラ対74.76を覆
うように略し字状のカバー92が配置されている。この
カバー92はスクイズ部66の下流側と上流側とを遮断
している。これにより0後述する乾燥部68の温風が水
洗槽38、現像槽34、定着槽36の上部へ流入するの
を防止している。
うように略し字状のカバー92が配置されている。この
カバー92はスクイズ部66の下流側と上流側とを遮断
している。これにより0後述する乾燥部68の温風が水
洗槽38、現像槽34、定着槽36の上部へ流入するの
を防止している。
乾燥部68には、箱体形状の乾燥室78が配置されてい
る。この乾燥室78のスクイズ部66側にはフィルム挿
入ロア8Aが設けられており乾燥室78A内へフィルム
20が挿入される。さらにフィルムストッカ24側には
フィルム出ロア8Bが、設けられており、乾燥室78内
のフィルム20が送り出される。
る。この乾燥室78のスクイズ部66側にはフィルム挿
入ロア8Aが設けられており乾燥室78A内へフィルム
20が挿入される。さらにフィルムストッカ24側には
フィルム出ロア8Bが、設けられており、乾燥室78内
のフィルム20が送り出される。
また乾燥室78内には複数対の搬送ローラ対80が水平
方向に沿って配置されている。これらの搬送ローラ対8
0間にはフィルム20の搬送方向へ向かって接近する複
数対のガイド82が配置されている。
方向に沿って配置されている。これらの搬送ローラ対8
0間にはフィルム20の搬送方向へ向かって接近する複
数対のガイド82が配置されている。
複数対の搬送ローラ対80は、図示しない駆動手段の駆
動力が伝達されて回転し、フィルム20をフィルムスト
ッカ24へ向けて搬送する。
動力が伝達されて回転し、フィルム20をフィルムスト
ッカ24へ向けて搬送する。
乾燥室78の土壁、下壁には複数の温風吹き出し口84
が形成されている。この温風吹き出し口84は、乾燥室
78の周囲を覆うダクト86のダクト開口部86Aと乾
燥室78を連通している。
が形成されている。この温風吹き出し口84は、乾燥室
78の周囲を覆うダクト86のダクト開口部86Aと乾
燥室78を連通している。
ダク)86Aの他端側は図示しない空気取り入れ口が形
成されている。またダクトの途中にはファン88が配置
されている。さらにダクト86の中間部には図示しない
ヒータが配置されている。
成されている。またダクトの途中にはファン88が配置
されている。さらにダクト86の中間部には図示しない
ヒータが配置されている。
ファン880作動によって空気取り入れ口からダクト8
6内へ吸入された空気はヒータによって加熱されて温風
となり、ダクト開口IIg6Aを通過して、温風吹き出
し口84から乾燥室78内へ供給される。これにより搬
送ローラ対80によって搬送されながら、フィルム20
が乾燥される。
6内へ吸入された空気はヒータによって加熱されて温風
となり、ダクト開口IIg6Aを通過して、温風吹き出
し口84から乾燥室78内へ供給される。これにより搬
送ローラ対80によって搬送されながら、フィルム20
が乾燥される。
乾燥部68のフィルムストッカ24側には搬送ローラ対
90が配置されている。この搬送ローラ対90へは乾燥
室78内から送り出されたフィルム20が挿入される。
90が配置されている。この搬送ローラ対90へは乾燥
室78内から送り出されたフィルム20が挿入される。
挿入されたフィルムはフィルムストッカ24へ送り出さ
れる。
れる。
次に本実施例の作用について説明する。
挿入口26から内部に送り込まれたフィルム20は搬送
ローラ対60によって現像槽34内へ挿入され、搬送ラ
ンク40によって下降搬送された後に上昇搬送されて現
像槽34内から送り出される。これにより現像槽34内
の現像液に浸漬されて現像処理される。
ローラ対60によって現像槽34内へ挿入され、搬送ラ
ンク40によって下降搬送された後に上昇搬送されて現
像槽34内から送り出される。これにより現像槽34内
の現像液に浸漬されて現像処理される。
現像槽34内から送り出されたフィルム24は上部反転
ガイド66によって下方へ向けて反転されて定着槽36
内へ送り込まれる。
ガイド66によって下方へ向けて反転されて定着槽36
内へ送り込まれる。
定着槽36内へ送り込まれたフィルム20は搬送ラック
42によって下降搬送された後に上昇搬送されて定着槽
36内から送り出される。これにより定着槽36内の定
着液中へ浸漬されて定着処理される。
42によって下降搬送された後に上昇搬送されて定着槽
36内から送り出される。これにより定着槽36内の定
着液中へ浸漬されて定着処理される。
定着槽36から送り出されたフィルム20はクロスオー
バーラック64によって下方へ向けて反転されて水洗槽
内46内へ送り込まれる。水洗槽38内へ送り込まれた
フィルム20は搬送ラック42によって下降搬送された
後に反転されて上昇搬送され、スクイズ部66へ搬送さ
れる。
バーラック64によって下方へ向けて反転されて水洗槽
内46内へ送り込まれる。水洗槽38内へ送り込まれた
フィルム20は搬送ラック42によって下降搬送された
後に反転されて上昇搬送され、スクイズ部66へ搬送さ
れる。
スクイズ部66へ搬送されたフィルム20は水洗槽38
で付着した水分が絞り取られて、乾燥部68の乾燥室7
8内を水平に搬送される。この乾燥室78には温風が供
給されており、搬送ローラ対80によって水平に搬送さ
れながら上下の温風吹き出し口84より温風がフィルム
200表裏面へ吹き付けられて乾燥される。
で付着した水分が絞り取られて、乾燥部68の乾燥室7
8内を水平に搬送される。この乾燥室78には温風が供
給されており、搬送ローラ対80によって水平に搬送さ
れながら上下の温風吹き出し口84より温風がフィルム
200表裏面へ吹き付けられて乾燥される。
このとき、乾燥部68の温風はフィルム挿入ロア8Aか
ら乾燥室78の外方へ漏れるがカバー92によってスク
イズ部66に留められスクイズ部66より上流側へ流入
することがない。
