JPH03168585A - 物質の乾燥方法及び装置 - Google Patents
物質の乾燥方法及び装置Info
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- JPH03168585A JPH03168585A JP2290559A JP29055990A JPH03168585A JP H03168585 A JPH03168585 A JP H03168585A JP 2290559 A JP2290559 A JP 2290559A JP 29055990 A JP29055990 A JP 29055990A JP H03168585 A JPH03168585 A JP H03168585A
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- drying temperature
- grains
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements for supplying or controlling air or other gases for drying solid materials or objects
- F26B21/30—Controlling, e.g. regulating, parameters of gas supply
- F26B21/35—Temperature; Pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B13/00—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped
- B29B13/06—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped by drying
- B29B13/065—Conditioning or physical treatment of the material to be shaped by drying of powder or pellets
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、容器内にある物質を、該物質に応じて調整さ
れた乾燥温度をもつ乾燥空気によって乾燥させるように
した物質の乾燥方法及び装置に関するものである。
れた乾燥温度をもつ乾燥空気によって乾燥させるように
した物質の乾燥方法及び装置に関するものである。
熱可塑性の合戊物質に吸湿性があることは知られている
。少なくとも大気から吸収される湿気は顆粒内に水蒸気
を含ませるので、合或物質の顆粒を可塑化加工する場合
加工技術上の問題または品質上の問題を生じさせる。こ
のため顆粒の大部分は大きなエネルギーの消費を伴って
乾燥空気により乾燥される。乾燥機に必要な出力は初期
湿度と最終湿度及び乾燥ホッパーによる消費量、即ち処
理量に依存しているが、個々の顆粒を問題なく乾燥させ
ることはできない。最近ではいわゆる″高技術合成物質
”が市場に出回るようになってきた。
。少なくとも大気から吸収される湿気は顆粒内に水蒸気
を含ませるので、合或物質の顆粒を可塑化加工する場合
加工技術上の問題または品質上の問題を生じさせる。こ
のため顆粒の大部分は大きなエネルギーの消費を伴って
乾燥空気により乾燥される。乾燥機に必要な出力は初期
湿度と最終湿度及び乾燥ホッパーによる消費量、即ち処
理量に依存しているが、個々の顆粒を問題なく乾燥させ
ることはできない。最近ではいわゆる″高技術合成物質
”が市場に出回るようになってきた。
′“高技術合成物質″′においては、最適に乾燥された
材料と損傷／変化を被った材料との判別をすぐに行なう
ことができる。このような損傷または変化は乾燥時間が
長すぎること、及び／または＠燥温度が高すぎることに
よるものである。このことは添加剤が分離すること、ま
たは分子鎖範囲のある種の網状組織が破壊されることに
よって明白である。従って顆粒は使用不能になる。乾燥
過程の善し悪しと無．駄な時間浪費とは露点、空気量、
乾燥時間、及び乾燥温度の関数である。
材料と損傷／変化を被った材料との判別をすぐに行なう
ことができる。このような損傷または変化は乾燥時間が
長すぎること、及び／または＠燥温度が高すぎることに
よるものである。このことは添加剤が分離すること、ま
たは分子鎖範囲のある種の網状組織が破壊されることに
よって明白である。従って顆粒は使用不能になる。乾燥
過程の善し悪しと無．駄な時間浪費とは露点、空気量、
乾燥時間、及び乾燥温度の関数である。
最近、合或物質の顆粒の乾燥を空気量によって調整する
ことが知られるようになった。一度加熱された合威物質
