JPH03165486A - 処理液温度調節装置 - Google Patents
処理液温度調節装置Info
- Publication number
- JPH03165486A JPH03165486A JP1305034A JP30503489A JPH03165486A JP H03165486 A JPH03165486 A JP H03165486A JP 1305034 A JP1305034 A JP 1305034A JP 30503489 A JP30503489 A JP 30503489A JP H03165486 A JPH03165486 A JP H03165486A
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- Japan
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- resist
- heating element
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- element layer
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- Instantaneous Water Boilers, Portable Hot-Water Supply Apparatuses, And Control Of Portable Hot-Water Supply Apparatuses (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は処理液温度調節装置に関する。
（従来の技術）
処理液温度調節装置として、半導体ウェハ等の被処理体
の表面に処理液例えば塗布すべきレジストや現像液等の
塗布液を適切な温度にコントロールすることが要求され
る。
の表面に処理液例えば塗布すべきレジストや現像液等の
塗布液を適切な温度にコントロールすることが要求され
る。
一般に、ＩＣ（集積回路）やＬＳＩ （大規模集結回
路）等の半導体の製造において、例えば半導体ウェハ等
の被処理体の表面にレジストを塗布する工程がある。
路）等の半導体の製造において、例えば半導体ウェハ等
の被処理体の表面にレジストを塗布する工程がある。
このような工程においては、スピン、スプレィあるいは
静電等の方式を用いたレジスト塗布装置が使用される。
静電等の方式を用いたレジスト塗布装置が使用される。
ところで、このようなレジスト塗布装置においては、塗
布すべきレジストを例えば２１〜２５℃程度に暖める必
要がある。
布すべきレジストを例えば２１〜２５℃程度に暖める必
要がある。
これは、半導体ウェハの表面に塗布したレジストを均一
にするために、レジストの粘度変動を抑制するための条
件の一つでもある。
にするために、レジストの粘度変動を抑制するための条
件の一つでもある。
第４図および第５図は、上記のレジスト塗布装置に具備
され、例えばレジストの温度をコントロールする塗布液
温調装置の一例を示すもので、暖水循環管１内の循環水
路２にレジストを通過させる塗布液通過管３が挿入され
ている。
され、例えばレジストの温度をコントロールする塗布液
温調装置の一例を示すもので、暖水循環管１内の循環水
路２にレジストを通過させる塗布液通過管３が挿入され
ている。
そして、サーモコントローラ４により設定温度にコント
ロールされた純水が暖水循環管１内の循環水路２内を循
環すると、塗布液通過管３の内部を流れるレジストが設
定された温度に温調される。
ロールされた純水が暖水循環管１内の循環水路２内を循
環すると、塗布液通過管３の内部を流れるレジストが設
定された温度に温調される。
ところが、このような塗布液温調装置では、サーモコン
トローラ４が高直であったり、循環系を構成する管のス
ペースを要したりするため、塗布液温１個装置の低コス
ト化や小型化の妨げとなってしまう。
トローラ４が高直であったり、循環系を構成する管のス
ペースを要したりするため、塗布液温１個装置の低コス
ト化や小型化の妨げとなってしまう。
そこで、このような塗布液温調装置の低コスト化や小型
化の妨げを回避するために、例えば第６図に示すような
塗布液温調装置もある。
化の妨げを回避するために、例えば第６図に示すような
塗布液温調装置もある。
この塗布液温調装置は、例えばアルミニウムからなる塗
布液通過管５の外周にニクロム等の発熱体６を有する発
熱シート７を巻き付けた構成とされているもので、第４
図に示した塗布液温調装置に比べ、暖水循環管１やサー
モコントローラ４等を要しないため、低コスト化や小型
化を図ることができる。
布液通過管５の外周にニクロム等の発熱体６を有する発
熱シート７を巻き付けた構成とされているもので、第４
図に示した塗布液温調装置に比べ、暖水循環管１やサー
モコントローラ４等を要しないため、低コスト化や小型
化を図ることができる。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、上述した従来の塗布液温調装置では、発
熱シート７に設けられた発熱体６が線状であるため、塗
布液通過管５の外周面の略全域を均等に熱することがで
きない。
熱シート７に設けられた発熱体６が線状であるため、塗
布液通過管５の外周面の略全域を均等に熱することがで
きない。
また発熱シート７は、薄いフィルム状であるため、塗布
液通過管５の外周面に密接させることが困難であり、こ
れにより塗布液通過管５への熱伝導のむらを生してしま
