JPH03167588A - ホログラムおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はホログラムおよびその製造方法に関する。

［従来の技術］ ホログラムは、レーザ光等の干渉性を有する光の干渉波
面を屈折率分布または光吸収（ａ淡）分布として記録し
たものであり、立体写真、バーコード読取り装置のビー
ムスキャナ等の光学素子、航空機および自動車等のヘッ
ドアップディスプレイなどに用いられている。

ホログラムを上記の用途に用いるためには、ホログラム
が下記の特性を有していることが必要である。

（１）回折効率が高いこと。

（２）耐湿性、耐熱性、耐光性に優れていること。

（３）無色透明であること。

（４）ヘイズが少ないこと。

ホログラム用の材料としては、漂白処理銀塩、フォトレ
ジスト、サーモプラスチック、重クロム酸ゼラチン、無
機ガラス系材料、強誘電体などが知られており、これら
のうち、漂白処理銀塩および重クロム酸ゼラチンは実用
化されている。

［発明が解決しようとする課題］ 上記の漂白処理銀塩を用いてホログラムを製造する場合
には、煩雑な処理が必要となること、得られたホログラ
ムの耐光性が劣ることなどの欠点がある。また、重クロ
ム酸ゼラチンが与えるホログラムは耐湿性および耐熱性
に劣ることなどの欠点を有する。

本発明の１つの目的は、可視光線に対する透明性が良好
であり、かつ高い回折効率を有するホログラムを提供す
ることにある。本発明の他の１つの目的は上記のホログ
ラムを製造する方法を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明によれば、上記の１つの目的は、下記一般式（Ｉ
）で示される構造単位（以下、これを構造単位（１）と
称する）を２〜１００モル％および下記一般式（Ｉ［）
で示される構造単位（以下、これを構造単位（ｎ）と称
する）をＯ〜９８モル％有する重合体（Ａ）と、置換基
を有していてもよい芳香族アルデヒドおよび芳香族ケト
ンからなる群より選ばれる化合物（Ｂ）とからなる組成
物からなるホログラムを提供することにより達成される
。

構造単位（■）： Ｙ１ ［式中、ｘｌは水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ１
はシクロアルケニル基または下記一般式で示される基を
表す。ここで　２１は２価の炭化水素基を表し、Ｒｌ，
　ＲｔおよびＲ３はそれぞれ水素原子、アルキル基また
はアルケニル基を表す。コ構造単位（■）： ！雪 ［式中、 ｘ３は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ２はフエニ
ル基、アルコキシカルボニル基またはカルバモイル基を
表し、一般式（ＩＩ）における水素原子はフッ素原子に
よって置換されていてもよい。］ 本発明に用いられる組成物を構戊する重合体（Ａ）は構
造単位（１）を５〜９８モル％含む場合が好ましく、２
０〜８０モル％含む場合がより好ましい。