の顆粒は、空気量を減らした場合でも、この減らした空
気量に供給されるエネルギーよりもロスが大きくならな
い程度の長さだけ乾燥温度を維持する。自然に冷えた顆
粒は望ましいものではない。なぜならエネルギー上の考
慮から乾燥ホッパーはできるだけ良好に絶縁されている
べきだからである。空気量が減らされたにもかかわらず
乾燥温度が一定に保持されるので、顆粒が損傷する可能
性がある。
ことが知られるようになった。一度加熱された合威物質
の顆粒は、空気量を減らした場合でも、この減らした空
気量に供給されるエネルギーよりもロスが大きくならな
い程度の長さだけ乾燥温度を維持する。自然に冷えた顆
粒は望ましいものではない。なぜならエネルギー上の考
慮から乾燥ホッパーはできるだけ良好に絶縁されている
べきだからである。空気量が減らされたにもかかわらず
乾燥温度が一定に保持されるので、顆粒が損傷する可能
性がある。
本発明の課題は、物質を損傷させることなくエネルギー
節約して且つ確実に行なえるように乾燥方法及び装置を
提供することである。
節約して且つ確実に行なえるように乾燥方法及び装置を
提供することである。
本発明は，上記課題を解決するため、方法においては、
乾燥温度を物質の処理量に依存して調整することを特徴
とし，装置においては、搬送装置の弁が調整ユニットに
接続していることを特徴とするものである。
乾燥温度を物質の処理量に依存して調整することを特徴
とし，装置においては、搬送装置の弁が調整ユニットに
接続していることを特徴とするものである。
本発明による方法では、調整量として乾燥温度を使用す
る。露点が一定で、容器（乾燥ホッパー）の充填率が一
定で、空気量が一定とすると、瞬間的な消費量に応じて
乾燥温度を非常に簡単に調整することができる。これに
よって，容器を通過する物質の熱的な損傷を極めて簡単
に防止することができる。物質の処理量が少なければ容
器内での物質の滞留時間が長いことを意味し，その結果
乾燥温度を低下させることができる。従って容器内での
物質の滞留時間が長くても物質の熱的な損傷を確実に避
けることができる．さらにこれによってエネルギーをか
なり節約することができ、従って本発明による方法を適
用するとエネルギーの節約ばかりでなく、コストの節約
にもなる。
る。露点が一定で、容器（乾燥ホッパー）の充填率が一
定で、空気量が一定とすると、瞬間的な消費量に応じて
乾燥温度を非常に簡単に調整することができる。これに
よって，容器を通過する物質の熱的な損傷を極めて簡単
に防止することができる。物質の処理量が少なければ容
器内での物質の滞留時間が長いことを意味し，その結果
乾燥温度を低下させることができる。従って容器内での
物質の滞留時間が長くても物質の熱的な損傷を確実に避
けることができる．さらにこれによってエネルギーをか
なり節約することができ、従って本発明による方法を適
用するとエネルギーの節約ばかりでなく、コストの節約
にもなる。
本発明による装置では，搬送装置の弁が調整ユニットに
接続されている。この弁が作動すると、即ち容器から物
質が搬送され新たな物質が補給されると、物質の処理量
が再び上昇するまで調整ユニットを介して乾燥温度が降
下する。このようにして物質が熱的な損傷を被ることが
確実に回避される。
接続されている。この弁が作動すると、即ち容器から物
質が搬送され新たな物質が補給されると、物質の処理量
が再び上昇するまで調整ユニットを介して乾燥温度が降
下する。このようにして物質が熱的な損傷を被ることが
確実に回避される。
次に、本発明の実施例を添付の図面を用いて説明する。
第１図は断片、特に顆粒の乾燥に適した乾燥装置の簡酩
図である。この乾燥装置により例えば熱可塑性の合成物
質を申し分なく乾燥させることができる。顆粒は２つの
サイロ１のなかに蓄えられている。サイロ１の排出部２
は排出管３と４とを介して加工機械（図示せず）に連通
している。
図である。この乾燥装置により例えば熱可塑性の合成物
質を申し分なく乾燥させることができる。顆粒は２つの
サイロ１のなかに蓄えられている。サイロ１の排出部２
は排出管３と４とを介して加工機械（図示せず）に連通
している。
１５は加工機械の吸込み搬送装置である。加工機械は例
えば合成物質の顆粒を塑性化する塑性化磯械である。各
サイロ１上には搬送装置５，６が設けられている。図の
例では搬送装置５は吸込み搬送装置である。搬送装置５
，６は送風管７と少なくとも１つのフィルタ８とを介し
て送風機９に接続されている。
えば合成物質の顆粒を塑性化する塑性化磯械である。各
サイロ１上には搬送装置５，６が設けられている。図の
例では搬送装置５は吸込み搬送装置である。搬送装置５
，６は送風管７と少なくとも１つのフィルタ８とを介し
て送風機９に接続されている。
乾燥装置はさらに乾燥機１０を有している。乾燥機１０
