JPH03156838A - 陰極線管フェースプレート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、テレビジョンの陰極線管フェースプレートの
内面と、前記陰極線管フェースプレートの内面に塗布さ
れた蛍光体層の間に設けられた、高屈折率材料と低屈折
率材料の交互の複数層からなる光学干渉フィルタを有す
る陰極線管フェースプレート、とりわけ蛍光体面に対向
配置された投写レンズを介して、前方の映像をスクリー
ンに拡大投影する投写型陰極線管のフェースプレートに
関するものである。

〔従来の技術〕

画像をスクリーン上に投写して大型画像表示を行う投写
型テレビジョンによる表示は、第５図（ａ）に示される
ように、各々、単一の青、緑、赤色を発光する３体の投
写型陰極線管５１からの光をレンズ５２で集光する光学
系が、青、緑、赤の各々の陰極線管についてあり、それ
ぞれの画像をスクリーン５３上に投写することにより行
われる。ここで用いられる投写型陰極線管５１には、第
５図（ｂ）で示されるように陰極線管フェースプレート
ｌの内面に蛍光体層８が塗布され、この蛍光体層８と陰
極線管フェースプレート１内面との間に、ショートバス
エツジフィルタなどの交互層からなる光学干渉フィルタ
７が設けられたものがある。かかる光学干渉フィルタと
しては、たとえば第６図に示されるように、蛍光体の発
光スペクトルの中心波長λより若干長い波長λ。をカッ
トオフ波長とする光学干渉フィルタが用いられ、このよ
うな光学干渉フィルタが設けられた陰極線管フェースプ
レートは特開昭６１−２７３８３７号に開示されている
。

〔発明が解決しようとする課題〕

陰極線管フェースプレートの内面に設けられる光学干渉
フィルタに必要な特性としては、本来の光学干渉フィル
タ特性のほかに、電子線が照射されて発光する蛍光体の
光を効率よく外部に取出せると同時に、蛍光体層の光学
干渉フィルタとの密着力が強く、蛍光体がピンホールの
ない状態で塗布されていることが必要である。蛍光体の
発光を効率よく外部に取出すには、照射される電子線に
よるブラウニング現象により、光学干渉フィルタが着色
しないことが必要である。

しかしながら、蛍光体層に接する層がＳｉｎ、である前
記開示された技術では、上記した電子線照射による着色
が生じるという問題点があることが分った０本発明の第
１の目的は、蛍光体層とフェースプレートの内面との間
に設けられた光学干渉フィルタが電子線ブラウニングに
より着色することなく、効率よく蛍光体の発光を外部に
取出せる陰極線管フェースプレートを提供することにあ
る。

一方、光学干渉フィルタの上に塗布される蛍光体層の密
着力を安定して確保し、ピンホールのない蛍光体塗布面
を確保するためには、塗布前に光学干渉フィルタの表面
を清浄にしておくことが不可欠であり、また前記干渉フ
ィルタを陰極線管フェースプレートに密着力を確保して
被覆するためには、被覆前に陰極線管フェースプレート
の表面を清浄にしておくことが不可欠である。しかしな
がら、蛍光体層に接する層がＳｉＯ□である前記の開示
された技術では、光学干渉フィルタを被覆前の陰極線管
フェースプレートの強力な洗浄液として用いられるフッ
酸を含む水溶液を、蛍光体の塗布前の光学干渉フィルタ
の表面の洗浄に用いると、光学干渉フィルタの一部が溶
解したり、剥離が生じてしまうという問題があった。一
方、中性洗剤あるいは塩酸などの鉱酸を含む水溶液によ
る洗浄では、表面の洗浄度が十分でなく、塗布した蛍光
体層の微小ピンホールを無くすることは困難であった。

本発明の第２の目的は、上記問題点を解決し、実用上微
小ピンホールが無い蛍光体層が被覆された陰極線管フェ
ースプレートを提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明にかかる陰極線管フェースプレートは、陰極線管
フェースプレートの表示窓の内面上に設けられた蛍光体
層と前記表示窓との間に、高屈折率材料の層と低屈折率
材料の層との交互層からなる光学干渉フィルタが設けら
れた陰極線管フェースプレートであって、前記光学干渉
フィルタの蛍光体層と接する層が、１０ｒ＋ｍ以上の物
理的膜厚を有するＡ　１２０＊またはＺｒＯ２の層であ
る陰極線管フェースプレートである。

蛍光体層に接して設けられるＡ　１．０．またはＺｒＯ
□Ｏ層は、その物理的膜厚がｌＯｒ＋ｍ以下であると不
連続な膜となり、ＡＮ、０．またはＺｒ（ｈの層の両側
に接して設けられた蛍光体層と光学干渉フィルタの層を
隔絶させることができなくなる。したがってＡ／、０．
またはＺｒＯ２の膜の物理的膜厚は、１０＊ｍ以上が必
要である。

