JPH03155648A - ウエハーカセット - Google Patents
ウエハーカセットInfo
- Publication number
- JPH03155648A JPH03155648A JP1295534A JP29553489A JPH03155648A JP H03155648 A JPH03155648 A JP H03155648A JP 1295534 A JP1295534 A JP 1295534A JP 29553489 A JP29553489 A JP 29553489A JP H03155648 A JPH03155648 A JP H03155648A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- wafers
- cassette
- wafer cassette
- wafer holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 102
- 238000010410 dusting Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は、ウェハーカセットに関する。
[従来の技術]
従来、第3図及び第4図に示すように、ウェハーカセッ
トlのウェハー保持溝3は、ウェハー2が平面に対し垂
直に保持されるようになっている。
トlのウェハー保持溝3は、ウェハー2が平面に対し垂
直に保持されるようになっている。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、従来技術では、ウェハー保持溝3の厚さはウェ
ハー2の厚さより厚いため、ウェハー2を保持した場合
、第3図及び第4図に示すようにウェハー2はウェハー
保持溝3内でガタが生じ、ウェハー2が動いてしまう、
そのため、発塵の原因となる。
ハー2の厚さより厚いため、ウェハー2を保持した場合
、第3図及び第4図に示すようにウェハー2はウェハー
保持溝3内でガタが生じ、ウェハー2が動いてしまう、
そのため、発塵の原因となる。
また、ウニバー2をウェハーカセットlから違うウェハ
ーカセットまたはウェハーポートに移し替えを自動で行
なう場合、ウェハー2がウェハー保持溝3内のガタ分だ
け位置が決まらない。このためウェハー2の位置を決め
るために、機械的に第5図に示すようにウェハ−カセッ
ト1自体を傾斜治具4によって傾斜させ、ウェハー2を
一定方向に傾けることにより、ウェハー2のウェハー保
持溝3内での位置を決めなければならないという問題点
を有していた。
ーカセットまたはウェハーポートに移し替えを自動で行
なう場合、ウェハー2がウェハー保持溝3内のガタ分だ
け位置が決まらない。このためウェハー2の位置を決め
るために、機械的に第5図に示すようにウェハ−カセッ
ト1自体を傾斜治具4によって傾斜させ、ウェハー2を
一定方向に傾けることにより、ウェハー2のウェハー保
持溝3内での位置を決めなければならないという問題点
を有していた。
[課題を解決するための手段1
上記課題を解決するため、本発明のウェハーカセットは
、ウェハーを収納するウエハーカセットにおいて、前記
ウェハーが一定方向に傾くように前記ウェハーカセット
のウェハー保持溝が垂直面に対し斜めになっていること
を特徴とする。
、ウェハーを収納するウエハーカセットにおいて、前記
ウェハーが一定方向に傾くように前記ウェハーカセット
のウェハー保持溝が垂直面に対し斜めになっていること
を特徴とする。
[実 施 例]
以下に本発明の実施例を図面にもとすいて説明する。第
1図において、ウェハーカセットlのウェハー保持溝3
は、垂直面に対し斜めになっている。第2図に、ウェハ
ーカセットlの上面から見たウェハー保持溝3に対する
ウェハー2の位置を示す。ウェハー保持溝3が斜めにな
っていることにより、ウェハーカセットl中のウェハー
2は、自重によりウェハー保持溝3内のウェハー2のガ
タ分に関係なく、必ずウェハー保持溝3の傾斜している
方向に倒れる。こうすることにより、ウェハーカセット
1を搬送する場合、ウェハー2は、ウェハー保持溝3内
でウェハー保持溝3内のウェハー2のガタに関係なく、
一定方向に倒れるために、搬送中もウェハー2はウェハ
ーカセット1内で動かず、発塵を防止することができる
。
1図において、ウェハーカセットlのウェハー保持溝3
は、垂直面に対し斜めになっている。第2図に、ウェハ
ーカセットlの上面から見たウェハー保持溝3に対する
ウェハー2の位置を示す。ウェハー保持溝3が斜めにな
っていることにより、ウェハーカセットl中のウェハー
2は、自重によりウェハー保持溝3内のウェハー2のガ
タ分に関係なく、必ずウェハー保持溝3の傾斜している
方向に倒れる。こうすることにより、ウェハーカセット
1を搬送する場合、ウェハー2は、ウェハー保持溝3内
でウェハー保持溝3内のウェハー2のガタに関係なく、
一定方向に倒れるために、搬送中もウェハー2はウェハ
ーカセット1内で動かず、発塵を防止することができる
。
第6図は、ウェハーカセット2からウェハーポート6に
自動でウェハー移し替えを行なう場合の一実施例である
。ウェハーカセット1内のウェハー2は、吸着部5で真
空吸着により吸着される。
自動でウェハー移し替えを行なう場合の一実施例である
。ウェハーカセット1内のウェハー2は、吸着部5で真
空吸着により吸着される。
ウェハー2を吸着部5で吸着するとき、ウェハー2は、
ウェハー保持溝3内のウェハー2のガタに関係なく一定
方向に倒れているため、吸着ミスは発生しにくい、吸着
されたウェハー2は、ウェハーポート6上に搬送され移
