JPH03161A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPH03161A JPH03161A JP13218389A JP13218389A JPH03161A JP H03161 A JPH03161 A JP H03161A JP 13218389 A JP13218389 A JP 13218389A JP 13218389 A JP13218389 A JP 13218389A JP H03161 A JPH03161 A JP H03161A
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ウェブに先に塗布した塗布層上に押出し型塗
布ヘッドから塗布液を押出し塗布して複数層の塗布層を
得る塗布方法に関する。
布ヘッドから塗布液を押出し塗布して複数層の塗布層を
得る塗布方法に関する。
磁気記録媒体を製造する際の磁性塗料の塗布、写真感光
材料の塗布、感熱記録材料の塗布などに際して、塗布ヘ
ッドの狭いスロットから塗布液を押出しながらウェブに
対して塗布する押出し塗布方法（エクストルージョンコ
ート法）を用いることが知られている。
材料の塗布、感熱記録材料の塗布などに際して、塗布ヘ
ッドの狭いスロットから塗布液を押出しながらウェブに
対して塗布する押出し塗布方法（エクストルージョンコ
ート法）を用いることが知られている。
この押出し塗布方法は、ロールコート法、グラビアコー
ト法、スライドコート法、あるいはドクターコート法を
付加した方法などに対して膜厚制御性に優れるなどの利
点がある。
ト法、スライドコート法、あるいはドクターコート法を
付加した方法などに対して膜厚制御性に優れるなどの利
点がある。
近年、たとえば、磁気記録媒体においては、下塗層、中
間層を形成することや、これらの上に磁性層を形成する
こと、また磁性層を複数化することが行われている。
間層を形成することや、これらの上に磁性層を形成する
こと、また磁性層を複数化することが行われている。
このような、複数の塗布層を積み重ねる場合、従来の一
般的方法は、−層目塗布を行いその塗料を乾燥させたの
ち、二層目を塗布しこれを乾燥させる、いわゆるウェッ
ト・オン・ドライ方式である。
般的方法は、−層目塗布を行いその塗料を乾燥させたの
ち、二層目を塗布しこれを乾燥させる、いわゆるウェッ
ト・オン・ドライ方式である。
しかし、このウェット・オン・ドライ方式では、ライン
長が長くなる、上層用の塗布液中の溶媒が下層を溶解さ
せることがある、良好な塗布性が得られないなどの理由
によって、近時は、−層目の塗布液が乾燥していない状
態で二層目の塗布液を塗布する、いわゆるウェット・オ
ン・ウェット方式がよいとされつつある。
長が長くなる、上層用の塗布液中の溶媒が下層を溶解さ
せることがある、良好な塗布性が得られないなどの理由
によって、近時は、−層目の塗布液が乾燥していない状
態で二層目の塗布液を塗布する、いわゆるウェット・オ
ン・ウェット方式がよいとされつつある。
また、重層塗布方法に関しては、いくつかの提案があり
、たとえば特開昭６２−１２４６３１号、同６２−９２
１３２号、同６２−２１４５２４号、同６３−１６４０
２２号、同６３−１６４０２３号、特公昭５７−１７２
９１号公報を挙げることができる。
、たとえば特開昭６２−１２４６３１号、同６２−９２
１３２号、同６２−２１４５２４号、同６３−１６４０
２２号、同６３−１６４０２３号、特公昭５７−１７２
９１号公報を挙げることができる。
さらに、単層塗布において、特開昭６２−１１７６６６
号では、フロントエツジ面の終端とウェブとの間に塗布
液の液溜まりを保持することが好ましいことを開示して
いる。
号では、フロントエツジ面の終端とウェブとの間に塗布
液の液溜まりを保持することが好ましいことを開示して
いる。
しかしながら、これらの各提案においては、先に塗布し
た塗布層上に押出し塗布ヘッドから塗布する際に、その
塗布液の塗布液圧を如何にすべきかについて、なんらの
開示がない。
た塗布層上に押出し塗布ヘッドから塗布する際に、その
塗布液の塗布液圧を如何にすべきかについて、なんらの
開示がない。
また、特開昭６２−１１７６６６号には、塗布液圧につ
いて開示があるけれども、これは単層塗布における条件
を示したものである。
いて開示があるけれども、これは単層塗布における条件
を示したものである。
さらに、この種の押出し塗布では、支持体に同伴するエ
アが塗布液に混入して泡故障などを防止するために、塗
布ヘッドをウェブに対して強く押し込み、塗布ヘッドの
フロントエツジ面にウェブが接触するようにしているが
、この態様を二層目の塗布に適用すると、−層目の塗膜
を掻き落すことに伴うスジ故障や、膜厚ムラなどの塗布
