JPH03160347A - はんだ外観検査装置 - Google Patents
はんだ外観検査装置Info
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- JPH03160347A JPH03160347A JP1300443A JP30044389A JPH03160347A JP H03160347 A JPH03160347 A JP H03160347A JP 1300443 A JP1300443 A JP 1300443A JP 30044389 A JP30044389 A JP 30044389A JP H03160347 A JPH03160347 A JP H03160347A
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
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- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95684—Patterns showing highly reflecting parts, e.g. metallic elements
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- G—PHYSICS
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- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/20—Special algorithmic details
- G06T2207/20048—Transform domain processing
- G06T2207/20061—Hough transform
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- G—PHYSICS
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- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30152—Solder
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- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はプリント基板上のはんだ付け部にリード線が正
しくはんだ付けされているかの良否判定を自動的に検査
するはんだ外観検査装置に関するものである。
しくはんだ付けされているかの良否判定を自動的に検査
するはんだ外観検査装置に関するものである。
従来の技術
近年、はんだ外観検査装置については様々なものが提案
されている。光切断方式によりはんだの3次元形状を得
て良品判定する装置では、特開昭63−196980号
公報に示されるように、はんだの濃淡画像におけるヒス
トグラムと一定閾値以上の2値化画像を良品と比較して
判定するものがあるが、処理時間が長くかかり、光検知
器には非常に大きなダイナミックレンジを有する従来例
としては特開昭63−196980のようなものが必要
であり実用的ではなかった。また特開昭64−6860
6号公報のようにはんだに同芯円の多重円パターン光を
投入してはんだ形状に異常があった場合に多重円パター
ン像がゆがむことを利用してはんだ良否を判定するもの
がある。あるいは、特開昭64−73207号公報のよ
うにリング状のパターン光を一旦基村上に投光しその間
接光がはんだ面で反射してできる高輝度部分とリード線
との距離によってはんだ形状の良否を判定するものがあ
る。
されている。光切断方式によりはんだの3次元形状を得
て良品判定する装置では、特開昭63−196980号
公報に示されるように、はんだの濃淡画像におけるヒス
トグラムと一定閾値以上の2値化画像を良品と比較して
判定するものがあるが、処理時間が長くかかり、光検知
器には非常に大きなダイナミックレンジを有する従来例
としては特開昭63−196980のようなものが必要
であり実用的ではなかった。また特開昭64−6860
6号公報のようにはんだに同芯円の多重円パターン光を
投入してはんだ形状に異常があった場合に多重円パター
ン像がゆがむことを利用してはんだ良否を判定するもの
がある。あるいは、特開昭64−73207号公報のよ
うにリング状のパターン光を一旦基村上に投光しその間
接光がはんだ面で反射してできる高輝度部分とリード線
との距離によってはんだ形状の良否を判定するものがあ
る。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、従来のはんだ外観検査装置は、検査対象
のはんだやリード線の大きさ、位置のばらつきが少ない
場合は良品の基板と形状を比較することができるが、は
んだの位置や大きさがばらついたり、スルーホールがな
く、リード線が単にランドにはんだ付けされた状態のも
のを検査することは困難であった。
のはんだやリード線の大きさ、位置のばらつきが少ない
場合は良品の基板と形状を比較することができるが、は
んだの位置や大きさがばらついたり、スルーホールがな
く、リード線が単にランドにはんだ付けされた状態のも
のを検査することは困難であった。
また、はんだ表面上におけるコゲや光沢なしの不良状態
を部分的パターン投光法によって検出することは困難で
ある。
を部分的パターン投光法によって検出することは困難で
ある。
本発明の第1の目的は上記問題点に鑑み、はんだの基板
上での位置や大きさが変化しても、はんだ量の過不足や
表面の光沢なし、コゲなどの良否判定ができるはんだ外
