JPH0286831A - 液体処理装置 - Google Patents
液体処理装置Info
- Publication number
- JPH0286831A JPH0286831A JP1174028A JP17402889A JPH0286831A JP H0286831 A JPH0286831 A JP H0286831A JP 1174028 A JP1174028 A JP 1174028A JP 17402889 A JP17402889 A JP 17402889A JP H0286831 A JPH0286831 A JP H0286831A
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- JP
- Japan
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- temperature
- temp
- fluid
- liquid
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0006—Controlling or regulating processes
- B01J19/002—Avoiding undesirable reactions or side-effects, e.g. avoiding explosions, or improving the yield by suppressing side-reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液体処理装置、特にフォトレジストを一定温度
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウェーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
で注入するシステム、とりわけ固体撮像素子のウェーハ
へのゼラチン塗布に好適なフォトレジスト定温注入シス
テムに関するものである。
一般に固体撮像素子には１色分解フィルタとして一種の
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウェーハ上に形成された絵素上に回転塗布法
により被着形成される。そして、このゼラチンは、約２
５℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約２５℃
以上に温め、ゾル状態にしておかなければ塗布できない
。さらにゼラチンは、またウェーハも塗布膜厚が均一で
膜欠点もない良好な塗布を行なうためには所定の温度に
温調する必要がある。
フォトレジストであるゼラチンが使用されており、この
ゼラチンはウェーハ上に形成された絵素上に回転塗布法
により被着形成される。そして、このゼラチンは、約２
５℃程度の常温でゲル状態を呈しているため、約２５℃
以上に温め、ゾル状態にしておかなければ塗布できない
。さらにゼラチンは、またウェーハも塗布膜厚が均一で
膜欠点もない良好な塗布を行なうためには所定の温度に
温調する必要がある。
これらの条件を踏まれた従来のゼラチン塗布システムを
第１図に示す、同図において、従来のシステムは、恒温
槽１．ヒータ２．温度センサ３゜攪拌器４および温度調
節器５により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の
収容容器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７
をゾル状態にしておくとともに、一定温度に保温させる
。また恒温槽１から塗布室１０までの注入系を内部に注
入管１１が通された弗素樹脂製チューブ１２と、この外
部を覆った断熱材１３と、これとチューブ１２との間に
入れられたヒータ１４および温度センサ１５と、温度調
節器１６とにより温調し、ゼラチン７を一定温度で吐出
させる。さらに図示しないファンと、ヒータおよびフィ
ルタとからなるファンヒータユニットとにより、温風１
７をダクト１８を通じて塗布室１０へ送り込み、回転す
るように構成されているチャック１９に吸着されたウェ
ーハ２０を一定温度に加熱するようになっている。なお
、２１は廃液回収容器、２２はウェーハ２０の回転時に
発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、２３はゼラチンを
吐出させるための所定の圧力に制御されたＮ２ガス、２
４はフィルタ、２５．２６は注入管１１の開閉、吐出側
ゼラチンのサックバック用ベローズである。
第１図に示す、同図において、従来のシステムは、恒温
槽１．ヒータ２．温度センサ３゜攪拌器４および温度調
節器５により恒温に温調される液体６に、ゼラチン７の
収容容器８が入れられた加圧容器９を浸け、ゼラチン７
をゾル状態にしておくとともに、一定温度に保温させる
。また恒温槽１から塗布室１０までの注入系を内部に注
入管１１が通された弗素樹脂製チューブ１２と、この外
部を覆った断熱材１３と、これとチューブ１２との間に
入れられたヒータ１４および温度センサ１５と、温度調
節器１６とにより温調し、ゼラチン７を一定温度で吐出
させる。さらに図示しないファンと、ヒータおよびフィ
ルタとからなるファンヒータユニットとにより、温風１
７をダクト１８を通じて塗布室１０へ送り込み、回転す
るように構成されているチャック１９に吸着されたウェ
ーハ２０を一定温度に加熱するようになっている。なお
、２１は廃液回収容器、２２はウェーハ２０の回転時に
発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、２３はゼラチンを
吐出させるための所定の圧力に制御されたＮ２ガス、２
４はフィルタ、２５．２６は注入管１１の開閉、吐出側