さらに物理的膜厚が１０＊ｍ以下であると、最もゆるや
かなフン酸洗浄であるところの、たとえば温度２０℃、
１〜２％のフッ酸をノズルより吹き付ける洗浄により、
光学干渉フィルタの一部あるいはすべてが溶解あるいは
剥離してしまう。したがって、Ａｆｔ（ｈまたはＺｒＯ
，の層は、フン酸洗浄により光学干渉フィルタを劣化さ
せないということから、１０＊ｍ以上の物理的厚みが必
要である。

一方、Ａ　１２０＋またはＺｒＯ２の層の厚みは、光学
干渉フィルタの耐電子線ブラウニング性を高め、また周
期交互層をフッ酸洗浄から保護するという観点からは、
大きいほうが好ましいが１０μｍ以上の膜厚になると、
光学干渉フィルタの製作時の経済性が低下するので、物
理的膜厚は１０μｍ以下が好ましい。そして最も好まし
くは、光学干渉フィルタの光学特性と製作の作業性を考
慮すると、はぼ０．５λの１０倍を越えない整数倍の膜
厚とし、これにフッ酸洗浄により目減りする膜の厚みを
あらかじめ考慮して、ＡＡ、０．またはＺｒＯ□の膜の
厚みが決められる。

本発明にかかる他の陰極線管フェースプレートは、陰極
線管フェースプレートの表示窓の内面上に設けられた蛍
光体層と前記表示窓との間に、高屈折率材料の層と低屈
折率材料の層との交互層からなる光学干渉フィルタが設
けられた陰極線管フェースプレートであって、前記光学
干渉フィルタが、前記蛍光体の発光スペクトルの中心波
長λより大きいカットオフ波長λ。のほぼ０．２５倍の
光学膜厚を有し、かつ蛍光体に最も近い層が低屈折率材
料の層である少なくとも３Ｎからなる周期交互層と、前
記周期交互層と前記蛍光体層との間に設けられた１０＊
ｍ以上の物理的膜厚を有するＡ　１２　ｚ（ｈまたはＺ
ｒＯ□の層と、前記ＡＪ、Ｏ，又はＺｒ０ｚの層と、前
記周期交互層との間に設けられたほぼ０．２５λ＋０．
１２５λ。の高屈折率材料の層と、前記周期交互層と前
記表示窓の内面との間に設けられた、はぼ０．２５λ＋
０．１２５λ。の光学膜厚の前記高屈折率材料の層から
なる陰極線管フェースプレートである。

光学膜厚がカットオフ波長λ。のほぼ０．２５倍である
高屈折率材料の層、および低屈折率材料の層をそれぞれ
Ｈ，Ｌとし、光学膜厚が蛍光体の発光スペクトルの波長
λのほぼ０．２５倍の高屈折率材料の層をＨ／、膜厚が
１０＊ｍより厚い＾１２０３またはＺｒＯ□の層をＬ′
で表すと本発明にかかる光学干渉フィルタが蛍光体層と
接着された状態は（１１式で表すことができる。

蛍光体層／Ｌ　’　Ｈ’　０１／２）　（ＬＨ）ｋ　Ｌ
（Ｈ／２）Ｈ’　／表示窓内面　　　　　　　　　　　
（１）ここでｋは、ＬとＨの一対の層の繰り返しを表す
正の整数である。

本発明にかかる光学干渉フィルタの周期交互層の数は、
ｋが１以上１５以下が好ましい。ｋが１より小さい、す
なわち周期交互層の層数が３より小さいと、力７トオフ
波長λ。における透過率の遮断特性が敏鋭でなくなり、
蛍光体から出射される光の角度に対する遮断特性が劣化
し１．さらに反射帯域の透過率が高くなる。またｋが１
５より大きい、すなわち周期交互層が３１層より大きい
と、光学干渉フィルタの光のカットオフ特性や透過帯の
透過率、リップルなどの特性は良化するが、光学干渉フ
ィルタの製作に多大の時間を要するようになり、かつ、
より精度の高い膜厚および膜の屈折率の制御を必要とす
るので、光学干渉フィルタの製作の再現性が低下する。

したがって、本発明にかかる光学干渉フィルタのカット
オフ波長λ。

に０．２５倍の光学膜厚を有する周期交互層の層数は、
３〜３１層が好ましく、９層〜２５Ｊｉが最も好ましい
。

発光スペクトルの中心波長λと周期交互層の設計基準と
なるカットオフ波長λ。の関係は、λ。

は１．０５λより大きく、１．５０λより小さいことが
好ましく、さらにはλ。は１．１０λより大きく１．３
５λより小さいことが最も好ましい。λ。が１．０５よ
り小さいと、カットオフ波長が蛍光体の発光スペクトル
の中心波長から広がるスペクトル帯内にいり込み、出射
光量を減じる恐れが生じる。

