JPH03157192A - 処理水の残留塩素一定制御装置 - Google Patents

処理水の残留塩素一定制御装置

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JPH03157192A
JPH03157192A JP29558889A JP29558889A JPH03157192A JP H03157192 A JPH03157192 A JP H03157192A JP 29558889 A JP29558889 A JP 29558889A JP 29558889 A JP29558889 A JP 29558889A JP H03157192 A JPH03157192 A JP H03157192A
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chlorine
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inflow
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Toshisada Numashita
敏貞 沼下
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Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 A、産業上の利用分野 本発明は、下水処理における塩素注入制御装置に係り、
特に残留塩素一定制御装置に関する。
B1発明の概要 本発明は、処理水流入量に対する塩素注入比率設定で処
理水に対する塩素注入量を制御する残留塩素一定制御装
置において、 塩素注入量と残留塩素量と塩素消費量の関係から塩素注
入比率を予測制御することにより、残留塩素一定制御を
確実、容易にする乙のである。
C1従来の技術 下水処理において、エアレーションタンク等によって浄
化された処理水は塩素注入によって消毒された後に放流
される。塩素注入制御には従来から流入量に対する塩素
注入率制御又は放流水の塩素濃度一定制御によって残留
塩素一定制御が行われ、第2図に示す構成にされている
。処理水は流量計lを経てデヒューザ2で塩素注入が行
われ、撹拌池3で撹拌されて放流される。デヒューザ2
における塩素注入は塩素注入機4により塩素を圧力注入
した圧力水として加えられ、この注入量は流量計1によ
る処理水量検出信号に対する比率設定器5の比率設定に
よって処理水量に対する比率として目標値設定され、調
節計6によって目標注入量と流量計7からの塩素注入量
とが比較され、塩素注入制御量として塩素注入機4のバ
ルブ制御が行われる。
塩素濃度一定制御では、放流水をサンプリングポンプ8
でサンプリングし、このサンプルの塩素残留分を残留塩
素発信器9に検出し、調節計10による比較で塩素注入
機4の塩素注入量を制御する。切換スイッチlIは塩素
注入率制御と塩素濃度一定制御とを切り換える。
D1発明が解決しようとする課題 従来の塩素注入率制御では、処理水の流入量に比例した
塩素注入量になるが、処理水の水質変動によって塩素の
消費量が変動するため、処理水に対する塩素の比例注入
では残留塩素の一定化ができないし、塩素の過不足を生
じる。そこで、従来から塩素注入率を水質、天候等を計
測しながら適宜設定変更を行っているが、熟練者でも不
安定。
不適切な制御になることが多いし、最適な注入率の調査
にも多くの時間を必要としている。
また、塩素濃度一定制御では、塩素注入から残留塩素の
検出までの時間遅れが大きくなり、時々刻々変化する塩
素の必要注入量に対する制御周期の選定等を困難にする
問題があった。
本発明の目的は、塩素の必要注入量の変動が大きい処理
水にも確実、容易に残留塩素一定制御ができる制御装置
を提供することにある。
81課題を解決するための手段 本発明は、上記目的を達成するため、処理水流入量に対
する塩素注入比率設定で処理水に対する塩素注入量を制
御する残留塩素一定制御装置において、制御周期毎に面
回の処理水流入量と塩素注入量及び移動平均による残留
塩素濃度を求める手段と、前記処理水流入量に残留塩素
濃度を乗算して残留塩素量を求める手段と、前記塩素注
入量から前記残留塩素量を減算して塩素消費量を求める
手段と、前記処理水流入量と残留塩素濃度と塩素消費量
から次式 に従って今回の前記塩素注入比率を算出及び設定する手
段とを備えたものである。
F1作用 処理水の流入量に対する塩素注入率制御方式において、
塩素注入量は処理水流入量に塩素注入比率Rを乗算した
しのになる。
塩素注入m=処理水流入m X R・・・・・(1)こ
の塩素注入量に対して、処理水での塩素消費率として設
定することで残留塩素量を一定にする量を減算したもの
が残留塩素量になる。即ち、残留塩素量=塩素注入量−
塩素消費量  ・・・・・・(2)の関係が成立する。
また、残留塩素量は処理水流大量に残留塩素濃度を乗算
したものになることがり、 残留塩素量=処理水流入fix残留塩素濃度  曲−(
3)の関係が成立する。
上述までの関係から次の(4)式が成立する。
処理水流入量 X  R=  l!−ff水流入看 X
 残留塩素濃度 十 塩!、消費看・・・・・・(4) この(4)式から塩素注入比率Rを求めるととして求め
られ、この塩素注入比率Rを塩素注入ことができる。
ここで、処理水流入量及び塩素消費量は一定とする場合
に上述の関係は成立するが、この2つの要素か変動する
も充分短時間内での変動は無視できるものである。そこ
で、上述の塩素注入比率Rの算定を充分短時間にした制
御周期毎に前回制御の結果から今回制御時の予測値とす
る。
G、実施例 第1図は本発明の一実施例を示す装置構成図である。デ
ィジタルコントローラI2は、マイクロコンピュータと
サンプリング手段を有して処理水の流入量と残留塩素量
と塩素注入量をサンプリング及び演算処理して塩素注入
比率Rを求め、比率設定器5の注入比率の予測設定によ
って残留塩素一定制御を行う。
ディジタルコントローラI2の積分演算部I3は、流量
計7の流入量を制御周期で積算することで前回制御での
処理水流入量を求める。同様に、積分演算部14は、流
量計7の塩素注入量を制御周期で積算することで前回制
御での塩素注入量を求める。移動平均演算部15は残留
塩素発信器9からの残留塩素濃度の移動平均を取ること
で前回制御での平均残留塩素濃度を求める。乗算部I6
