JPH03165295A - ヘリカルシステムの制御装置 - Google Patents
ヘリカルシステムの制御装置Info
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- JPH03165295A JPH03165295A JP1305631A JP30563189A JPH03165295A JP H03165295 A JPH03165295 A JP H03165295A JP 1305631 A JP1305631 A JP 1305631A JP 30563189 A JP30563189 A JP 30563189A JP H03165295 A JPH03165295 A JP H03165295A
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- coil
- helical
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
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- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、核融合装置に係り、特に、無電流プラズマを
生成するヘリカルシステムの制御装置に関するものであ
る。
生成するヘリカルシステムの制御装置に関するものであ
る。
従来のヘリカルシステムは、例えば「日立評論」Ｖｏｌ
、６６Ｎｃｉ９ （１９８４−９） ｐ １１〜１４に
記載のように、無電流プラズマの生成時には、ヘリカル
コイルとポロイダルコイルの電流を設定値に予め維持し
ておき、外部から中性粒子や高周波電力を入射させてプ
ラズマを生成し、上記コイルの発生する磁場によりプラ
ズマを閉じ込めていた。
、６６Ｎｃｉ９ （１９８４−９） ｐ １１〜１４に
記載のように、無電流プラズマの生成時には、ヘリカル
コイルとポロイダルコイルの電流を設定値に予め維持し
ておき、外部から中性粒子や高周波電力を入射させてプ
ラズマを生成し、上記コイルの発生する磁場によりプラ
ズマを閉じ込めていた。
ところが、上記従来技術は、プラズマ電流についての制
御は積極的には実行しておらず、ヘリカルコイル電流あ
るいはポロイダルコイル電流の変化時にまたは外部から
の中性粒子や高周波の入射によるプラズマ加熱時に、過
渡的にプラズマ電流が生じ、ヘリカルシステム本来のプ
ラズマ閉じ込め効果が悪化する点については、配慮がな
かった。
御は積極的には実行しておらず、ヘリカルコイル電流あ
るいはポロイダルコイル電流の変化時にまたは外部から
の中性粒子や高周波の入射によるプラズマ加熱時に、過
渡的にプラズマ電流が生じ、ヘリカルシステム本来のプ
ラズマ閉じ込め効果が悪化する点については、配慮がな
かった。
本発明の目的は、ヘリカルコイル電流あるいはポロイダ
ルコイル電流の変化またはプラズマ加熱時にプラズマ電
流が過渡的に生ずることを防止して、ヘリカルシステム
の特徴である無電流プラズマを常に維持できるヘリカル
システムの制御装置を提供することである。
ルコイル電流の変化またはプラズマ加熱時にプラズマ電
流が過渡的に生ずることを防止して、ヘリカルシステム
の特徴である無電流プラズマを常に維持できるヘリカル
システムの制御装置を提供することである。
本発明は、上記目的を達成するために、ヘリカルコイル
とポロイダルコイルと前記両コイルを励磁する電源とを
備え、環状の真空容器にプラズマを閉じ込めるヘリカル
システムにおいて、ヘリカルコイル電流あるいはボロ・
イダルコイル電流の過渡的変化時またはプラズマ温度変
更時にプラズマを一周する方向に生ずる電圧により発生
するプラズマ電流を検出する手段と、発生したプラズマ
電流を打ち消す方向に前記一周電圧とは逆の電圧を印加
する変流器とを設けたヘリカルシステムの制御装置を提
案するものである。
とポロイダルコイルと前記両コイルを励磁する電源とを
備え、環状の真空容器にプラズマを閉じ込めるヘリカル
システムにおいて、ヘリカルコイル電流あるいはボロ・
イダルコイル電流の過渡的変化時またはプラズマ温度変
