JPH0316091Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 この考案は垂直磁気記録媒体と組み合せて使用
される垂直磁気ヘツドに関する。

従来の技術 従来、垂直磁気記録用フロツピーデイスク、ビ
デオテープレコーダ等の装置に適用される垂直磁
気ヘツドは第３図に示すように、フエライトから
なるヘツド基体１０の中央両側に一対の溝１１，
１１を形成してその間に巻線コア１２を設ける一
方、結晶化ガラスからなる一対の主磁極支持体１
３，１３で主磁極膜１４を挾み付け接着固定し、
この主磁極支持体１３，１３をヘツド基体１０上
に主磁極膜１４が巻線コア１２の中央と対応する
ように載せて接着固定する。次に主磁極支持体１
３，１３の媒体摺動面先端部を図に示すように鈍
角形状に加工すると共に、巻線コア１２に巻線１
５を施して所定のヘツド形状に仕上げていた。

ところで、ヘツドの巻線時のインダクタンスは
ヘツド基体１０の巻線コア１２の断面積の大小に
大きく依存し、断面積が大きくなる程大きくなる
傾向にある。インダクタンスが増加すると、巻線
コア１２へのコイル巻数を減らさなければなら
ず、感度が低下してしまう。また、インピーダン
スが上がるため、ノイズが増加し、Ｓ／Ｎ比が低
下すると共に、記録電流波形が悪くなる問題が生
じる。

この考案は以上の点に鑑みなされたもので、ヘ
ツド基体に設けた巻線コアの断面積を主磁極支持
体との接着強度を保ちつつ少なくし、巻線コアへ
のコイル巻数を減らすことなく巻線時のインダク
タンスを低減することを目的とする。

問題点を解決するための手段 上記の目的を達成するために、この考案は、中
央に巻線コアを有するヘツド基体に主磁極膜を挾
み付けてなる主磁極支持体を組み合せ接着固定し
たヘツドにおいて、主磁極支持体との接着面から
一段下がつたヘツド基体の両面に所定幅の切溝を
凹設し、上記巻線コアの切溝に巻線した構成を採
用した。

作 用 ヘツド基体の両面に切溝を凹設し、巻線コアの
切溝に巻線したことによりヘツド基体の巻線コア
の断面積が従来のヘツド構造に比べてかなり低減
する。これによりコイル巻数を減らすことなくイ
ンダクタンスを低減することができる。

また、切溝は主磁極支持体との接着面から一段
下がつたヘツド基体の両面部分に設けられるの
で、ヘツド基体と主磁極支持体との接着面積は従
来のものと変りなく、十分な接着強度を保つこと
ができる。

実施例 以下、この考案の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。

第１図はこの考案に係る垂直磁気ヘツドを示す
もので、上記従来例と同一部分には同一符号を付
し、説明を省略する。異なる点はヘツド基体２０
に切溝２４，２４を形成したことである。

ヘツド基体２０は上述と同様にフエライト材
（Mn−Zn，またはNi−Zn系）により矩形ブロツ
ク状に形成され、上部中央に形成された一対の溝
２１，２１間に巻線コア２２が設けられている。
巻線コア２２にはコイル２５が巻線される。

主磁極支持体１３，１３の媒体摺動面先端部
は、主磁極膜１４を挾み付けた中央部が先端方向
に突出するように、鈍角三角形状に形成されてい
る。

ヘツド基体２０の主磁極支持体１３，１３との
接着面から一段下がつた部分に切溝２４が形成さ
れている。切溝２４はヘツド基体２０の両面に、
主磁極膜１４と直交する幅方向を横切つて凹設さ
れている。切溝２４は、例えばダイサー等の精密
加工機により片面ずつ溝入れ加工して形成され
る。

切溝２４の幅は巻線コア２２のコイル２５が巻
線される部分の間隔よりも若干広くなつている。
この切溝２４の形成により巻線コア２２のコア幅
が小さくなり、その断面積が低減される。この断
面積の低減により、ヘツドのインダクタンスが減
少する。また、これによりコイル巻数を減らすこ
となく巻線コア２２にコイル２５を巻線すること
ができる。

以上の構成によると、切溝２４がヘツド基体２
０と主磁極支持体１３，１３との接着面から間隔
ｌだけ一段下がつたところに設けられているの
で、接着面積は従来構造のものと全く変りなく、
接着強度は十分に確保できる。

なお、上記実施例では、切溝２４をヘツド基体
２０の幅方向全長を横切つて形成するようにして
あるが、第２図に示すように巻線コア２２の部分
両面にだけ切溝３０を設けるようにしても良い。

考案の効果 以上説明したとおり、この考案に係る垂直磁気
ヘツド構造によれば、巻線コアのコア幅が小さく
なり、その断面積を従来構造のものに比べて減ら
すことができる。したがつて、巻線コアへのコイ
ル巻数を減らすことなく、ヘツドインダクタンス
を低減することができる。これによつてヘツドの
インピーダンスが下がり、ノイズの低減でＳ／Ｎ
比が向上すると共に、記録電流波形が改善され
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る垂直磁気ヘツドを示す斜
視図、第２図は同磁気ヘツドの他の実施例を示す
斜視図、第３図は従来のヘツド構造を示す斜視図
である。 ２０……ヘツド基体、１３，１３……主磁極支
持体、２４，３０……切溝、１４……主磁極膜。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 中央に形成された一対の溝間に巻線コアを有
   するフエライト材で形成されたヘツド基体と、
   パターン化された主磁極膜を挾み付けて固定さ
   れ、該主磁極膜が前記巻線コアと対応するよう
   に前記ヘツド基体に組み合わされて接着固定さ
   れる一対の結晶化ガラスからなる主磁極支持体
   とからなるものにおいて、前記ヘツド基体の前
   記主磁極支持体との接着面から一段下がつた部
   分両面に所定幅の切溝が凹設され、前記巻線コ
   アの前記切溝に巻線されて成る垂直磁気ヘツ
   ド。 (2) 前記切溝が前記巻線コアの部分両面に設けら
   れて成る実用新案登録請求の範囲第異１項記載
   の垂直磁気ヘツド。 (3) 前記切溝が前記ヘツド基体両面に幅方向を横
   切つて設けられて成る実用新案登録請求の範囲
   第１項記載の垂直磁気ヘツド。