し替えられる。
ウェハー保持溝3内のウェハー2のガタに関係なく一定
方向に倒れているため、吸着ミスは発生しにくい、吸着
されたウェハー2は、ウェハーポート6上に搬送され移
し替えられる。
[発明の効果]
以上述べたように、本発明のウェハーカセットは、ウェ
ハー保持溝を垂直面に対して斜めにすることにより、ウ
ェハー保持溝内でのウェハーのガタをなくすことができ
、発展を防止するという効果がある。また、ウェハーの
移し替えをする場合、ウェハー保持溝内でウェハーの位
置が決まるため、ウェハーカセット自体な治具などによ
り傾ける必要がないという効果がある。
ハー保持溝を垂直面に対して斜めにすることにより、ウ
ェハー保持溝内でのウェハーのガタをなくすことができ
、発展を防止するという効果がある。また、ウェハーの
移し替えをする場合、ウェハー保持溝内でウェハーの位
置が決まるため、ウェハーカセット自体な治具などによ
り傾ける必要がないという効果がある。
第1図は1本発明のウェハーカセットの横断面図。
第2図は、本発明のウェハーカセットの上面から見たウ
ェハーの位置を示した図。 第3図は、従来のウェハーカセットの横断面図。 第4図は、従来のウェハーカセットの上面から見たウェ
ハーの位置を示した図。 第5図は、従来のウェハーカセットのウェハーの位置決
め方法を示した図。 第6図は、本発明のウェハーカセットを用いてウェハー
移し替えを行う実施例を示した図。 第1図 第2図 ウェハーカセット ウェハー ウェハー保持溝 傾斜治具 吸着部 ウェハーポート ′I63図 !!4図 以 上 箒S図
ェハーの位置を示した図。 第3図は、従来のウェハーカセットの横断面図。 第4図は、従来のウェハーカセットの上面から見たウェ
ハーの位置を示した図。 第5図は、従来のウェハーカセットのウェハーの位置決
め方法を示した図。 第6図は、本発明のウェハーカセットを用いてウェハー
移し替えを行う実施例を示した図。 第1図 第2図 ウェハーカセット ウェハー ウェハー保持溝 傾斜治具 吸着部 ウェハーポート ′I63図 !!4図 以 上 箒S図
Claims (1)
- ウェハーを収納するウェハーカセットにおいて、前記ウ
ェハーが一定方向に傾くように、前記ウェハーカセット
のウェハー保持溝が垂直面に対し斜めになっていること
を特徴とするウェハーカセット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295534A JPH03155648A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | ウエハーカセット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1295534A JPH03155648A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | ウエハーカセット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03155648A true JPH03155648A (ja) | 1991-07-03 |
Family
ID=17821879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1295534A Pending JPH03155648A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | ウエハーカセット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03155648A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5861654A (en) * | 1995-11-28 | 1999-01-19 | Eastman Kodak Company | Image sensor assembly |
| JP2013008920A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハカセット |
| WO2013052520A1 (en) * | 2011-10-03 | 2013-04-11 | Denton Vacuum, L.L.C. | Semiconductor wafer treatment system |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP1295534A patent/JPH03155648A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5861654A (en) * | 1995-11-28 | 1999-01-19 | Eastman Kodak Company | Image sensor assembly |
| JP2013008920A (ja) * | 2011-06-27 | 2013-01-10 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハカセット |
| WO2013052520A1 (en) * | 2011-10-03 | 2013-04-11 | Denton Vacuum, L.L.C. | Semiconductor wafer treatment system |
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