更時にプラズマを一周する方向に生ずる電圧により発生
するプラズマ電流を検出する手段と、発生したプラズマ
電流を打ち消す方向に前記一周電圧とは逆の電圧を印加
する変流器とを設けたヘリカルシステムの制御装置を提
案するものである。
前記変流器は、真空容器と鎖交する鉄心とこの鉄心に巻
き回された変流器コイルとを含んでもよいし、真空容器
の外側に前記ポロイダルコイルと同心円状に巻き回され
た複数の空心変流器巻線を含むようにすることもできる
。
き回された変流器コイルとを含んでもよいし、真空容器
の外側に前記ポロイダルコイルと同心円状に巻き回され
た複数の空心変流器巻線を含むようにすることもできる
。
ヘリカルコイル電流あるいはポロイダルコイル電流の過
渡的変化時またはプラズマ加熱（温度変更）時に、変流
器の２次巻線に相当するプラズマのトロイダル方向すな
わち環状方向に一周して測定すると、電位差を生ずるこ
とがある。本明細書ではこのトロイダル方向の電位差を
一周電圧という、プラズマには、この一周電圧とプラズ
マ抵抗とで定まる電流が流れる。
渡的変化時またはプラズマ加熱（温度変更）時に、変流
器の２次巻線に相当するプラズマのトロイダル方向すな
わち環状方向に一周して測定すると、電位差を生ずるこ
とがある。本明細書ではこのトロイダル方向の電位差を
一周電圧という、プラズマには、この一周電圧とプラズ
マ抵抗とで定まる電流が流れる。
そこで、このプラズマ電流をワンターンコイルやロゴス
キーコイル等の検出用コイルと積分器とにより検出し、
プラズマ電流が常に零となるように本発明で設けた変流
器コイル電流を制御すれば、上記目的が達成されること
になる。
キーコイル等の検出用コイルと積分器とにより検出し、
プラズマ電流が常に零となるように本発明で設けた変流
器コイル電流を制御すれば、上記目的が達成されること
になる。
第１図は、本発明によるヘリカルシステムの制御装置の
一実施例を示すブロック図、第２図は制御対象のヘリカ
ルシステムの構造の概略を示す図である。
一実施例を示すブロック図、第２図は制御対象のヘリカ
ルシステムの構造の概略を示す図である。
これらの図において、ヘリカルコイル１は、環状の真空
容器３０の周りに巻き回されている１代表的な例として
、本実施例では、真空容器３０の子牛面の断面をヘリカ
ルコイル１が２回横切るものとする。さらに、第２図で
一対に描かれたヘリカルコイルｌは、第１図に示すよう
に、電気的には直列に接続されている。ポロイダルコイ
ル２は、真空容器３０と同心円状に設置される。ポロイ
ダルコイル２も、ヘリカルコイル１と同様に、電気的に
は直列に接続されている。ヘリカルコイル１およびポロ
イダルコイル２は、プラズマ５を閉じ込める磁場を発生
させる１本発明では、変流器コイル３および鉄心４から
なる変流器をプラズマ５に鎖交するように設置しである
。上記各コイルは、それぞれヘリカルコイル電源７、ポ
ロイダルコイル電源８、変流器コイル電源９により励磁
される。
容器３０の周りに巻き回されている１代表的な例として
、本実施例では、真空容器３０の子牛面の断面をヘリカ
ルコイル１が２回横切るものとする。さらに、第２図で
一対に描かれたヘリカルコイルｌは、第１図に示すよう
に、電気的には直列に接続されている。ポロイダルコイ
ル２は、真空容器３０と同心円状に設置される。ポロイ
ダルコイル２も、ヘリカルコイル１と同様に、電気的に
は直列に接続されている。ヘリカルコイル１およびポロ
イダルコイル２は、プラズマ５を閉じ込める磁場を発生
させる１本発明では、変流器コイル３および鉄心４から
なる変流器をプラズマ５に鎖交するように設置しである
。上記各コイルは、それぞれヘリカルコイル電源７、ポ
ロイダルコイル電源８、変流器コイル電源９により励磁
される。
これらのコイルの励磁量は、制御装置！１０から指令値
として、各電源に与えられる。
として、各電源に与えられる。
制御部［１０は、後述するように、ヘリカルコイル１と
ポロイダルコイル２との電流指令値を時系列データとし
て予め生成しておくプレプログラム部１１と、積分器１
３およびプラズマ電流制御部１４とを含んでいる。この
うち、プレプログラム部１１は、従来と特に変わったと
ころはない。
ポロイダルコイル２との電流指令値を時系列データとし