上記の構造単位（１）におけるＸ′および構造単位（ｎ
）におけるＸ′がそれぞれ表すアルキル基としては、メ
チル基、エチル基、プロビル基、イソプロビル基、ブチ
ル基などの炭素数が４以下の低級アルキル基か好ましい
。また構造単位（ｒ）におけるＲＩＳＲｌおよびＲ３が
表すアルキル基は分岐鎖または任意の置換基を有してい
てもよく、メチル基、エチル基、プロビル基、イソプロ
ビル基、プチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘブチル基
、オクチル基などの炭素数が８以下の低級アルキル基が
好ましい。上記のＲ’，　Ｒ’およびＲ３がそれぞれ表
すアルケニル基は２−ブテニル基、３−メチル−２−ブ
テニル基、３−ペンテニル基、４−メチル−３−ベンテ
ニル基が好ましい。−構造単位（１）におけるＺ１か表
す２価の炭化水素基としては分岐鎖を有していてもよい
炭素数２〜８のアルキレン基が好ましい。構造単位（１
）におけるＹｌの好適例として、アリル基；２−ブテニ
ル基、３−ブテニル基、２一メチル−２−プロベニル基
；２−へブテニル基、３−へプテニル基、４−へブテニ
ル基、２−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−２−
ブテニル基、２−エチル−２−ブロペニル基、２−メチ
ル−３−ブテニル基、１．２−ジメチル−２−ブロペニ
ル基；２−へキセニル基、３−へキセニル基、４−へキ
セニル基、５−へキセニル基、ｘ，ｔ−ノメチル−２−
ブテニル基、１．２−ジメチル−２ブテニル基、１，３
−ジメチル−２−ブテニル基、２，３−ジメチル−２−
ブテニル基、３−メチル−２−ヘプテニル基、２−メチ
ル−２−ヘブテニル基；２−メチル−２−シクロヘキセ
ニル基、３ーメチル−２−シクロヘキセニル基、ゲラニ
ル基、イソゲラニル基、ネリル基、ラバンジュリル基、
６−メチルゲラニル基、ｌ−メチルゲラニル基、！５ ６−エチルゲラニル基、ベリリル基、ファルネ●ル基、
ゲラニルゲラニル基、β−シクロゲラニルゲラニル基な
どを挙げることができる。構造単位（ＩＩ）におけるＹ
″が表すアルコキシカルボニル基の好ａ例としては、メ
トキシカルボニル基、エトキンカルポ●●ル基、プロボ
キシカルボニル基、プトキノカルボニル基、ペンタノキ
シカルボニル基、ヘキサノキンカルボニル基、ヘブタノ
キシカルボニル基、シクロヘキサノキシカルボニル基な
どを挙げることができる。

重合体（Ａ）はα位がアルキル基によって置換されてい
てもよいアクリル酸またはそのエステルの単独重合また
は構造単位（ＩＩ）を形成するコモノマーとの共重合に
より重合体を得、ついで該重合体と基Ｙｌを有するアル
コールとを反応させるか、または構造単位（１）を形成
するアクリル酸誘導体とふＪ 上記コ●●マーとの共重合により製造することができる
。

構造単位（１）を形戊するアクリル酸誘導体としては、
アリルメタクリレート、アリルアクリレート、２（また
は３）一ブテニルメタクリレート、２（または３）一ブ
テニルアクリレート、２−メチル−２−プロペニルメタ
クリレート、２−メチル−２−ブσベニルアクリレート
、２（または３または４）一へブテニルメタクリレート
、２（または３または４）一へプテニルアクリレート、
２ーメチル−２（または３）一プテニルメタクリレート
、２−メチル−２（または３）一ブテニルアクリレート
、２−エチル−２−プロベニルメタクリレート、２−エ
チル−２〜プロベニルアクリレート、１．２−ジメチル
−２−プロペニルメタクリレート、１．２−ジメチル−
２−プロベニルアクリレート、２（または３または４ま
たは５）一へキセニルメタクリレート、２（または３ま
たは４または５）一へキセニルアクリレート、１．１（
または１．２または１．３または２，３）一ジメチル−
２−ブテニルメタクリレート、ｌ，１（または１．２ま
たは１．３または２．３）一ジメチル−２−ブテニルア
クリレート、２（または３）一メチル−２−へブテニル
メタクリレート、２（または３）一メチルー２一ヘブテ
ニルアクリレートなどのアルコール残基が鎖状になって
いるアクリル酸誘導体；２（または３）一メチル−２−
シクロヘキセニルメタクリレート、２（または３）一メ
チル−２−シクロヘキセニルアクリレートなどのアルコ
ール残基が環状になっているアクリル酸誘導体・ゲラニ
ルメタクリレート、ゲラニルアクリレート、ネリルメタ
クリレート、ネリルアクリレート、イソゲラニルメタク
リレート、イソゲラニルアクリレート、ラバンジュリル
メタクリレート、ラバンジュリルアクリレート、６−メ
チルゲラニルメタクリレート、リレート、６−エチルゲ
ラニルメタクリレート、６−エチルゲラニルアクリレー
ト、ベリリルメタクリレート、ベリリルアクリレート等
の非共役二重結合を２個有する鎖状または環状のテルベ
ン系アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエ
ステル；ファルネシルメタクリレート、ファルネシルア
クリレート、ゲラニルゲラニルメタクリレート、ゲラニ
ルゲラニルアクリレート、β−シクロゲラニルゲラニル
メタクリレート、β−シクロゲラニルゲラニルアクリレ
ート等の非共役二重結合を３個以上有する鎖状または環
状のテルベン系アルコールとアクリル酸またはメタクリ
ル酸とのエステルが挙げられる。これらの中で、アリル
メタクリレート、２−メチル−２−プロペニルメタクリ
レート、２−ブテニルメタクリレート、２一メチル−２
−ブテニルメタクリレート、２−へキセニルメタクリレ
ート、３−へキセニルメタクリレート、ゲラニルメタク
リレートが、原料となるアルコールの入手のし易さ、エ
ステル合成のし易さの点から好ましい。