観検査装置を提供することにある。
上での位置や大きさが変化しても、はんだ量の過不足や
表面の光沢なし、コゲなどの良否判定ができるはんだ外
観検査装置を提供することにある。
また、本発明の第2の目的は、はんだ位置に対するリー
ド線のはんだへの貫入位置に基づいてリード線のはんだ
状態の良否を判定できるはんだ外観検査装置を提供する
ことにある。
ド線のはんだへの貫入位置に基づいてリード線のはんだ
状態の良否を判定できるはんだ外観検査装置を提供する
ことにある。
さらに、本発明の第3の目的は、リード線貫入位置にお
いてリード線抜けの可能性があるトンネル状態の検出が
できるはんだ外観検査装置を提供することにある。
いてリード線抜けの可能性があるトンネル状態の検出が
できるはんだ外観検査装置を提供することにある。
さらに、本発明の第4の目的は、不要なリード線がはん
だから外に出てショートなどの原因となる線残り状態を
検出できるはんだ外観検査装置を提供することにある。
だから外に出てショートなどの原因となる線残り状態を
検出できるはんだ外観検査装置を提供することにある。
課題を解決するための手段
第1の発明は、はんだを照明する照明手段と、はんだを
撮像する撮像手段と、撮像された画像からはんだ位置を
検出する手段と、はんだの大きさに対するはんだ上で正
反射する光の領域の比率に基づき、はんだ量の過多、不
足あるいはコゲ,光沢なしの良否判定を行うはんだ状態
判定手段とを備えたことを特徴とするはんだ外観検査装
置である。
撮像する撮像手段と、撮像された画像からはんだ位置を
検出する手段と、はんだの大きさに対するはんだ上で正
反射する光の領域の比率に基づき、はんだ量の過多、不
足あるいはコゲ,光沢なしの良否判定を行うはんだ状態
判定手段とを備えたことを特徴とするはんだ外観検査装
置である。
また、第2の発明は第1の発明に加えて、リード線の貫
入位置と方向をはんだの外側部分で検出するリード線位
置検出手段と、リード線の明るさの変化の絶対値を得る
微分処理手段と、明るさの変化を示す山と山の間の谷間
を追跡してはんだへの貫入位置を検出する手段と、はん
だ位置に対するリード線の貫入位置に基づきリード線の
はんだ付け状態の良否を判定するリード線はんだ付状態
判定手段とを備えたことを特徴とするはんだ外観検査装
置である。
入位置と方向をはんだの外側部分で検出するリード線位
置検出手段と、リード線の明るさの変化の絶対値を得る
微分処理手段と、明るさの変化を示す山と山の間の谷間
を追跡してはんだへの貫入位置を検出する手段と、はん
だ位置に対するリード線の貫入位置に基づきリード線の
はんだ付け状態の良否を判定するリード線はんだ付状態
判定手段とを備えたことを特徴とするはんだ外観検査装
置である。
また、第3の発明は、第1の発明に加えて、リード線が
はんだへ貫入する位置において、リード線貫入位置を中
心にした部分領域をはんだとくぼみの明るさの中間値で
2値化する手段と該部分領域の2値射影を求める手段と
射影軸を少なくとも等分して等分されたデータの最大,
最小値に基づいて2値化されて黒くなった該くぼみ部分
の大きさと円形度を求め、該くぼみ部分がトンネルであ
るかどうかを判定する手段とを備えたことを特徴とする
はんだ外観検査装置である。
はんだへ貫入する位置において、リード線貫入位置を中
心にした部分領域をはんだとくぼみの明るさの中間値で
2値化する手段と該部分領域の2値射影を求める手段と
射影軸を少なくとも等分して等分されたデータの最大,
最小値に基づいて2値化されて黒くなった該くぼみ部分
の大きさと円形度を求め、該くぼみ部分がトンネルであ
るかどうかを判定する手段とを備えたことを特徴とする
はんだ外観検査装置である。
また、第4の発明は第1の発明に加えて、リード線の明
るさの変化を得る微分処理手段と、微分処理画像の一定
以上のレベルを2値化する手段と、はんだの外側にあっ
てリード線位置とは異なる部位に存在するリード線の特
徴を有する2値面形状があるかどうかを判定する線残り
検出手段とを備えたことを特徴とするものである。
るさの変化を得る微分処理手段と、微分処理画像の一定
以上のレベルを2値化する手段と、はんだの外側にあっ
てリード線位置とは異なる部位に存在するリード線の特
徴を有する2値面形状があるかどうかを判定する線残り
検出手段とを備えたことを特徴とするものである。
作 用
第1の発明によれば、はんだ位置を検出してはんだ状態
の良否が決まる正反射領域のはんだの大きさに対する比
率を求めるため、はんだの大きさ、位置のばらつきに影
響されず、はんだ量の過不足、表面光沢なし、コゲなど
リード線接触不良の原因となるものを防ぐことができる
。
の良否が決まる正反射領域のはんだの大きさに対する比
率を求めるため、はんだの大きさ、位置のばらつきに影
響されず、はんだ量の過不足、表面光沢なし、コゲなど
リード線接触不良の原因となるものを防ぐことができる
。
第2の発明によれば、はんだへのリード線貫入位置を求
めるため、リード線がはんだ付けされている長さを知る
ことができ、リード線はずれやリード線の接触不良など
を防ぐことができる。
めるため、リード線がはんだ付けされている長さを知る
ことができ、リード線はずれやリード線の接触不良など
を防ぐことができる。
第3の発明によれば、リード線貫入位置におけるトンネ
ル状態を検出するため、リード線抜けなどの不要を防ぐ
ことができる。
ル状態を検出するため、リード線抜けなどの不要を防ぐ
ことができる。
第4の発明によれば、不要なリード線残りを検出できる
ため、リード線残りによる他のランドやケースなどとの
ショートを防ぐことができる。
ため、リード線残りによる他のランドやケースなどとの
ショートを防ぐことができる。
実 施 例
本発明の実施例について以下、図面を参照して説明する
。
。
第1の実施例
第1図は本発明の第1の実施例におけるはんだ外観検査