て予め生成しておくプレプログラム部１１と、積分器１
３およびプラズマ電流制御部１４とを含んでいる。この
うち、プレプログラム部１１は、従来と特に変わったと
ころはない。
積分器１３とプラズマ電流制御部１４とが本発明により
追加された部分である。
追加された部分である。
積分器１３は、真空容器３０の内側に設置されたロゴス
キーコイル６の出力信号を積分し、プラズマ電流を求め
る。プラズマ電流制御部１４は求められたプラズマ電流
を打ち消すように、逆方向の電流指令を出力する。
キーコイル６の出力信号を積分し、プラズマ電流を求め
る。プラズマ電流制御部１４は求められたプラズマ電流
を打ち消すように、逆方向の電流指令を出力する。
なお５以上の構成において、変流器コイル３および鉄心
４以外の要素すなわちヘリカルコイル１、ポロイダルコ
イル２、ロゴスキーコイル６、真空容器３０は、図示し
ない断熱容器内に設置される場合もある。それは、例え
ば、ヘリカルコイル１やポロイダルコイル２が、発生す
る磁場強度と十分な経済性とを両立させることを目的と
して、超電導コイルで構成されるような場合である。
４以外の要素すなわちヘリカルコイル１、ポロイダルコ
イル２、ロゴスキーコイル６、真空容器３０は、図示し
ない断熱容器内に設置される場合もある。それは、例え
ば、ヘリカルコイル１やポロイダルコイル２が、発生す
る磁場強度と十分な経済性とを両立させることを目的と
して、超電導コイルで構成されるような場合である。
第３図は、制御装置１０の積分器１３とプラズマ電流制
御部１４の詳細な構成の一例を示す図である。積分器１
３は、バッファアンプ１５と、積分回路１６と、積分の
タイミングを決めるスイッチ１７とを含んでいる。スイ
ッチ１７は、後述のように、ヘリカルコイル電流および
ポロイダルコイル電流印加開始時に開き、遮断後に閉じ
る。−方、プラズマ電流制御部１４は、参照信号発生器
１８と、偏差演算部１９と、制御演算部２０とを含んで
いる。
御部１４の詳細な構成の一例を示す図である。積分器１
３は、バッファアンプ１５と、積分回路１６と、積分の
タイミングを決めるスイッチ１７とを含んでいる。スイ
ッチ１７は、後述のように、ヘリカルコイル電流および
ポロイダルコイル電流印加開始時に開き、遮断後に閉じ
る。−方、プラズマ電流制御部１４は、参照信号発生器
１８と、偏差演算部１９と、制御演算部２０とを含んで
いる。
積分器１３は、ロゴスキーコイル６からの信号を取り込
み、バッファアンプ１５により、真空容器３０との間に
絶縁を確保した後、積分回路１６により、積分を実行す
る。ロゴスキーコイル６の出力信号Ｖ□は、第２図にお
いてこのコイル６が囲む領域の全電流すなわちプラズマ
電流Ｉｐの変化率に比例した値である。
み、バッファアンプ１５により、真空容器３０との間に
絶縁を確保した後、積分回路１６により、積分を実行す
る。ロゴスキーコイル６の出力信号Ｖ□は、第２図にお
いてこのコイル６が囲む領域の全電流すなわちプラズマ
電流Ｉｐの変化率に比例した値である。
ただし、ｋ、は比例定数。
したがって、上記信号ｖ１を積分した結果■２は、ただ
し、τは積分時定数ＣＩＲｒ ＋ ｋ ２は比例定数。
し、τは積分時定数ＣＩＲｒ ＋ ｋ ２は比例定数。
積分は、後述のように、スイッチ１７が開くとともに開
始され、閉じると終了する。
始され、閉じると終了する。
次に、プラズマ電流制御部１４は、まず、積分器１３か
らの出力信号Ｖ２＝に、Ｉｐを入力とし。
らの出力信号Ｖ２＝に、Ｉｐを入力とし。
偏差演算部１９において、参照信号発生器１８からのプ
ラズマ電流参照値Ｉｐｒｅｉとプラズマ電流Ｉｐとの偏
差ΔＩｐを演算する。ここで、積分器１３の出力信号ｖ
２は、偏差演算部１９の前段部１９ａで符号反転すると
ともに、比例定数Ｒｘ ／Ｒ１がかけられる。ここで、
Ｒａ ／ Ｒ１” １ ／ ｋ ａと選ぶと。
ラズマ電流参照値Ｉｐｒｅｉとプラズマ電流Ｉｐとの偏
差ΔＩｐを演算する。ここで、積分器１３の出力信号ｖ
２は、偏差演算部１９の前段部１９ａで符号反転すると
ともに、比例定数Ｒｘ ／Ｒ１がかけられる。ここで、
Ｒａ ／ Ｒ１” １ ／ ｋ ａと選ぶと。
ｖ、Ｘ （−ｉ）ＸＲ２／Ｒ。
＝に、■ｐｘ （−１）ｘｉ／に、＝Ｉｐとなる。