性の悪化を招く。
アが塗布液に混入して泡故障などを防止するために、塗
布ヘッドをウェブに対して強く押し込み、塗布ヘッドの
フロントエツジ面にウェブが接触するようにしているが
、この態様を二層目の塗布に適用すると、−層目の塗膜
を掻き落すことに伴うスジ故障や、膜厚ムラなどの塗布
性の悪化を招く。
そこで、本発明の主たる目的は、ウェット・オン・ウェ
ット塗布方式において、スジ故障や膜厚ムラなどがなく
、良好な塗布性を得ることができる塗布方法を提供する
ことにある。
ット塗布方式において、スジ故障や膜厚ムラなどがなく
、良好な塗布性を得ることができる塗布方法を提供する
ことにある。
上記課題は、連続的に走行している可撓性ウェブに、先
に塗布した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール間
に配された押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗布
液が未乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しない
状態で、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する方法
において；前記当該塗布ヘッドから塗布する塗布液のウ
ェブに対してバックェツジ面が最も接近している部位の
塗布液圧Ｐが、塗布幅５０Ｃ１！１当たり、ｏ、 ｏｏ
ｉ≦Ｐ≦０．４ （ｋｇ／ａｌ）とすることで解決でき
る。
に塗布した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール間
に配された押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗布
液が未乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しない
状態で、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する方法
において；前記当該塗布ヘッドから塗布する塗布液のウ
ェブに対してバックェツジ面が最も接近している部位の
塗布液圧Ｐが、塗布幅５０Ｃ１！１当たり、ｏ、 ｏｏ
ｉ≦Ｐ≦０．４ （ｋｇ／ａｌ）とすることで解決でき
る。
本発明によると、上層塗布用の塗布ヘッドのバックェツ
ジ面とウェブとの間に液溜まりを保持して塗布するとと
もに、ウェブに対してバックェツジ面が最も接近してい
る部位の塗布液圧をきわめて小さく設定しているので、
下層の塗布液に対する影響が殆どなくなり、良好な塗布
性を得ることができる。
ジ面とウェブとの間に液溜まりを保持して塗布するとと
もに、ウェブに対してバックェツジ面が最も接近してい
る部位の塗布液圧をきわめて小さく設定しているので、
下層の塗布液に対する影響が殆どなくなり、良好な塗布
性を得ることができる。
以下本発明をさらに詳説する。
第１図は第１の態様の塗布装置の全体図で、下層および
上層とも押出し型塗布ヘッドにより塗布する例であり、
可撓性支持体（ウェブ）■は、図示しないガイドロール
を通って第１サポートロール２、第２サポートロール３
および第３サポートロール４に案内され、ガイドロール
を通って乾燥工程に導かれる。
上層とも押出し型塗布ヘッドにより塗布する例であり、
可撓性支持体（ウェブ）■は、図示しないガイドロール
を通って第１サポートロール２、第２サポートロール３
および第３サポートロール４に案内され、ガイドロール
を通って乾燥工程に導かれる。
第１サポートロール２と第２サポートロール３との間に
おいて、上流側塗布ヘッド５Ａがウェブ１を押し込むよ
うに配設され、また第２サポートロール３と第３サポー
トロール４との間には下流側塗布ヘッド５Ｂが下層塗布
済のウェブに対して押し込むように配設されている。
おいて、上流側塗布ヘッド５Ａがウェブ１を押し込むよ
うに配設され、また第２サポートロール３と第３サポー
トロール４との間には下流側塗布ヘッド５Ｂが下層塗布
済のウェブに対して押し込むように配設されている。
各塗布ヘッド５Ａまたは５Ｂは、フロントエツジ部材５
０とバックェツジ部材５１とを備え、それらの間に液溜
め部５２に連通ずるスロット５３を有する。塗布液は、
ポンプにより液溜め部５２に圧送され、スロット５３か
ら背面が支持されていない状態のウェブ１に対して塗布
がなされる。
０とバックェツジ部材５１とを備え、それらの間に液溜
め部５２に連通ずるスロット５３を有する。塗布液は、
ポンプにより液溜め部５２に圧送され、スロット５３か
ら背面が支持されていない状態のウェブ１に対して塗布
がなされる。
本発明においては、連続的に走行している可撓性ウェブ