一方λ。が１．５０λより大きくなると、透過帯のリッ
プルの大きい領域が発光スペクトルの中心波長に接近し
、大きい出射角度で蛍光体からでる光の遮断が不十分と
なる。さらに、光学干渉フィルタの各層の厚みが増える
ので生産性の観点からも好ましくない。

Ａｌ、Ｏ，またはＺｒＯ，の層と周期交互層との間に設
けられる高屈折率材料からなる層の厚みは、はぼ０．２
５λ＋０．１２５λ。に設定される。また本発明にかか
る周期交互層と陰極線管フェースプレートの内面との間
に設けられる高屈折率材料の層の厚みについても、はぼ
０．２５λ＋０．１２５λ。

に設定される。この膜の厚みが０．２５λ＋０．１２５
λ。より大きくずれると光学干渉フィルタの透過帯が低
下し、出射する光量が減する。

また本発明にかかる光学干渉フィルタの高屈折率材料と
して使用できるものは、可視域での屈折率が１．８以上
の膜になる材料であればと（に限定されないが、Ｔｉ０
ｚ　、　Ｔａｚ０５　、　Ｚｒ０ｚ　、　Ｈｆ０ｚ　＋
５ｎＯｚ　＋　ＰｒＴｉ０ｉ　＋ＩｎｚＯｓ　＋　Ｚｎ
Ｏからなる群から選ばれた１つまたは少なくとも２つ以
上の混合物からなるものが好ましく、さらにはＴｔＯｚ
が最も好ましい。低屈折率材料として使用できるものは
、ＳｔＯ□、Ａｆ□０３　、　ＭｇＦｔが好んで用いら
れる。

本発明にかかる他の陰極線管フェースプレートは、陰極
線管フェースプレートの表示窓の内面上に設けられた蛍
光体層と該表示窓との間に、高屈折率材料の層と低屈折
率材料の層との交互層からなる光学干渉フィルタが設け
られた陰極線管フェースプレートであって、前記光学干
渉フィルタが、０．２λ。〜０．３λ０　（ここで、カ
ットオフ波長λ。はλ。−ｐ×λで、λは蛍光体の発光
スペクトルの中心波長、ｐは１．１８と１．３２の間の
値）の光学膜厚を有し、かつ蛍光体に最も近い層が高屈
折率材料の層である少なくとも３層からなる周期交互層
と、前記周期交互層と前記蛍光体層との間に設けられた
、０．１λ。〜０．１５λ。の光学膜厚を有する低屈折
率材料の層と、前記低屈折率材料の層と前記蛍光体層と
の間に設けられた、１０ｎ−以上の物理的膜厚を有する
Ａ　Ｉ！　ｔｏｓまたはＺｒＯｚの層とからなる陰極線
管フェースプレートである。

光学膜厚がカットオフ波長λ。のほぼ０．２５倍である
高屈折率材料の層および低屈折率材料の層をそれぞれ、
Ｈ，Ｌとし、物理的膜厚が１０ｎｍ以上のＡ　Ｉ　、Ｏ
，またはＺｒＯ□Ｏ層をＬ′で表すと、本発明にかかる
光学干渉フィルタが蛍光体層と接着された状態は（２）
式で表すことができる。

蛍光体層／Ｌ　’　（Ｌ／２）Ｈ（ＬＨ）ｘ　’　／表
示窓内面　（２）ここでに′は、ＬとＨの一対の層の繰
り返しを表す正の整数である。

本発明にかかる光学干渉フィルタの周期交互層の数は、
（２）式の繰り返しを表わす整数に′で、ｋ′が１以上
１５以下が好ましい。ｋ′が１より小さい、すなわち周
期交互層の層数が３より小さいと、カットオフ波長λ０
における透過率の遮断特性が敏鋭でな（なり、蛍光体か
ら出射される光の角度に対する遮断特性が劣化し、さら
に反射帯域の透過率が高くなる。またに′が１５より大
きい、すなわち周期交互層が３１層より大きいと、光学
干渉フィルタの光のカットオフ特性や透過帯の透過率、
リップルなどの特性は良化するが、光学干渉フィルタの
製作に多大の時間を要するようになり、かつ、より精度
の高い膜厚および膜の屈折率の制御を必要とするので、
光学干渉フィルタの製作の再現性が低下する。したがっ
て、本発明にかかる光学干渉フィルタのカットオフ波長
λ。の０．２５倍の光学膜厚を有する周期交互層の層数
は、３〜３１層が好ましく、９層〜２５層が最も好まし
い。