そこで、偏差演算部の後段部１９ｂにおいて、プラズマ
電流参照値Ｉｐｒｅｚとプラズマ電流Ｉｐとの偏差ΔＩ
Ｐを演算するが、本実施例では、プラズマ電流を常に零
に制御するため、Ｉｐｒｅｚ＝０とする。したがって、
ΔＩｐ＝−Ｉｐとなり、本来零であるべきプラズマ電流
が外部磁場の変動等により影響を受けた正味の値となる
。制御演算部２０は、この偏差に基づき、変流器コイル
電源９に対し、電流指令値を出力する０本例の制御演算
部２０は１例えば比例積分要素２１により、比例積分型
の制御演算を実行する。
電流参照値Ｉｐｒｅｚとプラズマ電流Ｉｐとの偏差ΔＩ
Ｐを演算するが、本実施例では、プラズマ電流を常に零
に制御するため、Ｉｐｒｅｚ＝０とする。したがって、
ΔＩｐ＝−Ｉｐとなり、本来零であるべきプラズマ電流
が外部磁場の変動等により影響を受けた正味の値となる
。制御演算部２０は、この偏差に基づき、変流器コイル
電源９に対し、電流指令値を出力する０本例の制御演算
部２０は１例えば比例積分要素２１により、比例積分型
の制御演算を実行する。
第４図を参照して、制御装置１０の動作を時系列的に説
明する。第４図は、ヘリカルコイル電流ＩＨと、プラズ
マ温度Ｔと、ポロイダルコイル電流Ｉｐと、プラズマ一
周電圧Ｖ Ｑ ｏ ｏ ｐとの変化を示すタイムチャー
トである。
明する。第４図は、ヘリカルコイル電流ＩＨと、プラズ
マ温度Ｔと、ポロイダルコイル電流Ｉｐと、プラズマ一
周電圧Ｖ Ｑ ｏ ｏ ｐとの変化を示すタイムチャー
トである。
本発明の制御装置を備えたヘリカルシステムは。
次のように運転される。
（１）プラズマ点火に先立ち、ヘリカルコイル１の電流
ＩＮおよびポロイダルコイル２の電流Ｉｖをそれぞれ所
定の値Ｉｎ１およびＩｖｌまで立ち上げる。
ＩＮおよびポロイダルコイル２の電流Ｉｖをそれぞれ所
定の値Ｉｎ１およびＩｖｌまで立ち上げる。
（２）プラズマを点火する０点火は、燃料となる重水素
ガス等を所定量だけ真空容器３０に存在させ、電子銃等
でその一部を電離させた後、高周波電力を入射させて行
う。
ガス等を所定量だけ真空容器３０に存在させ、電子銃等
でその一部を電離させた後、高周波電力を入射させて行
う。
（３）点火した温度Ｔ１のプラズマは、ヘリカルコイル
１およびポロイダルコイル２が作るプラズマ閉じ込め磁
場により真空容器３０の内側に保持される。
１およびポロイダルコイル２が作るプラズマ閉じ込め磁
場により真空容器３０の内側に保持される。
（４）プラズマに核融合反応を起こさせるために、中性
粒子入射（ＮＢＩ）や高周波電力入射を実行し、温度を
Ｔ１からＴ２に更に上昇させる。
粒子入射（ＮＢＩ）や高周波電力入射を実行し、温度を
Ｔ１からＴ２に更に上昇させる。
それにより、プラズマ圧力も上昇し、プラズマは平衡状
態からずれ、全体として外側に広がろうとする。
態からずれ、全体として外側に広がろうとする。
（５）プラズマの平衡状態を回復するため、ポロイダル
コイル電流をＩｖ工がらＩｖ、に変化させる。
コイル電流をＩｖ工がらＩｖ、に変化させる。
（６）この時、ポロイダルコイル２の電流変化は、電磁
気的に結合したへりカルコイル１の電流に影響を及ぼす
とともに、同様に電磁気的に結合したプラズマ５の一周
電圧を発生させ、プラズマ電流Ｉｐを流す。第４図には
、この電流を破線で示しである。
気的に結合したへりカルコイル１の電流に影響を及ぼす
とともに、同様に電磁気的に結合したプラズマ５の一周
電圧を発生させ、プラズマ電流Ｉｐを流す。第４図には
、この電流を破線で示しである。
（７）制御装置１０は、ロゴスキーコイル６の信号を積
分してプラズマ電流■ｐを検出し、このプラズマ電流ｒ
ｐが零となる方向に、プラズマ一周電圧Ｖ Ｑ ｏ ｏ
ｐを発生させるように、変流器コイル電流ＩＦを変化
させる。これによりプラズマ全体の一周電圧Ｖ Ｑ ｏ
ｏ ｐは零となり、電流プラズマＩｐは、第４図の実
線のように制御される。
分してプラズマ電流■ｐを検出し、このプラズマ電流ｒ
ｐが零となる方向に、プラズマ一周電圧Ｖ Ｑ ｏ ｏ
ｐを発生させるように、変流器コイル電流ＩＦを変化
させる。これによりプラズマ全体の一周電圧Ｖ Ｑ ｏ
ｏ ｐは零となり、電流プラズマＩｐは、第４図の実