う。
液通過管５の外周面に密接させることが困難であり、こ
れにより塗布液通過管５への熱伝導のむらを生してしま
う。
従って、このように、塗布液通過管５の外周面の略全域
を均等に熱することができない場合には、レジストを所
定の温度まで上昇させる際の効率が悪くなるばかりか、
レジストの温度を瞬時にしてコントロールすることも困
難となる。
を均等に熱することができない場合には、レジストを所
定の温度まで上昇させる際の効率が悪くなるばかりか、
レジストの温度を瞬時にしてコントロールすることも困
難となる。
本発明は、このような事情に対処して成されたもので、
処理液の温度を効率良く瞬時にしてコントロールするこ
とができる処理液’ｔＨ度調節装置を提供することを目
的とする。
処理液の温度を効率良く瞬時にしてコントロールするこ
とができる処理液’ｔＨ度調節装置を提供することを目
的とする。
〔発明の（を成］
（課題を解決するための手段）
処理液を通過させる処理液通過管と、この通過管の管壁
上に設けられ上記処理液を包囲する環状発熱体層と、こ
の発熱体層に電力を供給して加熱する電力供給手段と、
前記発熱体層から発せられる熱を測温する測温手段と、
このΔＰＩ ？ＥＬ手段による１ｌｌｌ＋温結果と設定
温度の値とによって前記電力の供給を制御する制御手段
とを具備するものである。
上に設けられ上記処理液を包囲する環状発熱体層と、こ
の発熱体層に電力を供給して加熱する電力供給手段と、
前記発熱体層から発せられる熱を測温する測温手段と、
このΔＰＩ ？ＥＬ手段による１ｌｌｌ＋温結果と設定
温度の値とによって前記電力の供給を制御する制御手段
とを具備するものである。
（作 用）
本発明の加熱装置では、処理液通過管の例えば外周壁面
上全域に発熱体層を薄膜状に形成し、その発熱体層に電
力供給手段から電力を供給する。
上全域に発熱体層を薄膜状に形成し、その発熱体層に電
力供給手段から電力を供給する。
このとき、制御手段が発熱体層の熱を測温する測温手段
からの測温結果に基づき、測温結果か設定温度峙を越え
た場合には電力供給手段の供給動作を停止させ、７１ｐ
１温結果が設定値を下回った場合には電力供給手段の供
給動作を続行させるように制御する。
からの測温結果に基づき、測温結果か設定温度峙を越え
た場合には電力供給手段の供給動作を停止させ、７１ｐ
１温結果が設定値を下回った場合には電力供給手段の供
給動作を続行させるように制御する。
従って、発熱体層が塗布液通過管の外周壁の略全域を熱
するので、その外周面の略全域を均等に熱することがで
きる。
するので、その外周面の略全域を均等に熱することがで
きる。
また発熱体層を塗／ｌｉ液通過管の外周壁の略全域に薄
膜状に形成したので、塗布液通過管への熱伝導のむらも
なくなる。
膜状に形成したので、塗布液通過管への熱伝導のむらも
なくなる。
さらには、発熱体層が塗布液通過管の外周壁の略全域を
均等に熱するので、塗布液を所定の温度まで効率良く上
昇させることができるため、塗布液を瞬時にしてコント
ロールすることもできる。
均等に熱するので、塗布液を所定の温度まで効率良く上
昇させることができるため、塗布液を瞬時にしてコント
ロールすることもできる。
（実施例）
以下、本発明の実施例の詳細を図面に基づいて説明する
。
。
第１図および第２図は、本発明を処理液例えばレジスト
の温度をコントロールする塗布液ａ、２！Ｊ装置に適用
した場合の一実施例を示すものである。
の温度をコントロールする塗布液ａ、２！Ｊ装置に適用
した場合の一実施例を示すものである。
これらの図に示すように、角筒又は円筒状塗布液通過管
９の例えばアルミニウムからなる通過管１０の外周面の
全域には、絶縁性をＨした例えばアルミナからなる絶縁
層１１が薄膜状に形成されている。絶縁層１１の外周面
にはその絶縁層１１の両端部を僅かに残して発熱体層１
２が薄膜状に形成され、さらに発熱体層１２の外周面に
はその発熱体層１２の両端部を僅かに残して絶縁層１３
が薄膜状に形成されている。即ち、上記発熱体１２はレ
ジスト液を包囲する如く環状に形成される。
９の例えばアルミニウムからなる通過管１０の外周面の
全域には、絶縁性をＨした例えばアルミナからなる絶縁
層１１が薄膜状に形成されている。絶縁層１１の外周面
にはその絶縁層１１の両端部を僅かに残して発熱体層１
２が薄膜状に形成され、さらに発熱体層１２の外周面に
はその発熱体層１２の両端部を僅かに残して絶縁層１３
が薄膜状に形成されている。即ち、上記発熱体１２はレ
ジスト液を包囲する如く環状に形成される。
そして、発熱体層１２の露出した各端部１２ａには、例
えばリング状の電極１４が嵌合されるようになっている
。
えばリング状の電極１４が嵌合されるようになっている
。
各電極１４には、例えば２００■の交流を供給する交流
電源１５が接続されている。
電源１５が接続されている。
交流電源１５には、温調コントローラ１６が接続されて
いる。
いる。
そして、温調コントローラ１６は通過管１０に取付けら
れた温感センサ１７からのａＦＩ 温信号に基づいてそ
の交流電源１５の電力の供給を制御する。
れた温感センサ１７からのａＦＩ 温信号に基づいてそ
の交流電源１５の電力の供給を制御する。
次に、塗布液通過管９の製造方法の一例を第３図を用い
て説明する。
て説明する。
まず、通過管１０の外周面の全域に溶射あるいは爆射等
のプロセスを用いてアルミナの絶縁層１１を薄膜状に形
成する。
のプロセスを用いてアルミナの絶縁層１１を薄膜状に形
成する。
次いで、絶縁層１１の外周面にその絶縁層１１の両端部