発光スペクトルの中心波長λと周期交互層の設計基準と
なるカットオフ波長λ。の関係は、Ａ０は１．１８λよ
り大きく、１．３２λより小さいことが好ましく、さら
にはλ。は１．１８λより大きく１．２５λより小さい
ことが最も好ましい。λ。が１．１日より小さいと、カ
ットオフ波長が蛍光体の発光スペクトルの中心波長から
広がるスペクトル帯内にいり込み、出射光量を減じる恐
れが生じる。

一方λ。が１．３２λより大き（なると、透過帯のリッ
プルの大きい領域が発光スペクトルの中心波長に接近し
、また大きい出射角度で蛍光体からでる光の遮断が不十
分となる。さらに、光学干渉フィルタの各層の厚みが増
えるので、生産性の観点からも好ましくない。

＾１ｚＯ１またはＺｒＯ，の層と周期交互層との間に設
けられる低屈折率材料からなる層の光学膜厚は、設計波
長λ。の１／８（設計波長λ。の１／４波長の半分で、
（２）式でＬ／２で表わされる。）を中央値とする０、
　１λ。〜０．１５λ。の範囲内に設定される。

光学膜厚が０．１λ。より小さいかあるいは０．１５λ
０より大きいと、光学干渉フィルタの光学特性、とりわ
け透過帯の通過率を低下させるので好ましくない。最も
好ましくは、はぼ設計波長λ。の１／８に設定される。

また本発明にかかる光学干渉フィルタの高屈折率材料と
して使用できるものは、可視域での屈折率が１．８以上
の膜になる材料であればとくに限定されないが、ＴｔＯ
，ｌ　Ｔａｘｅｓ　ｌ　Ｚｒ０ｚ　ｌ　Ｈｆ０ｚ　ｒＳ
ｎｕｇ　ｌ　ＰｒＴｉＯｓ　＋ＩｎｚＯｓ　ｌ　ＺｎＯ
からなる群から選ばれた１つまたは少なくとも２つ以上
の混合物からなるものが好ましく、さらにはＴｉ０ｚが
最も好ましい。低屈折率材料として使用できるものは、
５１０ｚ　ｒ　Ａ１１ｙ’ｓ　＊　ＦＩｇＦｚが好んで
用いられる０本発明にかかるいずれの光学干渉フィルタ
についても、１／４波長の光学膜厚を制御する、通常の
光学モニタを備えた真空蒸着装置で、加熱された陰極線
管フェースプレートの内面にエレクトロンビーム加熱方
式により、上記した材料を被覆させる真空蒸着法により
製作することができる。

〔作用〕

本発明にかかる光学干渉フィルタの蛍光体層と接するＡ
　ｆｉ　、０．またはＺｒＯ□の層は、蛍光体層を通過
して光学干渉フィルタに達する電子線により、光学干渉
フィルタがブラウニング現象を呈し着色するのを防止す
る。さらに八１２０．またはＺｒＯ。

の層は蛍光体を塗布する前のフン酸を含む水溶液による
洗浄に際して、フン酸が光学干渉フィルタの内部に滲透
するのを防ぐとともに、光学干渉フィルタの光学特性を
変えない程度に、表面層がわずかにエツチングされるこ
とにより清浄な表面になるので、蛍光体と強く接着する
。また、周期交互層は、光の干渉作用により光の波長に
対する選択透過性を与えるとともに、発光体からの出射
光に指向性を与える。この交互層の創外側に設けられる
高屈折率材料からなる層は、透過帯域のリップルを少な
くする。

〔実施例〕

以下に実施例に基づいて説明する。第１図は、本発明の
陰極線管フェースプレートの光学干渉フィルタの構成を
説明するための部分断面図で、１は陰極線管フェースプ
レート、２は光学膜厚が０．１λ。〜０．１５λ。の低
屈折率材料からなる層、３は光学膜厚が０．２λ。〜０
．３λ０の高屈折率材料からなる層、４は光学膜厚が０
．２λ。〜０．３λ。

の低屈折率材料からなる層、５はＡ　Ｉ　、Ｏ，または
ＺｒＯ，の層、６は周期交互層、７は光学干渉フィルタ
、８は蛍光体層であ名。第２図は本発明の他の陰極線管
フェースプレートの光学干渉フィルタの構成を説明する
ための部分断面図で、ｌは陰極線管フェースプレート、
２２は光学膜厚がほぼ０．２５λ＋０．１２５λ。の高
屈折率材料からなる層、２３は光学膜厚が０．２５λ０
の低屈折率材料がらなる層、２４は光学膜厚が０．２５
λ０の高屈折率材料からなる層、５はＡ　１２０３また
はＺｒＯ□の層、６は周期交互層、７は光学干渉フィル
タ、８は蛍光体層である。