装置の構成図である。
装置の構成図である。
同図において、1は被検査対象であるビデオヘッド、2
は照明光源、3は照明光源2からの光をリング状に放射
するリングライトガイド、4はリングライトガイド3か
ら放射された光を拡散して筒の中でソフトな照明を作り
出す拡散筒、5は対象物を拡大して写すレンズ、6はT
Vカメラ、7は撮像された画像信号を処理してはんだの
良否を判定する画像処理系である。
は照明光源、3は照明光源2からの光をリング状に放射
するリングライトガイド、4はリングライトガイド3か
ら放射された光を拡散して筒の中でソフトな照明を作り
出す拡散筒、5は対象物を拡大して写すレンズ、6はT
Vカメラ、7は撮像された画像信号を処理してはんだの
良否を判定する画像処理系である。
第2図は、ビデオヘッド1をさらに詳しく示した図であ
る。第2図において、8はビデオヘッド1に貼り付けら
れたプリント基板、9はコア、10はコア9に巻線され
たコイルからのリード線、11はプリント基板8上のは
んだ付け部である。
る。第2図において、8はビデオヘッド1に貼り付けら
れたプリント基板、9はコア、10はコア9に巻線され
たコイルからのリード線、11はプリント基板8上のは
んだ付け部である。
以上のように構成されたはんだ外観検査装置について以
下その動作を説明する。
下その動作を説明する。
ビデオヘッド1上には、第2図に示すように検査対象で
あるはんだ付け部11が4ケ所ある。TVカメラ6で撮
像される視野はレンズ5によって拡大されるので、第3
図に示すように、1ケ所のはんだ付け部11が1つの視
野に入る。TVカメラ6を移動することにより4ケ所の
はんだ外観検査を行う。
あるはんだ付け部11が4ケ所ある。TVカメラ6で撮
像される視野はレンズ5によって拡大されるので、第3
図に示すように、1ケ所のはんだ付け部11が1つの視
野に入る。TVカメラ6を移動することにより4ケ所の
はんだ外観検査を行う。
はんだ状態の良否判定は第4図a − Cに示すような
原理である。拡散筒4から照射されるソフトな光は、は
んだが良品であるとき、同図aに示すように照射された
光の正反射光がレンズ5に集中することになり、第3図
上で示すはんだ14は、光学的暗部15を除き全体に輝
いて撮像されることになる。ところが、はんだ不足であ
ったり、はんだ過多のときは、第4図b,cに示すよう
に正反射光がレンズ5に入射しない表面形状となるため
、はんだ14は全体に暗く撮像されることになる。また
、表面に光沢がなかったり、コゲがあったりしたときは
、表面の反射率が悪くなるため、たとえはんだ形状が同
図aのようであっても、はんだ14は暗く撮像されるこ
ととなる。
原理である。拡散筒4から照射されるソフトな光は、は
んだが良品であるとき、同図aに示すように照射された
光の正反射光がレンズ5に集中することになり、第3図
上で示すはんだ14は、光学的暗部15を除き全体に輝
いて撮像されることになる。ところが、はんだ不足であ
ったり、はんだ過多のときは、第4図b,cに示すよう
に正反射光がレンズ5に入射しない表面形状となるため
、はんだ14は全体に暗く撮像されることになる。また
、表面に光沢がなかったり、コゲがあったりしたときは
、表面の反射率が悪くなるため、たとえはんだ形状が同
図aのようであっても、はんだ14は暗く撮像されるこ
ととなる。
次に、画像処理系7におけるはんだ外観検査の処理の流
れを第5図を用いて説明する。まず、処理7aにて、検
査対象基板の画像入力をする。画像は第3図に示すよう
なものである。次に、処理7bにてメディアンフィルタ
を通過させて画像からノイズ成分を除去する。その画像
は、処理7cにてソーベルフィルタにより明るさの変化
があるときに濃度が高くなるような微分画像になる。さ
らに、その画像において、処理7eにてハフ変換を用い
た直線戊分検出を行う。直線成分は、画像中にいくつか
存在するが、はんだ14以外の直線成分を示すエッジ付
近は、いずれも明るさが一定の等濃度領域であるため、
はんだエッジ13と識別することができ、処理7fのは
んだ位置検出において、はんだエッジ13の位置が4辺
について求められる。次に、処理7gにて、はんだエッ
ジ13に囲まれた領域のヒストグラム演算が行われる。
れを第5図を用いて説明する。まず、処理7aにて、検
査対象基板の画像入力をする。画像は第3図に示すよう
なものである。次に、処理7bにてメディアンフィルタ
を通過させて画像からノイズ成分を除去する。その画像
は、処理7cにてソーベルフィルタにより明るさの変化
があるときに濃度が高くなるような微分画像になる。さ
らに、その画像において、処理7eにてハフ変換を用い
た直線戊分検出を行う。直線成分は、画像中にいくつか
存在するが、はんだ14以外の直線成分を示すエッジ付
近は、いずれも明るさが一定の等濃度領域であるため、
はんだエッジ13と識別することができ、処理7fのは
んだ位置検出において、はんだエッジ13の位置が4辺
について求められる。次に、処理7gにて、はんだエッ
ジ13に囲まれた領域のヒストグラム演算が行われる。
処理7hにおいては、正反射輝度部は、ヒストグラムの
あるしきい値以上の累積ひん度と等価であることを利用
して、正反射輝度部のはんだエッジ13の領域内におけ
る面積比率を計算する。処理71にて、その面積比率を
もとにはんだ状態の判定が行われる。
あるしきい値以上の累積ひん度と等価であることを利用
して、正反射輝度部のはんだエッジ13の領域内におけ
る面積比率を計算する。処理71にて、その面積比率を
もとにはんだ状態の判定が行われる。
以上のように本実施例によれば、はんだ14を照明する
手段と、はんだの位置を検出する手段と、はんだの大き
さに対する正反射輝度部の面積比率に基づきはんだの良
否判定を行うはんだ状態判定手段とを設けることにより
、はんだ量の過不足や表面に光沢のないもの、コゲなど