は演算部13からの処理水流入量に演算部15からの平
均残留塩素濃度を乗算することで前回制御での残留塩素
量を求め、減算部17は演算部I4からの塩素注入量か
ら乗算部16からの残留塩素量を減算することで前回制
御での塩素消費量を求める。注入率演算部I8は演算部
13.15及び減算部17からの容量から今回制御時の
塩素注入率Rを前述の(4)式に従って求め、比率設定
器5の比率設定を更新する。
上述の構成において、ディジタルコントローラ12の各
演算部13,14.15は流量計1.7゜9でのサンプ
リング周期毎に演算して処理水流入量、塩素注入量及び
平均残留塩素濃度を求め、乗算部16と減算部17と演
算部18はサンプリング周期のN倍の制御周期で各量率
を求める。
また、残留塩素一定制御には、比率設定器5で処理水の
流入量に塩素注入比率Rを設定する比率設定によって調
節計6に目標塩素注入量を設定し、フィードバック制御
によって処理水流入量に対する塩素注入比率を一定にす
る。
1(、発明の効果 以上のとおり、本発明によれば、塩素注入量と素置信器
、12・・・デイノタルコントローラ、+3゜残留塩素
量と塩素消費量の関係から塩素注入比率I4・・積分演
算部、15・・移動平均演算部、+6を予測制御するこ
とで残留塩素の一定制御を得る・・・乗算部、+7・・
減算部、+8・・・注入率演算部。
ようにしたため、塩素注入率の適正値を自動的に求める
ことができ、オペレータの負担を軽減すると共に塩素の
過不足を少なくした確実な制御になる。また、装置構成
としては従来の装置にデイノタルコントローラを付加す
るのみで済み、特別な水質計測を不要にする。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図は従来
の構成図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)処理水流入量に対する塩素注入比率設定で処理水
    に対する塩素注入量を制御する残留塩素一定制御装置に
    おいて、制御周期毎に前回の処理水流入量と塩素注入量
    及び移動平均による残留塩素濃度を求める手段と、前記
    処理水流入量に残留塩素濃度を乗算して残留塩素量を求
    める手段と、前記塩素注入量から前記残留塩素量を減算
    して塩素消費量を求める手段と、前記処理水流入量と残
    留塩素濃度と塩素消費量から次式 (処理水流入量×残留塩素濃度+塩素消費量)/処理水
    流入量に従って今回の前記塩素注入比率を算出及び設定
    する手段とを備えたことを特徴とする処理水の残留塩素
    一定制御装置。
JP1295588A 1989-11-14 1989-11-14 処理水の残留塩素一定制御装置 Expired - Lifetime JP2720552B2 (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100317201B1 (ko) * 1999-06-21 2001-12-24 이두우 자동 염소 투입 장치 및 방법
KR20050063259A (ko) * 2003-12-22 2005-06-28 (주) 팬지아이십일 염소 소독 공정의 소독능을 실시간으로 모니터링하기 위한장치 및 방법
JP2006334509A (ja) * 2005-06-02 2006-12-14 Toshiba Corp 下水の消毒方法及び下水の消毒システム
KR20070119111A (ko) * 2006-06-14 2007-12-20 한국건설기술연구원 미생물 불활성비 자동연산에 의한 염소소독공정 제어장치및 방법
JP2014030780A (ja) * 2012-08-01 2014-02-20 Miura Co Ltd 水処理システム
JP2017170390A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 栗田工業株式会社 薬注制御方法及び薬注制御装置
JP2018001049A (ja) * 2016-06-27 2018-01-11 有限会社イシズチコーポレーション プール水の殺菌方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61133193A (ja) * 1984-12-03 1986-06-20 Toshiba Corp 浄水場の塩素注入量ガイダンス装置
JPS61141994A (ja) * 1984-12-14 1986-06-28 Toshiba Corp 塩素注入制御装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61133193A (ja) * 1984-12-03 1986-06-20 Toshiba Corp 浄水場の塩素注入量ガイダンス装置
JPS61141994A (ja) * 1984-12-14 1986-06-28 Toshiba Corp 塩素注入制御装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100317201B1 (ko) * 1999-06-21 2001-12-24 이두우 자동 염소 투입 장치 및 방법
KR20050063259A (ko) * 2003-12-22 2005-06-28 (주) 팬지아이십일 염소 소독 공정의 소독능을 실시간으로 모니터링하기 위한장치 및 방법
JP2006334509A (ja) * 2005-06-02 2006-12-14 Toshiba Corp 下水の消毒方法及び下水の消毒システム
KR20070119111A (ko) * 2006-06-14 2007-12-20 한국건설기술연구원 미생물 불활성비 자동연산에 의한 염소소독공정 제어장치및 방법
JP2014030780A (ja) * 2012-08-01 2014-02-20 Miura Co Ltd 水処理システム
JP2017170390A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 栗田工業株式会社 薬注制御方法及び薬注制御装置
JP2018001049A (ja) * 2016-06-27 2018-01-11 有限会社イシズチコーポレーション プール水の殺菌方法

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