実施例１゜ 真空蒸着装置に、対角方向の長さがツイフチの投写型陰
極線管のフェースプレートを、厚み１．１ａｍ、直径３
０ｆｌのガラス板とともに回転治具にセットし、３００
℃に加熱しながら、真空槽内を６、７　Ｘ　１０−’Ｐ
ａの圧力に真空排気した。電子ビーム加熱用の相異なる
水冷るつぼに、粒状のＳｉＯ□。

Ａ　ｌ　ｚ（ｈおよびＴｉＯ□ペレットを充填し、外部
からガス導入バルブを調節して真空槽内に酸素を導入し
、一定の酸素分圧下で蒸着した。Ｔｉｅ、膜の被覆に際
しては４．　ＯＸ　１０−”Ｐａに、Ａ　ｊ２．０．の
被覆に際しては、１．３　Ｘ　１０”ｚＰａの酸素分圧
になるように調節し、第１表に示す緑色の蛍光体用の膜
構成のサンプルを得た。Ａｌ２Ｏ３膜の被覆には５４４
ｎｍの波長の単色光を用いた光学モニタで１７２波長の
膜厚に加え水晶振動子により２０ｎｍの膜厚を、ＳｉＯ
□およびＴｉＯ２の被覆にはそれぞれ６８８ｎｍおよび
６４４ｎｍの波長の単色光を用いた光学モニタで、膜厚
制御を行なった。

第 表 得られた陰極線管フェースプレートを、温度２０°Ｃ、
フッ酸５％水溶液を２０秒間、ノズルより噴射させて洗
浄後、水洗いを十分に行ったときの光学干渉フィルタの
状態を調べた結果を第８表に示す。第８表に示すように
光学干渉フィルタには異常は認められなかった。また、
このサンプルの光学干渉フィルタ上に緑色の蛍光体を水
ガラスで接着させ、ピンホールが実用上無い蛍光体塗布
面が得られた。さらにこの陰極線管フェースプレートを
用いた投写管により、指向性が良く明るい投写像が得ら
れた。また電子線ブラウニングテストの結果を第９表に
示すように、光学干渉フィルタには着色は認められなか
った。第３図の破線で光学干渉フィルタを被覆したガラ
ス板の光学特性を示す。

実施例２゜ 実施例１と、Ａｌ２Ｏ，の代りにＺｒＯ□を用いたほか
は同じようにして、第２表に示す膜構成の緑色の蛍光体
用の光学干渉フィルタを、対角の長さがツイフチの投写
型陰極線管フェースプレートの内面および直径３０ｍｍ
のガラス仮に被覆した。得られた陰極線管フェースプレ
ートのサンプルを、温度２０℃の５％フッ酸水溶液を２
０秒間、ノズルより噴射させて洗浄後、水洗いを十分に
行ったときの光学干渉フィルタの状態を調べた。結果を
第８表に示す。第８表に示すように、本発明にかかる光
学干渉フィルタには異常は認められなかった。

またこのサンプルの光学干渉フィルタ上に蛍光体を水ガ
ラスで接着させて、ピンホールが実用上無い緑色の蛍光
体塗布面が得られた。さらにこの陰極線管フェースプレ
ートを用いた投写管を製作して、指向性が良く明るい映
像が得られた。また電子線ブラウニングテストの結果を
第９表に示すように、光学干渉フィルタには着色は認め
られなかった。光学干渉フィルタを被覆したガラス板の
分光透過率を測定して、第３図の一点鎖線に示すような
、実施例１とほぼ同じ透過帯域での透過率が高く、波長
のカットオフ特性が良好な特性が得られた。

第 表 ツイフチの投写型陰極線管フェースプレートの内面およ
び直径３０鶴のガラス板に被覆した。

第 表 実施例３゜ 実施例１と、５ｉＯ１の代りにＡ　ｌ　、０．Ｉを用い
たほかは同じようにして、第３表に示す膜構成の緑色の
蛍光体用の光学干渉フィルタを、対角の長さが得られた
陰極線管フェースプレートを、温度２０℃、フッ酸５％
水溶液を２０秒間、ノズルより噴射させて洗浄後、水洗
いを十分に行ったときの光学干渉フィルタの状態を調べ
た結果を第８表に示す。第８表に示すように光学干渉フ
ィルタには異常は認められなかった。また、このサンプ
ルの光学干渉フィルタ上に緑色の蛍光体を水ガラスで接
着させ、ピンホールが実用上無い蛍光体塗布面が得られ
た。さらにこの陰極線管フェースプレートを用いた投写
管により、指向性が良く明るい投写像が得られた。また
電子線ブラウニングテストの結果を第９表に示すように
、光学干渉フィルタには着色は認められなかった。第３
図の実線で、光学干渉フィルタを被覆したガラス板の光
学特性を示す。