のはんだ状態を発見し、次の工程に流さないようにする
ことができる。通常、不良と判定されたものは、再度は
んだ付けが行われたりして修正される。
手段と、はんだの位置を検出する手段と、はんだの大き
さに対する正反射輝度部の面積比率に基づきはんだの良
否判定を行うはんだ状態判定手段とを設けることにより
、はんだ量の過不足や表面に光沢のないもの、コゲなど
のはんだ状態を発見し、次の工程に流さないようにする
ことができる。通常、不良と判定されたものは、再度は
んだ付けが行われたりして修正される。
第2の実施例
第6図は本発明の第2の実施例における処理画像を示し
たものである。
たものである。
同図は、第1の実施例で説明した明るさの変化があると
きに濃度が高くなるようにした微分処理画像であって、
17はリード線10がはんだ14へ貫入する線貫入位置
であり、18ははんだエツジ13に対して相対的に位置
付けられた線貫入位置許容エリアである。また、第7図
は、リード線貫入位置17を検出する手段を示したもの
であり、19はリード線位置、20はリード線位置19
上に沿ってリード線貫入位置17をさがすリード線検索
範囲である。さらに、第8図a,bは、リード線検索範
囲19におけるスタート点Anからエンド点Bnにおけ
るリード線の濃度変化を示したリード線原画像aと、そ
の微分処理画像を示すリード線微分画像bである。
きに濃度が高くなるようにした微分処理画像であって、
17はリード線10がはんだ14へ貫入する線貫入位置
であり、18ははんだエツジ13に対して相対的に位置
付けられた線貫入位置許容エリアである。また、第7図
は、リード線貫入位置17を検出する手段を示したもの
であり、19はリード線位置、20はリード線位置19
上に沿ってリード線貫入位置17をさがすリード線検索
範囲である。さらに、第8図a,bは、リード線検索範
囲19におけるスタート点Anからエンド点Bnにおけ
るリード線の濃度変化を示したリード線原画像aと、そ
の微分処理画像を示すリード線微分画像bである。
第7図に示すように、はんだエッジ13は第1の実施例
で説明した手段により求められている。
で説明した手段により求められている。
リード線は、はんだエッジ13の外側において、ハフ変
換により直線成分として、その角度及び位置がリード線
位置18のように検出される。リード線位置19上に沿
って、リード線検索範囲10の濃度分布を調べると、第
8図bのように2つの山がありその間に谷間があるとい
う形になる。ここでリード線検索範囲200対象とする
画像は、第6図に示すような微分画像である。リード線
検索範囲20で得られる濃度分布の谷間を追跡していき
、谷間がなくなったところをリード線貫入位置17とし
て検出する。リード線貫入位置17は、はんだエッジ1
3に相対的に位置付けられたリード線貫入位置許容エリ
ア18の中にあるときは、リード線はんだ付け状態は良
品とされ、外にあるときは不良と判定される。
換により直線成分として、その角度及び位置がリード線
位置18のように検出される。リード線位置19上に沿
って、リード線検索範囲10の濃度分布を調べると、第
8図bのように2つの山がありその間に谷間があるとい
う形になる。ここでリード線検索範囲200対象とする
画像は、第6図に示すような微分画像である。リード線
検索範囲20で得られる濃度分布の谷間を追跡していき
、谷間がなくなったところをリード線貫入位置17とし
て検出する。リード線貫入位置17は、はんだエッジ1
3に相対的に位置付けられたリード線貫入位置許容エリ
ア18の中にあるときは、リード線はんだ付け状態は良
品とされ、外にあるときは不良と判定される。
したがって、本実施例によれば、第1の実施例1で得ら
れる効果に加えて、リード線貫入位置17からリード線
はんだ付け状態の良否を判定することが可能になるとい
う効果も有する。
れる効果に加えて、リード線貫入位置17からリード線
はんだ付け状態の良否を判定することが可能になるとい
う効果も有する。
第3の実施例
第9図は、本発明の第3の実施例におけるトンネルにつ
いて説明する図であり、第10図はトンネルを検出する
手段について説明する図である。
いて説明する図であり、第10図はトンネルを検出する
手段について説明する図である。
第9図において、21はリード線貫入位置でリード線1
0の範囲のはんだ14が溶けないために形成されたトン
ネルである。第10図は、トンネル22が、第1の実施
例で説明した照明手段によって照明されたときに、くぼ
みとなって撮像され、その画像信号をくぼみとはんだの
明るさの中間値で2値化して得られた2値画像とy軸に
対する2値射影グラフである。22は2値化されて黒く
なったくぼみである。
0の範囲のはんだ14が溶けないために形成されたトン
ネルである。第10図は、トンネル22が、第1の実施
例で説明した照明手段によって照明されたときに、くぼ
みとなって撮像され、その画像信号をくぼみとはんだの
明るさの中間値で2値化して得られた2値画像とy軸に
対する2値射影グラフである。22は2値化されて黒く
なったくぼみである。
まず、リード線貫入位置17は第2の実施例2の手段に
よって既にわかっているので、リード線貫入位置17を
中心に第10図のようにくぼみ22を抽出できる大きさ
の部分領域を設ける。部分領域内においてヒストフラム
計算を行い、はんだ部の明るさを示す山とくぼみの部分
の明るさを示す山との間の中間値を2値化閾値として求
める。その2値化閾値にて2値化された部分領域の画像
のy軸に対する2値射影を行う。すると第10図に示す
ようなグラフとなり、射影軸を3等分して、それぞれの
ゾーンをL,M,Nとし、LとNゾーンにおいては2値
射影画素数の最大値を、Mゾーンにおいてはその最小値
をそれぞれ求める。くぼみ22があるときは、L,Nゾ
ーンの最大値と、Mゾーンの最小値との2値射影画素数