ゼラチンのサックバック用ベローズである。
このように構成された従来システムは、ゼラチン注入系
の温調方法に問題があった。すなわち。
の温調方法に問題があった。すなわち。
温度調節器５の設定温度とゼラチン７の吐出温度とが異
なるため、吐出液温調整が不便であった。
なるため、吐出液温調整が不便であった。
また塗布室１０内のゼラチン温度を調節できないという
欠点もあった。さらにこのため、ウェーハ加熱用の温風
を塗布室１０へ送り込まなければ注入管１１の末端から
ゼラチンが凝固してくる問題もあった。
欠点もあった。さらにこのため、ウェーハ加熱用の温風
を塗布室１０へ送り込まなければ注入管１１の末端から
ゼラチンが凝固してくる問題もあった。
したがって本発明は、上述した従来技術の問題点を解消
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、注入系の末端まで温調できるフォトレジスト定温注
入システムを提供することにある。
このような目的を達成するために本発明は、注入系に温
調手段を設けたものである。
調手段を設けたものである。
以下、図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第２図は本発明によるフォトレジスト定温注入システム
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室１０をューブ２８が配管されている
。そして、このチューブ２８の内部にはゼラチン７の注
入管１１が塗布室１０まで通されている。また塗布室１
０内のゼラチン吐出部分は第３図に要部断面図で示すよ
うな構造を有している。すなわち、第３図において、２
９はコネクタであり、このコネクタ２９には前記チュ、
−ブ２８が通常用いられているチューブ継手３０により
接続されている。また、前記注入管１１の先端はフラン
ジ加工され、コネクタ２９の一端にねじ込まれるノズル
３１により、コネクタ２９に締付固定されている。なお
、３２はシール材である。
の一例を示す断面構成図であり、第１図と同符号は同一
要素となるのでその説明は省略する。第２図において、
恒温槽１から塗布室１０をューブ２８が配管されている
。そして、このチューブ２８の内部にはゼラチン７の注
入管１１が塗布室１０まで通されている。また塗布室１
０内のゼラチン吐出部分は第３図に要部断面図で示すよ
うな構造を有している。すなわち、第３図において、２
９はコネクタであり、このコネクタ２９には前記チュ、
−ブ２８が通常用いられているチューブ継手３０により
接続されている。また、前記注入管１１の先端はフラン
ジ加工され、コネクタ２９の一端にねじ込まれるノズル
３１により、コネクタ２９に締付固定されている。なお
、３２はシール材である。
このように配管された注入系において、ポンプ２７を作
動させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管１１
のまわりを包むようにしてチューブ２８とコネクタ２９
とを通って循環する。一方、液体６は前述したように恒
温となるように常時加熱温調されている。したがって、
この定温注入システムによれば、収入容器８内のゼラチ
ン７の温度を一定に保つと同時に注入管ｌｌ内のゼラチ
ン温度も一定に保つことが出来る。また、液体６の温度
はそのまま収容容器８および注入管１１内のゼラチン温
度となるた゛め、温度調節器５の設定温度とゼラチン吐
出温度とが同一となる。
動させることにより、恒温槽１内に液体６が注入管１１
のまわりを包むようにしてチューブ２８とコネクタ２９
とを通って循環する。一方、液体６は前述したように恒
温となるように常時加熱温調されている。したがって、
この定温注入システムによれば、収入容器８内のゼラチ
ン７の温度を一定に保つと同時に注入管ｌｌ内のゼラチ
ン温度も一定に保つことが出来る。また、液体６の温度
はそのまま収容容器８および注入管１１内のゼラチン温
度となるた゛め、温度調節器５の設定温度とゼラチン吐
出温度とが同一となる。
また、処理液の注入管１１と容器８とを、同じ液体６で
温度調節しているので、或は、それらを共通の温度制御
系２，３及び５でｍ度調整しているので、温度制御性が
良い。ポンプ２７は注入管が内側に挿入されていないチ
ューブ２８の部分に取り付けられているため、取り付け
が簡単である。
温度調節しているので、或は、それらを共通の温度制御
系２，３及び５でｍ度調整しているので、温度制御性が
良い。ポンプ２７は注入管が内側に挿入されていないチ
ューブ２８の部分に取り付けられているため、取り付け
が簡単である。
また、チューブ２８が注入管１１を包含する二重管構成
からチューブ２８だけの単管にする位置は、第２図、第
３図に示すように、チューブ２８の端部でなく、チュー
ブ２８の途中であり、チューブ２８をＴ字状に分岐させ
て二重管から単管にしているので構造が簡単であり、ま
た、処理液を被加工物に供給するときの邪魔になること
もない。
からチューブ２８だけの単管にする位置は、第２図、第
３図に示すように、チューブ２８の端部でなく、チュー
ブ２８の途中であり、チューブ２８をＴ字状に分岐させ
て二重管から単管にしているので構造が簡単であり、ま
た、処理液を被加工物に供給するときの邪魔になること
もない。
以上説明したように本発明によれば、温度調節器の設定
温崖道りに制御された液体で、収容容器とができるので
、吐出液温度調整が簡単となり、かつ吐出部先端からの
ゼラチンの凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた
効果が得られる。
温崖道りに制御された液体で、収容容器とができるので
、吐出液温度調整が簡単となり、かつ吐出部先端からの
ゼラチンの凝固が全く起らなくなるなどの極めて優れた