を作かに残して発熱体層１２例えば発熱体膜状を上記同
様のプロセスを用いて薄膜状に形成した後、発熱体層１
２の外周面にその発熱体層１２の両端部を住かに残して
絶縁層１３を同プロセスを用いて薄膜状に形成する。
を作かに残して発熱体層１２例えば発熱体膜状を上記同
様のプロセスを用いて薄膜状に形成した後、発熱体層１
２の外周面にその発熱体層１２の両端部を住かに残して
絶縁層１３を同プロセスを用いて薄膜状に形成する。
このように、溶射あるいは爆射等のプロセスを用いるこ
とにより、各薄膜たる発熱体層１２および絶縁層１１．
１３は、通過管１０の外周面に緊密に形成される。
とにより、各薄膜たる発熱体層１２および絶縁層１１．
１３は、通過管１０の外周面に緊密に形成される。
続いて、このような構成による塗布液温調装置について
説明する。
説明する。
まず、温調コントローラ１６に９ ／＋ｉすべきレジス
トの温度を例えば２１〜２５℃程度の範囲内で設定する
と、温調コントローラ１６は、温感センサ１７からの測
温信号に基づき設定値に達するまで交流電源１５に電力
の供給を行わせる。
トの温度を例えば２１〜２５℃程度の範囲内で設定する
と、温調コントローラ１６は、温感センサ１７からの測
温信号に基づき設定値に達するまで交流電源１５に電力
の供給を行わせる。
交流電源１５から供給された電力は、各電極１４を介し
て発熱体層１２に供給される。
て発熱体層１２に供給される。
そして、発熱体層１２の全域が発熱を行うと、この発熱
により通過管１０の内部を流れるレジストの温度が上昇
する。
により通過管１０の内部を流れるレジストの温度が上昇
する。
このとき、温調コントローラ１６は、温感センサ１７か
らの７ＩｌｌＩ温信号に基づき交流電源１５の供給動作
を制御する。
らの７ＩｌｌＩ温信号に基づき交流電源１５の供給動作
を制御する。
つまり、例えば温感センサ１７からのＩＩ ｉＥＬ信号
に基づ＜測温結果が設定温度を越えた場合にはその供給
動作を停止１−１させ、逆にその側温結果が設定ｌＨ度
を下回った場合にはその（供給動作を続行させる。
に基づ＜測温結果が設定温度を越えた場合にはその供給
動作を停止１−１させ、逆にその側温結果が設定ｌＨ度
を下回った場合にはその（供給動作を続行させる。
このように、本実施例では、レジストを通過させるべき
管の外周面の略全域に発熱体層を形成したので、その管
の外周面の略全域を均等に熱することができ、これによ
りレジストの温度を効率良く瞬時にして所定値まで上昇
させることができる。
管の外周面の略全域に発熱体層を形成したので、その管
の外周面の略全域を均等に熱することができ、これによ
りレジストの温度を効率良く瞬時にして所定値まで上昇
させることができる。
また溶射あるいは爆射等のプロセスを用いて管の外周面
の略全域に発熱体層や絶縁層を形成したので、これらの
薄膜と管の外周面とが緊密となり、これにより熱を均一
に伝導させることができる。
の略全域に発熱体層や絶縁層を形成したので、これらの
薄膜と管の外周面とが緊密となり、これにより熱を均一
に伝導させることができる。
なお、本実施例では、本発明をレジストの温度をコント
ロールする塗布液温調装置に適用した場合について説明
したが、この例に限らず現像液等の他の塗布液の温度を
コントロールする塗布液温調装置に適用してもよい。
ロールする塗布液温調装置に適用した場合について説明
したが、この例に限らず現像液等の他の塗布液の温度を
コントロールする塗布液温調装置に適用してもよい。
上記実施例では発熱体を処理液通過管の管外壁面上に被
着した例について説明したが、管内壁面上に被着しても
よい。この場合直接処理液に熱か印加されるので速熱効
果がある。
着した例について説明したが、管内壁面上に被着しても
よい。この場合直接処理液に熱か印加されるので速熱効
果がある。
また、温度制御の方法としてオンオフ制御について説明
したが、ＰＩＤ制御器等を用いても良い。
したが、ＰＩＤ制御器等を用いても良い。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明の処理液温度調節装置によ
れば、発熱体層が塗布液通過管の外周壁を周壁に沿って
環状に熱するので、棒状処理液の全周面から加熱するこ
とができる。さらに塗布液温度を効率良くコントロール
することができる。
れば、発熱体層が塗布液通過管の外周壁を周壁に沿って
環状に熱するので、棒状処理液の全周面から加熱するこ
とができる。さらに塗布液温度を効率良くコントロール
することができる。
第１図は本発明をレジストの温度をコントロールする塗
布液温度調節装置に適用した場合の一実施例を示す概略
図、第２図は第１図の塗布液通過管を示す溝断面図、第
３図は第１図の塗ｒＩＴ液通過管の製造手順を示す図、
第４図および第５図は従来の塗布液温調装置の一例を示
す図、第６図は従来の塗布液温調装置の他の例を示す図
である。 ９・・・塗布液通過管、１０・・・供給管、１１．１３
・・・絶縁層、１２・・・発熱体層層、１４・・・電極
、１５・・・交流電源、１６・・・温調コントローラ、
１７・・・ｉｎ感センサ。
布液温度調節装置に適用した場合の一実施例を示す概略
図、第２図は第１図の塗布液通過管を示す溝断面図、第
３図は第１図の塗ｒＩＴ液通過管の製造手順を示す図、
第４図および第５図は従来の塗布液温調装置の一例を示
す図、第６図は従来の塗布液温調装置の他の例を示す図
である。 ９・・・塗布液通過管、１０・・・供給管、１１．１３
・・・絶縁層、１２・・・発熱体層層、１４・・・電極
、１５・・・交流電源、１６・・・温調コントローラ、