構造単位（ＩＩ）を形成するコモノマーとしてはメタク
リル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロビル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸ペンチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸アミ
ル、メタクリル酸シクロヘキシルなどのメタクリル酸ア
ルキルエステル；アクリル酸；アクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸プロビル、アクリル酸ブチル
、アクリル酸ベンチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル
酸アミル、アクリル酸シクロヘキシルなどのアクリル酸
アルキルエステル；メタクリル酸アミドアクリル酸アミ
ド；スチレン、α−メチルスチレンなどの置換スチレン
などが挙げられる。構造単位（［）における水素原子は
フッ素原子によって置換されていてもよい。

重合体（Ａ）はゲルパーミエーションク口マトグラフイ
により求めたボリスチレン換算の数平均分子量７！ｌ４
１，０００〜１，０００．０００の範囲にあるものが好
ましい。重合体（Ａ）は数平均分子量が１００，０００
〜８００．０００の範囲にあるものがより好ましい。

化合物（Ｂ）としては例えば置換基を有してもよいヘン
ズアルデヒド、ペンゾフエノンまたはその誘導体が挙げ
られ、具体的には下記の一般式（ＩＶ）、一般式（Ｖ）
または一般式（Ｗ）で示される。

Ｙ崎 入”　　ｘ” Ｘ一 ［式中、ｘ４、ｘ５、Ｘ＠、ｘ７、ｘ１１，　Ｘ＠、Ｘ
ＩＯ　　ＸｌｌおよびＸｌ１はそれぞれ水素原子、炭素
数７以下のアルキル基もしくはアルコキシ基、またはハ
ロゲン原子を表し、ｘｌｆｆ、Ｘ１４、Ｘｌ５、ＸＩ８
、Ｘ′７オヨヒＸ′６ハそれぞれ水素原子またはハ０ゲ
ン原子を表し、ｎは０、！または２である。］ 好ましい化合物（Ｂ）としてはペンゾフエノン；３（ま
たは４）一メチルベンゾフエノン、３（または４）一メ
トキシベンゾフエノン、３．３’　（または４，４゜）
一ジメチルベンゾフエノン、３，３゜（または４．４゜
）一ジメトキシベンゾフエノン、２．３（または２．４
）〜クロルベンゾフエノン、３．４．５−　｝リメトキ
シベンゾフエノンなどの置換ペンゾフエノン：３−ペン
ゾイルベンゾフエノン；３（または４）一メチルベンゾ
イルー３゛（または４゜）一メチルベンゾフエノン；３
（または４）一メトキシベンゾイル−３′（または４゜
）一メトキシベンゾフエノン、３．３’−シベンゾイル
ベンゾフエノン、１，３．５−　トリベンゾイルベンゼ
ンなどのメタ置換型のヘンゾフエノン、ベンズアルデヒ
ド；３（または４）一メチルベンズアルデヒド、３（ま
たは４）一メトキシベンズアルデヒド、３，４−ジメチ
ルベンズアルデヒド、３．４−ジメトキシベンズアルデ
ヒドなどの置換ベンズアルデヒドを挙げることができる
。これらの中でもベンズアルデヒド、ペンゾフエノン、
３−ペンゾイルベンゾフエノン、３３゛−ジベンゾイル
ベンゾフエノンおよび１，３．５−トリベンゾイルベン
ゼンが合成のし易さから好ましく、また３−ペンゾイル
ベンゾフエノンおよび１，３．５−　トリベンゾイルベ
ンゼンが、光反応性が良好であり、露光部と非露光部と
の屈折率差を大きくすることが可能であり、製造される
ホログラムの耐溶剤性および耐熱性が高い点で、特に好
ましい。