線のように制御される。
なお、前記スイッチ１７の開放による積分器１３の積分
は、ヘリカルコイル電流およびポロイダルコイル電流の
印加開始前からプラズマ停止後に前記面電流が零となる
まで行われる。
は、ヘリカルコイル電流およびポロイダルコイル電流の
印加開始前からプラズマ停止後に前記面電流が零となる
まで行われる。
次に、第５図および第６図により、本発明の他の実施例
を説明する。第５図は子牛面で切断した全体構造を示す
断面図、第６図は第５図の矢印方向から見た構造とその
制御系とを併せて示す図である。
を説明する。第５図は子牛面で切断した全体構造を示す
断面図、第６図は第５図の矢印方向から見た構造とその
制御系とを併せて示す図である。
本実施例では、ヘリカルコイル１は真空容器３０に設け
られた溝部分３０ａに設置される。ヘリカルコイル１お
よびポロイダルコイル２は、いずれも超電導コイルで構
成されている。低温の各コイルを外気から断熱するため
に、各コイルを断熱容器３１の内側に収納しである。
られた溝部分３０ａに設置される。ヘリカルコイル１お
よびポロイダルコイル２は、いずれも超電導コイルで構
成されている。低温の各コイルを外気から断熱するため
に、各コイルを断熱容器３１の内側に収納しである。
このような構造のヘリカルシステムに本発明を適用する
には、第１図実施例の変流器コイル３および鉄心４では
、構造的に大きく、励磁電流が大容量となるため、不適
当である。
には、第１図実施例の変流器コイル３および鉄心４では
、構造的に大きく、励磁電流が大容量となるため、不適
当である。
そこで、本実施例では、鉄心４を用いずに、真空容器３
０の外側に、ポロイダルコイル式の空心変流器巻線３２
をポロイダルコイル２と同心円状に巻き回しである。
０の外側に、ポロイダルコイル式の空心変流器巻線３２
をポロイダルコイル２と同心円状に巻き回しである。
このようにすると、プラズマ５と空心変流器コイル３２
との間隔が小さくなるため、第１図実施例の変流器コイ
ル３と比べて、励磁電源も小容量で済むことになる。
との間隔が小さくなるため、第１図実施例の変流器コイ
ル３と比べて、励磁電源も小容量で済むことになる。
本発明によれば、ヘリカルシステムの運転中に例えば加
熱操作等を行い、プラズマの状態が変化した場合でも、
プラズマに電流を流すことなく、平衡磁場を変化させる
ことができるので、プラズマ電流の存在により、プラズ
マ特性が悪化することがなく、良好なプラズマを維持で
きる。
熱操作等を行い、プラズマの状態が変化した場合でも、
プラズマに電流を流すことなく、平衡磁場を変化させる
ことができるので、プラズマ電流の存在により、プラズ
マ特性が悪化することがなく、良好なプラズマを維持で
きる。
第１図は本発明による制御装置を設けたヘリカルシステ
ムの一実施例の構成を示す図、第２図は第１図システム
の構造の概略を示す図、第３図は制御装置の積分器とプ
ラズマ電流制御部の詳細な構成の一例を示す図、第４図
は制御措置の動作を示すタイムチャート、第５図は本発
明の他の実施例のヘリカルシステムを子牛面で切断した
全体構成を示す図、第６図は第５図の矢印方向から見た
構造とその制御系とを併せて示す図である。 １・・・ヘリカルコイル、２・・・ポロイダルコイル、
３・・・鉄心変流器コイル、４・・・鉄心、５・・・プ
ラズマ、６・・・ロゴスキーコイル、７・・・ヘリカル
コイル電源、８・・・ポロイダルコイル電源、９・・・
変流器コイル電源、１０・・・制御装置、１１・・・プ
レプログラム部、１３・・・積分器、１４・・・プラズ
マ電流制御部、１５・・・バッファアンプ、１６・・・
積分回路、１７・・・スイッチ、１８・・・参照信号発
生器、１９・・・偏差演算部、１９ａ・・・前段、１９
ｂ・・・後段、２０・・・制御演算部、２１・・・比例
積分演算要素、３０・・・真空容器、３０ａ・・・溝部
分９３１・・・断熱容器、３２・・・空心変流器巻線。
ムの一実施例の構成を示す図、第２図は第１図システム
の構造の概略を示す図、第３図は制御装置の積分器とプ
ラズマ電流制御部の詳細な構成の一例を示す図、第４図
は制御措置の動作を示すタイムチャート、第５図は本発
明の他の実施例のヘリカルシステムを子牛面で切断した