の差が大であり、くぼみ22がほとんどなければ、その
差もほとんどないということになる。このようにして、
くぼみ22がトンネル21であるかどうかは、限度見本
における2値射影画ぞ数の最大と最小値の差分値と比較
することによりトンネル21の有無を判定することがで
きる。
よって既にわかっているので、リード線貫入位置17を
中心に第10図のようにくぼみ22を抽出できる大きさ
の部分領域を設ける。部分領域内においてヒストフラム
計算を行い、はんだ部の明るさを示す山とくぼみの部分
の明るさを示す山との間の中間値を2値化閾値として求
める。その2値化閾値にて2値化された部分領域の画像
のy軸に対する2値射影を行う。すると第10図に示す
ようなグラフとなり、射影軸を3等分して、それぞれの
ゾーンをL,M,Nとし、LとNゾーンにおいては2値
射影画素数の最大値を、Mゾーンにおいてはその最小値
をそれぞれ求める。くぼみ22があるときは、L,Nゾ
ーンの最大値と、Mゾーンの最小値との2値射影画素数
の差が大であり、くぼみ22がほとんどなければ、その
差もほとんどないということになる。このようにして、
くぼみ22がトンネル21であるかどうかは、限度見本
における2値射影画ぞ数の最大と最小値の差分値と比較
することによりトンネル21の有無を判定することがで
きる。
したがって、本実施例によれば、第1の実施例で得られ
る効果に加えて、リード線貫入位置におけるくぼみがト
ンネルであるかどうかを判定することができるので、リ
ード線抜けや、接触不良の可能性のあるビデオヘッドを
後工程に流さないようにすることができる。
る効果に加えて、リード線貫入位置におけるくぼみがト
ンネルであるかどうかを判定することができるので、リ
ード線抜けや、接触不良の可能性のあるビデオヘッドを
後工程に流さないようにすることができる。
第4の実施例
第11図は、本発明の第4の実施例におけるリード線残
りについて説明する図である。
りについて説明する図である。
第11図において、23はリード線10の終端がはんだ
エッジ13の外側に飛び出してあるリード線残りである
。
エッジ13の外側に飛び出してあるリード線残りである
。
第11図は、第1の実施例で説明した微分処理画像をリ
ード線10が1本の白い線になるような閾値で2値化し
た画像である。正規のリード線10の位置とはんだエッ
ジ13は、既に第1,第2の実施例で説明した手段によ
ってわかっているので、それ以外の部位に存在するリー
ド線の特徴を有する2値面形状があるかどうかを判定す
る。具体的には、リード線10とはんだエツジ13をマ
スクした上で、残った領域の2値面形状の面積、2次モ
ーメントなどの特徴量を測定して、リード線の特徴量と
よくあうものがあれば、リード線残り23が存在すると
判定する。
ード線10が1本の白い線になるような閾値で2値化し
た画像である。正規のリード線10の位置とはんだエッ
ジ13は、既に第1,第2の実施例で説明した手段によ
ってわかっているので、それ以外の部位に存在するリー
ド線の特徴を有する2値面形状があるかどうかを判定す
る。具体的には、リード線10とはんだエツジ13をマ
スクした上で、残った領域の2値面形状の面積、2次モ
ーメントなどの特徴量を測定して、リード線の特徴量と
よくあうものがあれば、リード線残り23が存在すると
判定する。
したがって、本実施例によれば、第1の実施例で得られ
る効果に加えて、リード線残りを検出することが可能と
なり、ショートの原因となるような不要なリード線残り
のあるビデオヘッドを後工程に流さないようにできる。
る効果に加えて、リード線残りを検出することが可能と
なり、ショートの原因となるような不要なリード線残り
のあるビデオヘッドを後工程に流さないようにできる。
なお、第1の実施例において、はんだ位置検出のために
直線成分検出を行っているが、はんだエッジ13は必ず
しも矩形状であるとは限らず、たとえば円弧状である場
合もある。その場合においても、円弧成分検出によって
はんだエッジを求めることができるので、本発明の特徴
とするはんだ位置を求めることに対する対象形状の種類
は限定されない。
直線成分検出を行っているが、はんだエッジ13は必ず
しも矩形状であるとは限らず、たとえば円弧状である場
合もある。その場合においても、円弧成分検出によって
はんだエッジを求めることができるので、本発明の特徴
とするはんだ位置を求めることに対する対象形状の種類
は限定されない。
発明の効果
以上のように第1の発明によれば、はんだ位置を検出し
て、そのはんだ位置におけるはんだ表面からの正反射領
域の面積比率を求めて良否を判定することができるため
、はんだの大きさ、位置のばらつきに関係なく、はんだ
量の過不足、表面光沢なし、コゲなどのはんだ不良を発
見することができるようになる。
て、そのはんだ位置におけるはんだ表面からの正反射領
域の面積比率を求めて良否を判定することができるため
、はんだの大きさ、位置のばらつきに関係なく、はんだ
量の過不足、表面光沢なし、コゲなどのはんだ不良を発
見することができるようになる。
また、第2の発明によれば、はんだへのリード線貫入位
置を求めて、はんだ位置に対する位置関係からリード線
はんだ付け状態を判定できるため、リード線はずれやリ
ード線の接触不良などを防ぐことができる。
置を求めて、はんだ位置に対する位置関係からリード線
はんだ付け状態を判定できるため、リード線はずれやリ
ード線の接触不良などを防ぐことができる。
さらに、第3の発明によれば、リード線貫入位置におけ
るトンネル状態を検出することができるため、リード線
抜けなどの不良を防ぐことができる。
るトンネル状態を検出することができるため、リード線
抜けなどの不良を防ぐことができる。
さらに、第4の発明によれば、リード線残りを検出でき
るため、不要なリード線による他のランドやケースAど
とのシ3−トを防ぐことができる。