効果が得られる。
第１図は従来のゼラチン塗布システムの一例を説明する
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成図
、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成図
である。 １・・・恒温槽、２・・・ヒータ、３・・・温度センサ
、４・・・攪拌器、５・・・温度調節器、６・・・液体
、７・・・ゼラチン、８・・・収容容器、９・・・加圧
容器、１０・・・塗布室、１１・・・注入管、１２・・
・チューブ、１３・・・断熱材、１４・・・ヒータ、１
５・・・温度センサ、１６・・・温度調節器、１７・・
・温風、１８・・・ダクト、１９・・・チャック、２０
・・・ウェーハ、２１・・・廃液回収容器、２２・・・
ブロア、２３・・・Ｎｚガス、２４・・・フィル′ミ望
、２５．２６・・・ベローズ、２７・・・ボン二Ｎ゛・ ン プ、２８・・・チューブ、２９・・・コネクタ、３０・
・・チューブ継手、３１・・・ノズル、３２・・・シー
ル材。 第３図
ための要部断面構成図、第２図は本発明に係わるゼラチ
ン塗布システムの一例を説明するための要部断面構成図
、第３図は第２図のゼラチン吐出部分を示す断面構成図
である。 １・・・恒温槽、２・・・ヒータ、３・・・温度センサ
、４・・・攪拌器、５・・・温度調節器、６・・・液体
、７・・・ゼラチン、８・・・収容容器、９・・・加圧
容器、１０・・・塗布室、１１・・・注入管、１２・・
・チューブ、１３・・・断熱材、１４・・・ヒータ、１
５・・・温度センサ、１６・・・温度調節器、１７・・
・温風、１８・・・ダクト、１９・・・チャック、２０
・・・ウェーハ、２１・・・廃液回収容器、２２・・・
ブロア、２３・・・Ｎｚガス、２４・・・フィル′ミ望
、２５．２６・・・ベローズ、２７・・・ボン二Ｎ゛・ ン プ、２８・・・チューブ、２９・・・コネクタ、３０・
・・チューブ継手、３１・・・ノズル、３２・・・シー
ル材。 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、被加工物に処理液を供給するための処理液供給管と
、流体を上記処理液供給管の周りに供給するための流体
供給手段と、上記流体の温度を調整することが可能な温
度調整手段とを具備して成ることを特徴とする液体処理
装置。 ２、被加工物に処理液を供給するための処理液供給管と
、該処理液供給管の周りに温度調整された液体を供給す
るためのポンプとを具備して成ることを特徴とする液体
処理装置。 ３、被加工物に処理液を供給するための処理液供給管と
、温度調整用の流体を上記処理液供給管の周りに供給し
、かつ、上記流体を循環させることのできる流体供給手
段とを具備して成ることを特徴とする液体処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174028A JPH0286831A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 液体処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1174028A JPH0286831A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 液体処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57118586A Division JPS599654A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | フオトレジスト定温注入システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286831A true JPH0286831A (ja) | 1990-03-27 |
Family
ID=15971371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1174028A Pending JPH0286831A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 液体処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0286831A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001314801A (ja) * | 2000-05-09 | 2001-11-13 | Seven Tec:Kk | 液剤施工システム |
| JP2008524852A (ja) * | 2004-12-17 | 2008-07-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 高密度プラズマ適用のための高真空中での自己冷却ガス分配装置 |
-
1989
- 1989-07-07 JP JP1174028A patent/JPH0286831A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001314801A (ja) * | 2000-05-09 | 2001-11-13 | Seven Tec:Kk | 液剤施工システム |
| JP2008524852A (ja) * | 2004-12-17 | 2008-07-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 高密度プラズマ適用のための高真空中での自己冷却ガス分配装置 |
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