全体構成を示す図、第６図は第５図の矢印方向から見た
構造とその制御系とを併せて示す図である。 １・・・ヘリカルコイル、２・・・ポロイダルコイル、
３・・・鉄心変流器コイル、４・・・鉄心、５・・・プ
ラズマ、６・・・ロゴスキーコイル、７・・・ヘリカル
コイル電源、８・・・ポロイダルコイル電源、９・・・
変流器コイル電源、１０・・・制御装置、１１・・・プ
レプログラム部、１３・・・積分器、１４・・・プラズ
マ電流制御部、１５・・・バッファアンプ、１６・・・
積分回路、１７・・・スイッチ、１８・・・参照信号発
生器、１９・・・偏差演算部、１９ａ・・・前段、１９
ｂ・・・後段、２０・・・制御演算部、２１・・・比例
積分演算要素、３０・・・真空容器、３０ａ・・・溝部
分９３１・・・断熱容器、３２・・・空心変流器巻線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ヘリカルコイルとポロイダルコイルと前記両コイル
を励磁する電源とを備え、環状の真空容器にプラズマを
閉じ込めるヘリカルシステムにおいて、 ヘリカルコイル電流あるいはポロイダルコイル電流の過
渡的変化時またはプラズマ温度変更時にプラズマを一周
する方向に生ずる電圧により発生するプラズマ電流を検
出する手段と、発生した前記プラズマ電流を打ち消す方
向に前記一周電圧とは逆の電圧を印加する変流器とを設
けたことを特徴とするヘリカルシステムの制御装置。 ２、請求項１に記載のヘリカルシステムの制御装置にお
いて、 前記変流器が、前記真空容器と鎖交する鉄心と当該鉄心
に巻き回された変流器コイルとを含むことを特徴とする
ヘリカルシステムの制御装置。 ３、請求項１に記載のヘリカルシステムの制御装置にお
いて、 前記変流器が、真空容器の外側に前記ポロイダルコイル
と同心円状に巻き回された複数の空心変流器巻線を含む
ことを特徴とするヘリカルシステムの制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305631A JPH03165295A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | ヘリカルシステムの制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305631A JPH03165295A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | ヘリカルシステムの制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03165295A true JPH03165295A (ja) | 1991-07-17 |
Family
ID=17947456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1305631A Pending JPH03165295A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | ヘリカルシステムの制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03165295A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008190966A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Tokai Univ | Ｄ−ｔヘリカル型核融合発電装置およびその運転方法 |
-
1989
- 1989-11-24 JP JP1305631A patent/JPH03165295A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008190966A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Tokai Univ | Ｄ−ｔヘリカル型核融合発電装置およびその運転方法 |
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