重合体（Ａ）と化合物（Ｂ）との組成割合は１ｏ：１〜
ｌ：ｌＯ（重量比）の範囲が好ましく、３：１〜１．２
（重量比）の範囲がより好ましい。重合体（Ａ）が有す
る構造単位（１）と化合物（Ｂ）との割合は１０：１〜
１：２０（モル比）の範囲であり、好ましくは５：１−
１：１０（モル比）の範囲である。

本発明によれば、上記の他の１つの目的は、下記の（イ
）、（０および（ハ）の工程を設けてなることを特徴と
する上記の組威物からなるホログラムの製造方法を提供
することにより達成される。

（イ）上記の組成物の薄膜を形成する工程。

０）薄膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線を照
射する工程。

（ハ）薄膜から未反応の化合物（Ｂ）を除去．する工程
。

上記（イ）工程では、重合体（Ａ）と化合物（Ｂ）とを
これらを溶解する溶媒に溶解し、得られた溶液を用いて
キャスティング法、バーコート法、スピンコート沃など
によって薄膜を形戊する。必要に応じて、薄膜を減圧処
理または熱処理することにより該薄膜から溶剤を除去す
る６ＷＩ膜の形成法は所望の７４膜の厚さの程度または
形態によって選択される。薄膜の膜厚は０．５〜５０μ
ｍの範囲であることスビンコート法が採用される。

（イ）工程に続く（０工程では、薄膜にホログラムのパ
ターンに応じて部分的に波長が２００〜４５０ｒｖの紫
外線を照射する。光源には高圧水銀ランプ、Ｎ，ガスレ
ーザ、Ｈｅ−Ｃｄレーザ、Ａｒレーザなどが用いられる
。ホログラムのパターンを形成する方法としてフォトマ
スクを用いるマスク露光法、干渉露光法、レーザビーム
直接描画法などが採用される。

（口）工程に続く（ハ）工程における未反応の化合物（
Ｂ）の除去は、通常減圧下まは常圧下で熱処理すること
により行う。熱処理の温度としては５０〜ｌＯＯ℃の範
囲であるのが好ましい。これによって露光部が非露光部
よりも高い屈折率を有し、かつ厚みが大きいホログラム
を得る。

本発明のホログラムの製造方法では、上記（ハ）工程の
次に、ホログラムのパターンが形或された薄膜の全面に
紫外線を照射する（二）工程を設けてもよい。この（二
）工程を経ることにより、製造されるホログラムの耐有
機溶剤性および耐熱性がより向上する。照射する紫外線
としては強度が１０〜４０ｍＷ／ｃｍ”であり、かつ波
長が２００　〜４５０ｎｍであるものが好ましい。紫外
線照射の時間としては３０秒間〜５分間の範囲が好まし
い。また、（ハ）工程の次または必要に応じて（二）工
程の次に、（ハ）工程の熱処理温度よりも高温の熱処理
を施す（ネ）工程を設けてもよい。この（ネ）工程を経
ることにより、製造されるホログラムの耐有機溶剤性お
よび耐熱性がさらに向上する。（ネ）工程の熱処理は１
０５〜２３０℃の範囲の温度で１５分間〜４０時間施す
ことが好適な結果を与える。１５０〜２００℃の範囲の
温度で工〜５時間熱処理するか、１１０〜１４０℃の範
囲の温度で１０〜２５時間熱処理することがより好まし
い結果を与える。

（イ）工程の次に、化合物（Ｂ）の一部のみが反応する
条件下で上記の組成物からなる薄膜の全面に紫外線を照
射する（へ）工程を設けてもよい。

なお、上記の組成物からなる薄膜にホログラムのパター
ンに応じて部分的に紫外線を照射したのち、冶剤に浸漬
することによっても所望の屈折率差と凹凸差とを有する
ホログラムを得ることができる。