るため、不要なリード線による他のランドやケースAど
とのシ3−トを防ぐことができる。
第1図は本発明の第1の実施例におけるはんだ外観検査
装置の構或図、第2図はビデオヘッドの説明図、第3図
は撮像されるはんだ付け部の拡大図、第4図[a)〜(
C)は本実施例の原理説明図、第5図は検査工程を示す
フローチャート、第6図は本発明の第2の実施例におけ
るリード線貫入位置検出のための処理画像図、第7図は
リード線貫入位置検出の説明図、第8図fat, (b
)はリード線検索範囲における濃度分布図、第9図は本
発明の第3の実施例におけるトンネルについての説明図
、第10図はトンネル検出のための説明図、第11図は
本発明の第4の実施例におけるリード線残りについての
説明図である。 6・・・・・・TVカメラ、10・・・・・・リードI
!、11・・・・・・はんだ付け部、14・・・・・・
はんだ、17・・・・・・リード線貫入位置、21・・
・・・・トンネル、23・・・・・・線残り
装置の構或図、第2図はビデオヘッドの説明図、第3図
は撮像されるはんだ付け部の拡大図、第4図[a)〜(
C)は本実施例の原理説明図、第5図は検査工程を示す
フローチャート、第6図は本発明の第2の実施例におけ
るリード線貫入位置検出のための処理画像図、第7図は
リード線貫入位置検出の説明図、第8図fat, (b
)はリード線検索範囲における濃度分布図、第9図は本
発明の第3の実施例におけるトンネルについての説明図
、第10図はトンネル検出のための説明図、第11図は
本発明の第4の実施例におけるリード線残りについての
説明図である。 6・・・・・・TVカメラ、10・・・・・・リードI
!、11・・・・・・はんだ付け部、14・・・・・・
はんだ、17・・・・・・リード線貫入位置、21・・
・・・・トンネル、23・・・・・・線残り
Claims (4)
- (1)プリント基板上のはんだ付け部にリード線をはん
だ付けする際に発生するはんだ量の過多,不足,リード
線位置の不良,リード線貫入位置におけるトンネル,線
の終端がはんだ外に飛び出している状態の線残りなどを
検出するはんだ外観検査装置であって、はんだを照明す
る照明手段と、はんだを撮像する撮像手段と、撮像され
た画像からはんだの位置を検出する手段とはんだの大き
さに対するはんだ上で正反射する光の領域の比率に基づ
きはんだ量の過多,不足あるいはコゲ,光沢なしの良否
判定を行うはんだ状態判定手段とを備えたことを特徴と
するはんだ外観検査装置。 - (2)リード線の貫入位置と方向をはんだの外側部分で
検出するリード線位置検出手段と、リード線の明るさの
変化の絶対値を得る微分処理手段と、明るさの変化を示
す山と山の間の谷間を追跡してはんだへの貫入位置を検
出するリード線貫入位置検出手段と、はんだ位置に対す
るリード線の貫入位置に基づきリード線のはんだ付状態
の良否を判定するリード線はんだ状態判別手段とを備え
たことを特徴とする請求項1記載のはんだ外観検査装置
。 - (3)リード線がはんだへ貫入する位置において、リー
ド線貫入位置を中心にした部分領域をはんだとくぼみの
明るさの中間値で2値化する手段と、該部分領域の2値
射影を求める手段と、射影軸を少くとも3等分して等分
されたデータの最大,最小値に基づいて2値化されて黒
くなった該くぼみ部分の大きさと円形度を求め、該くぼ
み部分がトンネルであるかどうかを判定する手段とを備
えたことを特徴とする請求項1記載のはんだ外観検査装
置。 - (4)リード線の明るさの変化を得る微分処理手段と、
微分処理画像の一定以上のレベルを2値化する手段と、
はんだの外側にあってリード線位置とは異なる部位に存
在するリード線の特徴を有する2値面形状があるかどう
かを判定する線残り検出手段とを備えたことを特徴とす
る請求項1記載のはんだ外観検査装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1300443A JPH0810196B2 (ja) | 1989-11-17 | 1989-11-17 | はんだ外観検査装置 |
| US07/613,990 US5148375A (en) | 1989-11-17 | 1990-11-15 | Soldering appearance inspection apparatus |
| KR1019900018673A KR940002503B1 (ko) | 1989-11-17 | 1990-11-17 | 땜납 외관 검사장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1300443A JPH0810196B2 (ja) | 1989-11-17 | 1989-11-17 | はんだ外観検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03160347A true JPH03160347A (ja) | 1991-07-10 |
| JPH0810196B2 JPH0810196B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=17884862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1300443A Expired - Lifetime JPH0810196B2 (ja) | 1989-11-17 | 1989-11-17 | はんだ外観検査装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5148375A (ja) |
| JP (1) | JPH0810196B2 (ja) |