１７・・・ｉｎ感センサ。
Claims (1)
- （１）処理液を通過させる処理液通過管と、この通過管
の管壁上に設けられ上記処理液を包囲する環状発熱体層
と、 この発熱体層に電力を供給して加熱する電力供給手段と
、 前記発熱体層から発せられる熱を測温する測温手段と、 この測温手段による測温結果と設定温度の値とによって
前記電力の供給を制御する制御手段とを具備することを
特徴とする処理液温度調節装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305034A JPH03165486A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 処理液温度調節装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1305034A JPH03165486A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 処理液温度調節装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03165486A true JPH03165486A (ja) | 1991-07-17 |
Family
ID=17940303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1305034A Pending JPH03165486A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 処理液温度調節装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03165486A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001067819A1 (en) * | 2000-03-03 | 2001-09-13 | Cooper Richard P | Thin film tubular heater |
| JP2005322594A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Susumu Kiyokawa | 発熱パイプとこれを利用した機器 |
| JP2007157577A (ja) * | 2005-12-07 | 2007-06-21 | Fujiki Kosan Kk | 低温用の溶射発熱体及びその製造方法並びにそれを用いた加熱装置 |
| JP2019033752A (ja) * | 2013-03-15 | 2019-03-07 | アール・ジエイ・レイノルズ・タバコ・カンパニー | 材料のシートから形成される加熱素子、アトマイザーの生産用のインプット及び方法、エアロゾル送達装置用のカートリッジ、並びに喫煙具用のカートリッジを組み立てるための方法 |
| US11000075B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-05-11 | Rai Strategic Holdings, Inc. | Aerosol delivery device |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62186493A (ja) * | 1986-02-13 | 1987-08-14 | 三菱電機株式会社 | 加熱装置 |
| JPS6253591B2 (ja) * | 1980-12-29 | 1987-11-11 | Fujitsu Ltd | |
| JPS633593B2 (ja) * | 1983-04-22 | 1988-01-25 | Sutooru Risaachi Ando Dev Corp Za | |
| JPH01154487A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Hitachi Metals Ltd | 導管加熱用の保温管 |
-
1989
- 1989-11-24 JP JP1305034A patent/JPH03165486A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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| JP2021074017A (ja) * | 2013-03-15 | 2021-05-20 | アール・エイ・アイ・ストラテジック・ホールディングス・インコーポレイテッド | 材料のシートから形成される加熱素子、アトマイザーの生産用のインプット及び方法、エアロゾル送達装置用のカートリッジ、並びに喫煙具用のカートリッジを組み立てるための方法 |
| US11871484B2 (en) | 2013-03-15 | 2024-01-09 | Rai Strategic Holdings, Inc. | Aerosol delivery device |
| US12550229B2 (en) | 2013-03-15 | 2026-02-10 | Rai Strategic Holdings, Inc. | Cartridge for an aerosol delivery device |
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