本発明のホログラムとしてはピッチが０．２〜５μ由の
範囲であり、かつ露光部と非露光部との屈折率差が０．
００１〜０．１の範囲であるものが好ましい。

本発明のホログラムは高い回折効率を有し、そのばらつ
きが小さく、かつ透明性が良好で、ヘイズが少ない。従
って、本発明のホログラムは自動車用のヘッドアップデ
ィスプレイに好ましく用いられる。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。

実施例！ 反応容器にＮ，置換後に２−ブテニルメタクリレート２
６ｇ１　メチルメタクリレート５６ｇ１　アゾビスイソ
ブチロニトリル９０ｍｇおよびジオキサン３００ｇを仕
込み、封管して５５〜６０℃のウォーターバス中で２４
時間加熱し重合反応を行った。得られた反応肢をメタノ
ールＩｆｆ中にあけ、生成物を沈澱させ、乾燥させるこ
とにより、重合体（Ａ）を５０ｇ得た。この重合体（＾
）はＮＭＲによる測定結果から、２−ブテニルメタクリ
レート対メチルメタクリレートのモル比が１対３の共重
合体であることが確認された。

また、この重合体（＾）の分子量はゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフイー法により求めたポリスチレン換算
の数平均分子量は２２０，０００であった。

重合体（Ａ）１０部と、３−ペンゾイルベンゾフエノン
８部とからなる組成物をトルエンに溶解したのち、得ら
れた溶液を用いてガラス基板上にスビンコート法によっ
て薄膜（厚さ１２μｇ＋）を形成した。

この薄膜に第１図に示す干渉露光装置を用いてホログラ
ムの格子状パターンを露光した。干渉露光装置において
は、波長が３６３．８ｎｍであるＡｒレーザ１を出射し
、干渉光学系２へ入射された光はミラー３で反射された
のち、ビームスブリツタ４で２分割される。２分割され
た光はミラー５（６）により反射され、レンズ系７（８
）により平行先になり、露光面９に干渉稿を形成する。

この実施例では、得られるホログラムの周期が０．４３
μｍになるようにレンズ系およびミラーを調整して干渉
露光を行った。

干渉露光後、パターンが形成されたＷＩ膜を真空乾燥機
中で９８℃、０．２ｎｍＨｇの条件で１７時間熱処理し
、該薄膜より未反応の化合物（Ｂ）を除去した。このの
ち、薄膜の全面に２０ｍｌ／ｃｍ”の紫外線を６分間照
射することによってホログラムを得た。

得られたホログラムが有する波長６３２．８ｎｍの光に
対する回折効率は、ホログラムの格子状パターンと同じ
方向の偏光に対しては４０％、垂直方向の偏光に対して
は１６％であった。次に、このホログラムか有する可視
光線に対する分光透過特性図を第２図に示す。ここで、
第２図では波長６３２．８ｎａ＋の光に対する回折効率
が最大になるようにホログラムを配置し、測定して得ら
れた結果を示している。第２図より明らかなように、上
記のホログラムは回折光が生じる波長以外の波長の光に
対して９０％以上の透過率を有しており、可視光線に対
する透明性が極めて良好である。

実施例２〜ｌ９ 実施例ｌにおけると同様の方法で、第１表に示す重合体
（Ａ）と、化合物（Ｂ）とからなる組成物を調製した。

第１表に示す組成物を用いて、実施例ｌにおけると同様
にしてホログラムを製造した。

各実施例において製造したホログラムは実施例ｌのホロ
グラムと同様に高い回折効率を有し、かつ透明性は良好
であった。

以下余白 実施例２０ 反応容器にＮ，置換後にゲラニルメタクリレート４ｇ、
メチルメタクリレート５ｇ１アゾビスイソプチロニトリ
ル８ＩＩＩｇおよびジオキサン２５ｇを仕込み、封管し
て５５〜６０℃のウォーターバス中で２４時間加熱し重
合反応を行った。得られた反応液をメタノール４５００
ｍ（！中にあけ、生成物を沈澱させ、乾燥させることに
より、重合体（Ａ）を４５ｇ得た。この重合体（Ａ）は
ＮＭＲによる測定結果からゲラニルメタクリレート対メ
チルメタクリレートのモル比が１対３の共重合体である
ことが確認された。また、この重合体（Ａ）のゲルパー
ミエーションク口マトグラフイー法により求めたボリス
チレン換算の数平均分子量は２５０，０００であった。