ｌに、まずその上流側サポートロールすなわち第１サポ
ートロール２と下流側サポートロールすなわち第２サポ
ートロール３との間に配された上流側第１塗布ヘツド５
Ａから下層用塗布液１０を塗布して下層の塗布を行い、
次いでその塗布液１０が未乾燥状態において、第２サポ
ートロール３と第３サポートロール４との間に配された
下流側第２塗布ヘツド５Ｂから上層用塗布液２０を塗布
して積層塗布する、いわゆるウェット・オン・ウェット
塗布方法において；第２塗布ヘツド５Ｂからの塗布液圧
Ｐが規定される。
ｌに、まずその上流側サポートロールすなわち第１サポ
ートロール２と下流側サポートロールすなわち第２サポ
ートロール３との間に配された上流側第１塗布ヘツド５
Ａから下層用塗布液１０を塗布して下層の塗布を行い、
次いでその塗布液１０が未乾燥状態において、第２サポ
ートロール３と第３サポートロール４との間に配された
下流側第２塗布ヘツド５Ｂから上層用塗布液２０を塗布
して積層塗布する、いわゆるウェット・オン・ウェット
塗布方法において；第２塗布ヘツド５Ｂからの塗布液圧
Ｐが規定される。
この塗布液圧Ｐは、前記特開昭６２−１１７６６６号公
報と同様に、次のようにして測定したもので規定できる
。
報と同様に、次のようにして測定したもので規定できる
。
すなわち、前記ポンプと液溜め部５２との間に圧力計を
設け、好ましくは塗布ヘッド５の近傍に設け、塗布ヘッ
ド５とウェブ１とを接触させていない状態で塗布液をス
ロット５３から流出させ、ウェブｌに塗布液を塗布して
いないときの前記圧力計が示す値をｐ、１ｑｌｒｌｃｄ
とし、次に塗布ヘッド５をウェブｌに接触または接近さ
せた状態で、塗布していないときと同じ流量でスロット
５３から同じ塗布液をウェブ１に対して押出して塗布を
行っているときにおいて、前記圧力計が示す値をＰＯｋ
ｇ／ｃｒｌとした場合、これらの差圧を本発明に、言う
塗布液圧Ｐとして規定できる。よって、次式によって表
すことができる。
設け、好ましくは塗布ヘッド５の近傍に設け、塗布ヘッ
ド５とウェブ１とを接触させていない状態で塗布液をス
ロット５３から流出させ、ウェブｌに塗布液を塗布して
いないときの前記圧力計が示す値をｐ、１ｑｌｒｌｃｄ
とし、次に塗布ヘッド５をウェブｌに接触または接近さ
せた状態で、塗布していないときと同じ流量でスロット
５３から同じ塗布液をウェブ１に対して押出して塗布を
行っているときにおいて、前記圧力計が示す値をＰＯｋ
ｇ／ｃｒｌとした場合、これらの差圧を本発明に、言う
塗布液圧Ｐとして規定できる。よって、次式によって表
すことができる。
Ｐ＝ＰＯ−Ｐ、 ・・・・・・（１）そして、この５
０国当部りの塗布液圧Ｐが（２）式の条件を満足するこ
とが要求される。
０国当部りの塗布液圧Ｐが（２）式の条件を満足するこ
とが要求される。
０、００１≦Ｐ≦０．４ （ｋｇ／ｃｄ）・・・・・・
（２）塗布液圧Ｐが大きいと、所望の膜厚が得難いとと
もに、フロントエツジ面５０ａのたとえば終端Ｅに先に
塗布した塗布層１０が当接しその塗布層を掻き落とすこ
とによってスジ故障を招くことがある。また、塗布液圧
Ｐが小さいと、膜厚の変動が大きく良好な塗布を行うこ
とができない。
（２）塗布液圧Ｐが大きいと、所望の膜厚が得難いとと
もに、フロントエツジ面５０ａのたとえば終端Ｅに先に
塗布した塗布層１０が当接しその塗布層を掻き落とすこ
とによってスジ故障を招くことがある。また、塗布液圧
Ｐが小さいと、膜厚の変動が大きく良好な塗布を行うこ
とができない。
塗布液圧Ｐの上限値は、より好ましくは０．２ｋｇ／ａ
ｌ１未満が好ましい。
ｌ１未満が好ましい。
また、第３図に示すように、フロントエツジ部材５０の
フロントエツジ面５０ａ１特にその終端Ｅが下層または
下層液に当たらないことがあるいは当たっても弱いこと
が下層液１０の削り取るを防止するために好ましい。
フロントエツジ面５０ａ１特にその終端Ｅが下層または
下層液に当たらないことがあるいは当たっても弱いこと
が下層液１０の削り取るを防止するために好ましい。
上記例においては、下層塗布に当たり、塗布ヘッド５Ａ
による押出し塗布を行っているが、グラビアコート法な
どの他の塗布方法でもよい。下層および上層をともに押
出し塗布方法を採用するとき、上流側塗布ヘッド４Ａと
下流側塗布ヘッド４Ｂとは、その少なくともエツジ面が
同一形状であるのが好ましい。
による押出し塗布を行っているが、グラビアコート法な
どの他の塗布方法でもよい。下層および上層をともに押
出し塗布方法を採用するとき、上流側塗布ヘッド４Ａと
下流側塗布ヘッド４Ｂとは、その少なくともエツジ面が
同一形状であるのが好ましい。
下層用塗布液と上層用塗布液とは同じのほか、異なって
いてもよい。たとえば、磁気記録媒体を得るにあたり、
下層が下引き層、上層が磁性層、あるいは下層が磁性層