実施例４゜ 真空蒸着装置に、対角方向の長さがツイフチの投写型陰
極線管フェースプレートと直径３０菖１のガラス板を回
転治具にセットし、３００℃に加熱しながら、真空槽内
を６．７　Ｘ　１０−’Ｐａの圧力に真空排気した。電
子ビーム加熱用の相異なる氷冷るつぼに、粒状の５ｉｆ
ｔ　、　Ａｌ２Ｏ２、およびＴｉ（ｈベレットを充填し
、外部からガス導入バルブを調節して真空槽内に酸素を
導入し、一定の酸素分圧−下で蒸着した。ＴｉＯ□膜の
被覆に際しては、４．０×１０−”Ｐａに、ＡｆＺＯ３
の被覆に際しては、１．３×１０−”Ｐａの酸素分圧に
なるように調節し、第４表に示す膜構成の緑色の蛍光体
用のサンプルを得た。

Ａ　１２０３層の被覆には５４４層ｍの波長の単色光を
用いた光学モニタで、１／２波長の膜厚を被覆し、さら
に水晶振動子により２０鶴ｍの膜を被覆した。

光学膜厚が１６５層ｍのＳｉＯ□およびＴｉ１ｔの層の
被覆には、６６０層ｍの波長の単色光を用いた光学モニ
タで、光学膜厚が　２１８．５ｎｍのＴｉＯ２の層の被
覆には５４４層ｍの波長の単色光を用いた光学モニタで
膜厚制御をおこなった。

得られた陰極線管フェースプレートのサンプルに、温度
２０℃のフッ酸５％水溶液を２０秒間、ノズルより噴射
させて洗浄後、水洗いを十分に行なったときの光学干渉
フィルタの状態を調べた結果を第８表に示す。第８表に
示すように光学干渉フィルタには異常はみられなかった
。また、このサンプルの光学フィルタ上に蛍光体を水ガ
ラスで接着したところ、ピンホールが実用上無い蛍光体
塗布面が得られた。さらに、この陰極線管フェースプレ
ートを用いた投写管は、高い輝度と良好な投写光の指光
性を示した。

第　　　４　　　表 また電子線ブラウニングテストの結果を第９表に示すよ
うに、光学干渉フィルタには着色は認められなかった。

ガラス板に被覆した光学干渉フィルタの分光透過特性を
第４図の破線で示した。

実施例５゜ 実施例４と、Ａ　Ｉ！２０３の代りにＺｒＯ，を用いた
ほかは同じようにして、第５表に示す膜構成の緑色の蛍
光体用の光学干渉フィルタを、対角の長さがフインチの
投写型陰極線管のフェースプレートの内面と直径３０龍
のガラス板に被覆した。得られた陰極線管フェースプレ
ートのサンプルを、温度２０℃のフッ酸５％水溶液を２
０秒間、ノズルより噴射させ洗浄後、水洗いを十分に行
ったときの光学干渉フィルタの状態を調べた。結果を第
８表に示す。第８表に示すように、光学干渉フィルタに
はピンホールや剥離の異常は認められなかった。

さらに、このサンプルの光学干渉フィルタ上に蛍光体を
水ガラスで接着させて、ピンホールが実用上無い蛍光体
塗布面が得られた。さらにこの陰極線管フェースプレー
トを用いた投写管は、高い輝度と良好な投写光の指向性
を示した。また電子線ブラウニングテストの結果を第９
表に示すように、光学干渉フィルタには着色は認められ
なかった。

第 表 また、ガラス板に被覆した光学干渉フィルタの分光透過
特性を第４図の一点鎖線で示した。

実施例６゜ 実施例４とは、Ｓｉｎ、の代りにＡ　ｌ　２０．を用い
たほかは同じようにして、第６表に示す膜構成の緑色の
蛍光体用の光学干渉フィルタを、対角の長さがフインチ
の投写型陰極線管のフェースプレートの内面と直径３０
ｍｍのガラス板に被覆した。得られた陰極線管フェース
プレートのサンプルに、温度２０℃のフッ酸５％水溶液
を２０秒間、ノズルより噴射させ洗浄後、水洗いを十分
に行ったときの光学干渉フィルタの状態を調べた。結果
を第８表に示す。第８表に示すように、光学干渉フィル
タにはピンホールや剥離の異常は認められなかった。さ
らにこのサンプルの光学干渉フィルタ上に蛍光体を、水
ガラスで接着させて、ピンホールが実用上無い蛍光体塗
布面が得られた。さらにこの陰極線管フェースプレート
を用いた投写管は、高い輝度と良好な投写光の指向性を
示した。また電子線ブラウニングテストの結果を第９表
に示すように、光学干渉フィルタには着色は認められな
かった。