上記重合体（Ａ）１０部と、３−ヘンゾイルヘンゾフエ
ノン１０部とからなる組成物をトルエンに溶解し、得ら
れた溶肢を用いてガラス基板上にスビンコート法によっ
て薄膜（厚さ１２μｍ）を形成し、実施例ｌにおけると
同じ条件で干渉露光を行った。干渉露光の後、真空乾燥
機中で９８℃、０　．　２ｍｍＨｇの条件で１７時間熱
処理し、未反応の化合物（Ｂ）を除去することによって
ホログラムを製造した。

このホログラムは実施例１のホログラムと同様に高い回
折効率を有し、かつ透明性は良好であった。

実施例２１〜３４ 実施例２０におけると同様の方法で、第２表に示す重合
体（Ａ）と、化合物（Ｂ）とからなる組戊物を調製した
。第２表に示す組威物を用いて、実施例ｌにおけると同
様にしてホログラムを製造した。

各実施例において製造したホログラムは実施例ｌのホロ
グラムと同様に高い回折効率を有し、かつ透明性は良好
であった。

なお、第１表および第２表においては部は重量部を示す
。

以下余白 ［発明の効果］ 本発明によれば、可視光線に対する透明性が良好で、か
つ高い回折効率を有するホログラムが提供される。この
ホログラムは露光部が非露光部よりも高い屈折率を有し
、かつ厚みが大きい。また本発明によれば、上記のホロ
グラムを製造する方法が提供される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のホログラムの製造に用いられる干渉露
光装置の概略構成図、第２図は実施例１のホログラムの
可視光線に対する分光透過特性図である。 １　　・・・　Ａｒレーザ、 ４　・・・ビームスプリツタ、 ７．８・・・レンズ系、 ９　・・・露光面。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式（ I ） （ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾１はシクロアルケニル基または下記一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ で示される基を表す。ここで、Ｚ＾１は２価の炭化水素
   基を表し、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ水素
   原子、アルキル基またはアルケニル基を表す。］ で示される構造単位を２〜１００モル％、下記一般式（
   II） （II）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾２は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾２はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカル
   バモイル基を表し、一般式（II）における水素原子はフ
   ッ素原子によつて置換されていてもよい。］ で示される構造単位を０〜９８モル％有する重合体（Ａ
   ）と、置換基を有していてもよい芳香族アルデヒドおよ
   び芳香族ケトンからなる群より選ばれる化合物（Ｂ）と
   からなる組成物からなるホログラム。 ２、（イ）下記一般式（ I ） （ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾１は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾１はシクロアルケニル基または下記一般式▲数式、化
   学式、表等があります▼ で示される基を表す。ここで、Ｚ＾１は２価の炭化水素
   基を表し、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ水素
   原子、アルキル基またはアルケニル基を表す。］ で示される構造単位を２〜１００モル％、下記一般式（
   II） （II）▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘ＾２は水素原子またはアルキル基を表し、Ｙ
   ＾２はフェニル基、アルコキシカルボニル基またはカル
   バモイル基を表し、一般式（II）における水素原子はフ
   ッ素原子によつて置換されていてもよい。］ で示される構造単位を０〜９８モル％有する重合体（Ａ
   ）と、置換基を有していてもよい芳香族アルデヒドおよ
   び芳香族ケトンからなる群より選ばれる化合物（Ｂ）と
   からなる組成物の薄膜を形成する工程、 （ロ）薄膜に所望のパターンに応じて部分的に紫外線を
   照射する工程、および （ハ）薄膜から未反応の化合物（Ｂ）を除去する工程、 を設けてなることを特徴とするホログラムの製造方法。