、上層が保護層の場合である。両層が磁性層であるとき
、各磁性塗料の性状が異なっていてもよい゛。
いてもよい。たとえば、磁気記録媒体を得るにあたり、
下層が下引き層、上層が磁性層、あるいは下層が磁性層
、上層が保護層の場合である。両層が磁性層であるとき
、各磁性塗料の性状が異なっていてもよい゛。
次に本発明の実施例を示し、本発明の効果を明かにする
。
。
１４μｍ厚のポリエチレンテレフタレートからなる支持
体に、次記の各磁性塗料を、塗布速度２００ｍ／分で、
乾燥膜厚として、下層を３．５μｍ、上層を１．０μｍ
に塗布したときにおける、第３図に示す第２塗布ヘッド
部における下層液の掻き落とし状況、塗布後のスジ故障
や塗布ムラを調べた。
体に、次記の各磁性塗料を、塗布速度２００ｍ／分で、
乾燥膜厚として、下層を３．５μｍ、上層を１．０μｍ
に塗布したときにおける、第３図に示す第２塗布ヘッド
部における下層液の掻き落とし状況、塗布後のスジ故障
や塗布ムラを調べた。
組成中、部とは全て重量部である。
く上層〉
★Ｃｏ含有磁性酸化鉄（Ｈｃ＝９０００ ｅ。
ＢＥＴ値４５イ／ｇ） １５０部★ポリウレ
タン樹脂 １０部★塩化ビニルー酢酸ビ
ニル共重合体 ２０部★アルミナ粉末
１０部★ミリスチン酸 ２部
★ステアリン酸ブチル １部★ポリイソ
シアネート １０部★トルエン
２００部★メチルエチルケトン
２００部★カーボンブラック １０
部く下層〉 ７ Ｆｅ２ｅ３粉末（Ｈｃ＝７０００ ｅ。
タン樹脂 １０部★塩化ビニルー酢酸ビ
ニル共重合体 ２０部★アルミナ粉末
１０部★ミリスチン酸 ２部
★ステアリン酸ブチル １部★ポリイソ
シアネート １０部★トルエン
２００部★メチルエチルケトン
２００部★カーボンブラック １０
部く下層〉 ７ Ｆｅ２ｅ３粉末（Ｈｃ＝７０００ ｅ。
ＢＥＴ値２５ｆｆｒ／ｇ） ｌ ＯＯ部★α
−ＡＬＯｉ ｓ部★カーボンブラッ
ク ５部★塩化ビニル共重合体
２０部★ポリウレタン樹脂
７部★ブチルステアレート １部★ミ
ルスチン酸 ０．６５部★ステアリ
ン酸 ０．３５部★メチルエチルケ
トン １５０部★トルエン
１５０部★オレイン酸
０，６５部★ポリイソシアネート １０
部その結果、前記塗布液圧Ｐが、０．００１ｋｇ／ａ１
未満では、膜厚変動が大きく、逆に０．４ｋｇ／ａｄを
超えるとスジ故障が発生することが判明した。
−ＡＬＯｉ ｓ部★カーボンブラッ
ク ５部★塩化ビニル共重合体
２０部★ポリウレタン樹脂
７部★ブチルステアレート １部★ミ
ルスチン酸 ０．６５部★ステアリ
ン酸 ０．３５部★メチルエチルケ
トン １５０部★トルエン
１５０部★オレイン酸
０，６５部★ポリイソシアネート １０
部その結果、前記塗布液圧Ｐが、０．００１ｋｇ／ａ１
未満では、膜厚変動が大きく、逆に０．４ｋｇ／ａｄを
超えるとスジ故障が発生することが判明した。
以上のとおり、本発明によれば、ウェット・オン・ウェ
ット塗布方式において、スジ故障や膜厚ムラなどがなく
、良好な塗布性を得ることができる。
ット塗布方式において、スジ故障や膜厚ムラなどがなく
、良好な塗布性を得ることができる。
第１図は本発明法を実施するための塗布装置例の概要図
、第２図は上流側塗布ヘッドによる塗布状況断面図、第
３図は下流側塗布ヘッドによる塗布状況断面図である。 １・・・ウェブ ２・・・第１サポートロール３・・
・第２サポートロール ４・・・第３サポートロール ５Ａ、５Ｂ・・−塗布ヘッド １０−・・下層用塗布液 ２０・・・上層用塗布液 第２図 第１図
、第２図は上流側塗布ヘッドによる塗布状況断面図、第
３図は下流側塗布ヘッドによる塗布状況断面図である。 １・・・ウェブ ２・・・第１サポートロール３・・
・第２サポートロール ４・・・第３サポートロール ５Ａ、５Ｂ・・−塗布ヘッド １０−・・下層用塗布液 ２０・・・上層用塗布液 第２図 第１図
Claims (1)
- （１）連続的に走行している可撓性ウェブに、先に塗布
した塗布層上に次の塗布液を、サポートロール間に配さ
れた押出し型塗布ヘッドから、先に塗布した塗布液が未
乾燥状態においてかつウェブの背面を支持しない状態で
、当該塗布ヘッドから塗布液を積層塗布する方法におい
て； 前記当該塗布ヘッドから塗布する塗布液のウェブに対し
てバックエッジ面が最も接近している部位の塗布液圧Ｐ
が、塗布幅５０ｃｍ当たり、０．００１≦Ｐ≦０．４（
ｋｇ／ｃｍ＾２）とすることを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13218389A JP2646265B2 (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP13218389A JP2646265B2 (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03161A true JPH03161A (ja) | 1991-01-07 |