第 表 実施例７ 実施例１で用いた真空蒸着装置の底部に設置した蒸着用
の電子銃の近傍に、カウフマン型のイオン銃を設置し、
外部から制御された流量のガスをこのイオン銃内に供給
し、イオン銃内で発生したガスイオンを加速して膜を被
覆中のフェースプレートに照射できるようにした。実施
例１とは、ＴｉＯ□膜、Ａ　１　ｚＯｘ膜、ＳｉＯ□膜
を被覆するときにイオン銃内にｌ０５ＣＣＨの酸素を導
入し、発生した酸素イオンをイオンエネルギー１０００
ｅＶ、イオン電流密度１００μＡ／ｃｎ！でフェースプ
レートの表面に照射した以外は全く同じようにして、第
１表に示す膜構成の緑色の蛍光体用の光学干渉フィルタ
を、対角の長さがツイフチの投写型陰極線管フェースプ
レートの内面、および直径３０ｆｉのガラス板に被覆し
た。得られた陰極線管フェースプレートのサンプルを、
温度２０℃の５％フフ酸水溶液を２０秒間、ノズルより
噴射させて洗浄後、水洗いを十分に行ったときの光学干
渉フィルタの状態を調べた。結果を第８表に示す。第８
表に示すよ、うに、本発明にかかる光学干渉フィルタに
は異常は認められなかった。またこのサンプルの光学干
渉フィルタ上に蛍光体を水ガラスで接着させて、ピンホ
ールが実用上無い緑色の蛍光体塗布面が得られた。

さらにこの陰極線管フェースプレートを用いた投写管を
製作して、指向性が良く明るい映像が得られた。また電
子線ブラウニングテストの結果を第９表に示すように、
光学干渉フィルタには着色は認められなかった。光学干
渉フィルタを被覆したガラス板の分光透過率を測定して
、第３図の一点鎖線に示すような、実施例１とほぼ同じ
透過帯域での透過率が高く、波長のカットオフ特性が良
好な特性が得られた。

第 第 表 表 また、ガラス板に被覆した光学干渉フィルタの分光透過
特性を第４図の実線で示した。

〔比較例〕

実施例１と同じ真空蒸着装置に、対角の長さがフインチ
の投写型陰極線管のフェースプレートを回転治具にセッ
トし、３００℃に加熱しながら、真空槽内を６．７　Ｘ
　１０−’Ｐａの圧力に真空排気し、５ｉＯｚ膜の被覆
に際しては１．３　Ｘ　１０−”Ｐａに、ＴｉＯ２膜の
被覆に際しては、４．　ＯＸ　１０−”Ｐａの酸素分圧
で蒸着し、第７表に示す膜構成の緑色の蛍光体用の光学
干渉フィルタを被覆した。得られたサンプルを、温度２
０℃の５％フン酸水溶液を２０秒間ノズルより噴射させ
て洗浄後、水洗いを行ったところ、第８表に示すように
光学干渉フィルタの膜ベリがみられ、また一部分につい
て膜の剥離が認められた。第９表に電子線ブラウニング
テストの結果を示す。光学干渉フィルタは電子線が照射
された部分が黄色を呈していた。

第 表 蛍光体が青色（発光の中心波長がたとえば４５０ｎｍ）
の場合は、カットオフ波長をたとえば５４０ｎｍ、蛍光
体が赤色（発光の中心波長がたとえば６１２ｎｍ）であ
る場合は、カットオフ波長をたとえば？４０ｎｍとする
ことにより、光学干渉フィルタのフッ酸洗浄が可能で、
蛍光体と光学干渉フィルタとの密着性が良好で、ピンホ
ールが実用上無い青色および赤色の陰極線管フェースプ
レートを得ることができる。