| KR (1) | KR940002503B1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07270322A (ja) * | 1994-03-28 | 1995-10-20 | Nok Corp | 外観検査装置 |
| JP2013011448A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Denso Corp | 視覚装置 |
| JP2015055569A (ja) * | 2013-09-12 | 2015-03-23 | 株式会社Fdkエンジニアリング | 画像外観検査装置 |
| US11143695B2 (en) | 2018-07-17 | 2021-10-12 | Denso Corporation | Inspection device and inspection method for inspecting connected parts of a plurality of pins to a wiring board to detect a short circuit failure |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5495424A (en) * | 1990-04-18 | 1996-02-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for inspecting solder portions |
| US5598345A (en) * | 1990-11-29 | 1997-01-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for inspecting solder portions |
| JPH0833293B2 (ja) * | 1991-04-15 | 1996-03-29 | 松下電器産業株式会社 | 半田の形状検査方法 |
| US5991435A (en) * | 1992-06-30 | 1999-11-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inspecting apparatus of mounting state of component or printing state of cream solder in mounting line of electronic component |
| US5555316A (en) * | 1992-06-30 | 1996-09-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Inspecting apparatus of mounting state of component or printing state of cream solder in mounting line of electronic component |
| KR100269731B1 (ko) * | 1993-07-15 | 2000-10-16 | 하루타 히로시 | 영상 프로세서용 광원장치 |
| US5500886A (en) * | 1994-04-06 | 1996-03-19 | Thermospectra | X-ray position measuring and calibration device |
| US5751910A (en) * | 1995-05-22 | 1998-05-12 | Eastman Kodak Company | Neural network solder paste inspection system |
| JPH10141929A (ja) * | 1996-11-12 | 1998-05-29 | Hitachi Ltd | はんだ付け検査装置 |
| US6230963B1 (en) | 1997-01-28 | 2001-05-15 | Eric L. Hertz | Method and apparatus using colored foils for placing conductive preforms |
| US6412685B2 (en) * | 1997-01-28 | 2002-07-02 | Galahad, Co. | Method and apparatus for release and optional inspection for conductive preforms placement apparatus |
| US6202918B1 (en) | 1997-01-28 | 2001-03-20 | Eric Hertz | Method and apparatus for placing conductive preforms |
| US6641030B1 (en) | 1997-02-06 | 2003-11-04 | Speedline Technologies, Inc. | Method and apparatus for placing solder balls on a substrate |
| US6427903B1 (en) | 1997-02-06 | 2002-08-06 | Speedline Technologies, Inc. | Solder ball placement apparatus |
| US6056190A (en) * | 1997-02-06 | 2000-05-02 | Speedline Technologies, Inc. | Solder ball placement apparatus |
| US6360935B1 (en) * | 1999-01-26 | 2002-03-26 | Board Of Regents Of The University Of Texas System | Apparatus and method for assessing solderability |