| JP2646265B2 JP2646265B2 (ja) | 1997-08-27 |
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ID=15075330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13218389A Expired - Fee Related JP2646265B2 (ja) | 1989-05-25 | 1989-05-25 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2646265B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980049834A (ko) * | 1996-12-20 | 1998-09-15 | 박병재 | 차량용 무단 변속장치 |
| US6589954B1 (en) | 1998-05-22 | 2003-07-08 | Scios, Inc. | Compounds and methods to treat cardiac failure and other disorders |
| US6864260B2 (en) | 1999-09-17 | 2005-03-08 | Scios, Inc. | Indole-type derivatives as inhibitors of p38 kinase |
| JP2014049184A (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-17 | Hitachi Ltd | リチウムイオン二次電池の製造方法及び製造装置 |
| JP2016131926A (ja) * | 2015-01-19 | 2016-07-25 | 住友ベークライト株式会社 | 塗工装置、塗工方法、金属箔張基板、回路基板、電子部品搭載基板および電子機器 |
-
1989
- 1989-05-25 JP JP13218389A patent/JP2646265B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR19980049834A (ko) * | 1996-12-20 | 1998-09-15 | 박병재 | 차량용 무단 변속장치 |
| US6589954B1 (en) | 1998-05-22 | 2003-07-08 | Scios, Inc. | Compounds and methods to treat cardiac failure and other disorders |
| US6864260B2 (en) | 1999-09-17 | 2005-03-08 | Scios, Inc. | Indole-type derivatives as inhibitors of p38 kinase |
| US7189726B2 (en) | 1999-09-17 | 2007-03-13 | Scios, Inc. | Benzofuran derivatives as inhibitors of p38-α kinase |
| US7238712B2 (en) | 1999-09-17 | 2007-07-03 | Scios, Inc. | Indole-type derivatives as inhibitors of p38 kinase |
| US7304048B2 (en) | 1999-09-17 | 2007-12-04 | Scios, Inc. | Indole-type derivatives as inhibitors of p38 kinase |
| JP2014049184A (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-17 | Hitachi Ltd | リチウムイオン二次電池の製造方法及び製造装置 |
| JP2016131926A (ja) * | 2015-01-19 | 2016-07-25 | 住友ベークライト株式会社 | 塗工装置、塗工方法、金属箔張基板、回路基板、電子部品搭載基板および電子機器 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2646265B2 (ja) | 1997-08-27 |
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