（発明の効果〕 本発明の陰極線管フェースプレートにかかる光学干渉フ
ィルタは、照射される電子線によるブラウニング現象を
生ずることがないので、投写型テレビジョンの投写管と
して用いることにより明るい映像を投写することができ
る。また光学干渉フィルタは、蛍光体層との密着性が良
いため、微小ピンホールが実用上皆無で、また時間の経
過とともにピンホールの数や大きさが成長することがな
いので、欠陥のない映像を信頼性良く得ることができる
。また本発明の陰極線管フェースプレートの製作にあた
っては、陰極線管フェースプレート自体の洗浄と光学干
渉フィルタの表面の洗浄とを同じ洗浄液で実施できるの
で、作業性が良い。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明の陰極線管フェースプレ
ートにかかる光学干渉フィルタの構成を模式的に示す部
分断面図、第３図および第４図は本発明の陰極線管フェ
ースプレートにかかる光学干渉フィルタの実施例の分光
特性を示す図、第５図（ａｌは映像が投写型テレビジョ
ンにより投写されている状態を示す図、第５図（ｂ）は
光学干渉フィルタおよび蛍光体が陰極線管フェースプレ
ートに設けられている状態を示す図、第６図は、光学干
渉フィルタのカットオフ波長λ。と蛍光体の発光スペク
トルの中心波長λ。との関係を示す図である。 １・・・陰極線管フェースプレート、２・・・光学膜厚
が０．１！ｏ〜０．１５λ。の低屈折率材料からなる層
、３・・・光学膜厚が０．２λ。〜０．３λ０の高屈折
率材料からなる層、４・・・光学膜厚が０．２λ。〜０
．３λ。の低屈折率材料からなる層、５・・・Ａ　Ｎ　
２０゜またはＺｒ島の層、６・・・周期交互層、７・・
・光学干渉フィルタ、８・・・蛍光体層、２２・・・光
学膜厚がほぼ０．２５λ十〇、　ｌ　２５λ。である高
屈折率材料からなる層、２３・・・光学膜厚がほぼ０．
２５λ０である低屈折率材料からなる層、２４・・・光
学膜厚がほぼ０．２５　λ。 である高屈折率材料からなる層、 ・・・陰極線管、 ２・・・レンズ、 ３・・・スクリーン。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）陰極線管フェースプレートの表示窓の内面上に設け
   られた蛍光体層と前記表示窓との間に、高屈折率材料の
   層と低屈折率材料の層との交互層からなる光学干渉フィ
   ルタが設けられた陰極線管フェースプレートにおいて、
   前記光学干渉フィルタの蛍光体層と接する層が１０ｎｍ
   以上の物理的膜厚を有するＡｌ＿２Ｏ＿３またはＺｒＯ
   ＿２の層を有する陰極線管フェースプレート ２）前記光学干渉フィルタが ａ）０．２λ＿０〜０．３λ＿０（ここで、カットオフ
   波長λ＿０はλ＿０＝ｐ×λで、λは蛍光体の発光スペ
   クトルの中心波長、ｐは１．１８と１．３２の間の値）
   の光学膜厚を有し、かつ、蛍光体層に最も近い層が高屈
   折率材料の層である少なくとも３層からなる周期交互層
   と、 ｂ）前記周期交互層と前記蛍光体層との間に設けられた
   、０．１λ＿０〜０．１５λ＿０の光学膜厚を有する低
   屈折率材料の層と、 ｃ）前記低屈折率材料の層と前記蛍光体層との間に設け
   られた、Ａｌ＿２Ｏ＿３またはＺｒＯ＿２の層とからな
   る特許請求範囲第１項記載の陰極線管フェースプレート ３）前記光学干渉フィルタが ａ）前記蛍光体の発光スペクトルの中心波長λより大き
   いカットオフ波長λ＿０（ここで、カットオフ波長λ＿
   ０はλ＿０＝ｐ×λで、λは蛍光体の発光スペクトルの
   中心波長、ｐは１．０５と１．５０の間の値）の光学膜
   厚を有し、かつ、蛍光体層に最も近い層が低屈折率材料
   の層である少なくとも３層からなる周期交互層と、ｂ）
   前記周期交互層と前記蛍光体層との間に設けられたＡｌ
   ＿２Ｏ＿３またはＺｒＯ＿２の層と、ｃ）前記Ａｌ＿２
   Ｏ＿３またはＺｒＯ＿２の層と、前記周期交互層との間
   に設けられたほぼ０．２５λ＋０．１２５λ＿０の高屈
   折率材料の層と、 ｄ）前記周期交互層と前記表示窓の内面との間に設けら
   れた、ほぼ０．２５λ＋０．１２５λ＿０の光学膜厚の
   前記高屈折率材料の層とからなる特許請求範囲第１項記
   載の陰極線管フェースプレート ４）前記周期交互層の層数が３〜３１である特許請求範
   囲第２項または第３項記載の陰極線管フェースプレート ５）前記高屈折率材料の層がＴｉＯ＿２、Ｔａ＿２Ｏ＿
   ５、ＺｒＯ＿２、ＨｆＯ＿２、ＳｎＯ＿２、ＰｒＴｉＯ
   ＿３、Ｉｎ＿２Ｏ＿３からなる群から選ばれた１つまた
   は少なくとも２つ以上の混合物であり、前記低屈折率材
   料の層がＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３またはＭｇＦ＿２
   である特許請求範囲第１項乃至第４項のいずれかの項記
   載の陰極線管フェースプレート