| US7419085B2 (en) * | 2003-05-13 | 2008-09-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical processing apparatus |
| JP4242796B2 (ja) * | 2004-03-12 | 2009-03-25 | パナソニック株式会社 | 画像認識方法及び画像認識装置 |
| CN112215825A (zh) * | 2020-10-19 | 2021-01-12 | 杭州百子尖科技股份有限公司 | 新能源电池制造中基于机器视觉的质量分析方法及系统 |
| CN115049653B (zh) * | 2022-08-15 | 2022-12-06 | 凤芯微电子科技(聊城)有限公司 | 基于计算机视觉的集成电路板质量检测系统 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02278105A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-14 | Nec Corp | 半田付検査装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4454585A (en) * | 1981-05-28 | 1984-06-12 | Ele John H | Printed wiring board inspection, work logging and information system |
| JPS61290311A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Hitachi Ltd | はんだ付部の検査装置及びその方法 |
| US4878114A (en) * | 1988-05-10 | 1989-10-31 | University Of Windsor | Method and apparatus for assessing surface roughness |
| JP2688361B2 (ja) * | 1988-08-02 | 1997-12-10 | 正己 山川 | 光電センサ |
| US4974261A (en) * | 1988-11-15 | 1990-11-27 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Optical surface inspection method |
| US4999785A (en) * | 1989-01-12 | 1991-03-12 | Robotic Vision Systems, Inc. | Method and apparatus for evaluating defects of an object |
| US4988202A (en) * | 1989-06-28 | 1991-01-29 | Westinghouse Electric Corp. | Solder joint inspection system and method |
-
1989
- 1989-11-17 JP JP1300443A patent/JPH0810196B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-11-15 US US07/613,990 patent/US5148375A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-17 KR KR1019900018673A patent/KR940002503B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02278105A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-14 | Nec Corp | 半田付検査装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07270322A (ja) * | 1994-03-28 | 1995-10-20 | Nok Corp | 外観検査装置 |
| JP2013011448A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Denso Corp | 視覚装置 |
| JP2015055569A (ja) * | 2013-09-12 | 2015-03-23 | 株式会社Fdkエンジニアリング | 画像外観検査装置 |
| US11143695B2 (en) | 2018-07-17 | 2021-10-12 | Denso Corporation | Inspection device and inspection method for inspecting connected parts of a plurality of pins to a wiring board to detect a short circuit failure |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0810196B2 (ja) | 1996-01-31 |
| KR910010180A (ko) | 1991-06-29 |
| KR940002503B1 (ko) | 1994-03-25 |
| US5148375A (en) | 1992-09-15 |
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