ら乾燥室78の外方へ漏れるがカバー92によってスク
イズ部66に留められスクイズ部66より上流側へ流入
することがない。
乾燥部68で乾燥されて処理が終了したフィルム20は
フィルムストッカ24へ集積される。
フィルムストッカ24へ集積される。
上記した感光材料処理装置10内に配置されたステンレ
ス鋼で形成された部材は、部材成形後に電解研磨処理し
た後に不働体化処理をして部材の腐食が防止されている
。
ス鋼で形成された部材は、部材成形後に電解研磨処理し
た後に不働体化処理をして部材の腐食が防止されている
。
なお本実施例では感光材料としてフィルムについて説明
したがこれに限らず他の感光材料でも良い。
したがこれに限らず他の感光材料でも良い。
以上説明したように本発明では、ステンレス鋼で成形さ
れた部材を、部材成形後に電解研磨処理または不働体化
処理、または電解研磨処理した後に不働体化処理をする
ので、部材の腐食を防止することが出来るという優れた
効果が得られる。
れた部材を、部材成形後に電解研磨処理または不働体化
処理、または電解研磨処理した後に不働体化処理をする
ので、部材の腐食を防止することが出来るという優れた
効果が得られる。
第1図は本発明に係る感光材料処理装置の実施例を示す
側面図である。 10・・・感光材料処理装置、 20・・・フィルム、 34・・・現像槽、 36・・・定着槽、 38・・・水洗槽、 40.42・・・搬送ラック、 66・・・スクイズ部、 68・・・乾燥部。
側面図である。 10・・・感光材料処理装置、 20・・・フィルム、 34・・・現像槽、 36・・・定着槽、 38・・・水洗槽、 40.42・・・搬送ラック、 66・・・スクイズ部、 68・・・乾燥部。
Claims (3)
- (1)画像露光された感光材料を処理する感光材料処理
装置装置であって、成型後に表面を電解研磨処理された
ステンレス鋼により成る部材が組み込まれたことを特徴
とする感光材料処理装置。 - (2)画像露光された感光材料を処理する感光材料処理
装置であって、成形後に表面を不働体化処理されたステ
ンレス鋼よりなる部材が組み込まれたことを特徴とする
感光材料処理装置。 - (3)画像露光された感光材料を処理する感光材料処理
装置であって、成形後に表面を電解研磨処理されその後
不働体化処理されたステンレス鋼より成る部材が組み込
まれたことを特徴とする感光材料処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29365489A JPH03153247A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29365489A JPH03153247A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 感光材料処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03153247A true JPH03153247A (ja) | 1991-07-01 |
Family
ID=17797516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29365489A Pending JPH03153247A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03153247A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011111391A1 (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-15 | マルイ鍍金工業株式会社 | ステンレスの不動態化方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5318137B2 (ja) * | 1972-01-24 | 1978-06-13 | ||
| JPS5442938A (en) * | 1978-08-10 | 1979-04-05 | Hitachi Ltd | Directional difference arithmetic circuit |
| JPS61161364A (ja) * | 1985-01-08 | 1986-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 給湯機器 |
| JPS61180249A (ja) * | 1985-02-05 | 1986-08-12 | Canon Inc | 現像剤担持体の表面処理方法 |
-
1989
- 1989-11-10 JP JP29365489A patent/JPH03153247A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5318137B2 (ja) * | 1972-01-24 | 1978-06-13 | ||
| JPS5442938A (en) * | 1978-08-10 | 1979-04-05 | Hitachi Ltd | Directional difference arithmetic circuit |
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| JPS61180249A (ja) * | 1985-02-05 | 1986-08-12 | Canon Inc | 現像剤担持体の表面処理方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011111391A1 (ja) * | 2010-03-12 | 2011-09-15 | マルイ鍍金工業株式会社 | ステンレスの不動態化方法 |
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