内には少なくとも工つの加熱機と、少なくとも１つの乾
燥カートリッジと、送風機とが公知の態様で配置されて
いる。送風機と乾燥カートリッジと加熱機とは乾燥循環
系ｌ１のなかに設けられている。乾燥循環系１１は乾燥
管１２を有している。乾燥管１２のなかには加熱カート
リッジと加熱機とが設けられ、乾燥管１２は両サイロｌ
のなかにそれぞれ排出口を有している。乾燥空気はこの
排出口を通って下からサイロ内部空間内に侵入する。侵
入した乾燥空気はサイ口内の乾燥されるべき物質内を上
方へ上昇し、還流管１３を通って再びサイロ１から排出
される。還流管１３は湿気を帯びた乾燥空気を乾燥機１
０に戻す。還流管１３内には、乾燥機１０の内部に送風
機を設けるのが合目的である。この送風機は乾燥空気を
サイロ１内へ送風し、乾燥空気は還流管工３を介して吸
い込まれる。乾燥管１２と還流管１３とは、各サイロ１
を互いに独立に乾燥することができるように構或しても
よい。この場合適当な切換え弁が乾燥管１２と還流管１
３内に設けられる。
内には少なくとも工つの加熱機と、少なくとも１つの乾
燥カートリッジと、送風機とが公知の態様で配置されて
いる。送風機と乾燥カートリッジと加熱機とは乾燥循環
系ｌ１のなかに設けられている。乾燥循環系１１は乾燥
管１２を有している。乾燥管１２のなかには加熱カート
リッジと加熱機とが設けられ、乾燥管１２は両サイロｌ
のなかにそれぞれ排出口を有している。乾燥空気はこの
排出口を通って下からサイロ内部空間内に侵入する。侵
入した乾燥空気はサイ口内の乾燥されるべき物質内を上
方へ上昇し、還流管１３を通って再びサイロ１から排出
される。還流管１３は湿気を帯びた乾燥空気を乾燥機１
０に戻す。還流管１３内には、乾燥機１０の内部に送風
機を設けるのが合目的である。この送風機は乾燥空気を
サイロ１内へ送風し、乾燥空気は還流管工３を介して吸
い込まれる。乾燥管１２と還流管１３とは、各サイロ１
を互いに独立に乾燥することができるように構或しても
よい。この場合適当な切換え弁が乾燥管１２と還流管１
３内に設けられる。
乾燥カートリッジ内では乾燥空気から湿気が再び抜き取
られる。このようにして乾燥された空気は次の加熱機に
よって、サイロ１内にある顆粒を乾燥させるために最適
な温度に加熱される。
られる。このようにして乾燥された空気は次の加熱機に
よって、サイロ１内にある顆粒を乾燥させるために最適
な温度に加熱される。
サイロ１からは、乾燥された顆粒が排出部２を介して抜
き取られ、加工機械に供給される。排出部２から抜き取
られた顆粒の量だけ新たに顆粒が搬送装置５または６に
よって追加充填される。従ってサイロ１の充填度は常に
一定である。顆粒が過度に加熱されることを防止するた
め、乾燥温度は顆粒処理量の関数として調整される。こ
れに関して第２図を用いて２つの実施例に関し説明する
。
き取られ、加工機械に供給される。排出部２から抜き取
られた顆粒の量だけ新たに顆粒が搬送装置５または６に
よって追加充填される。従ってサイロ１の充填度は常に
一定である。顆粒が過度に加熱されることを防止するた
め、乾燥温度は顆粒処理量の関数として調整される。こ
れに関して第２図を用いて２つの実施例に関し説明する
。
この場合露点、サイロ１の充填度、空気量は一定とする
。調整量として用いられる乾燥温度は、顆？の瞬間消費
量に応じて調整してもよい。これによって，顆粒がサイ
ロ１を通過するときの顆粒の熱的損傷を予防することが
できる。露点とサイロ１を通過する乾燥空気の量とが一
定と仮定すると、乾燥されるべき顆粒に対する最大に可
能な乾燥温度を選定したときに乾燥時間が短くなる。逆
に乾燥温度が低いと乾燥時間は長くなる。顆粒の処理量
の実際値を検出することによって乾燥温度が調整される
。この場合、合戒物質の顆粒は最大許容乾燥温度または
最小乾燥時間をもたねばならない。
。調整量として用いられる乾燥温度は、顆？の瞬間消費
量に応じて調整してもよい。これによって，顆粒がサイ
ロ１を通過するときの顆粒の熱的損傷を予防することが
できる。露点とサイロ１を通過する乾燥空気の量とが一
定と仮定すると、乾燥されるべき顆粒に対する最大に可
能な乾燥温度を選定したときに乾燥時間が短くなる。逆
に乾燥温度が低いと乾燥時間は長くなる。顆粒の処理量
の実際値を検出することによって乾燥温度が調整される
。この場合、合戒物質の顆粒は最大許容乾燥温度または
最小乾燥時間をもたねばならない。
以下では、出力を検出する最も簡単な変形例として吸込
み搬送装置を仮定する。領域■において顆粒を予乾燥さ
せる。乾燥過程をスタートさせると、顆粒を乾燥温度Ｔ
１で予乾燥時間ｔ■だけ予乾燥させる。予乾燥時間ｔエ
が経過した後本来の調整過程（領域ｎ）が始まる。予乾
燥時間Ｌエが経過したら調整時間ｔ２をスタートさせる
。この調整時間ｔ２内に搬送装置５，６内の真空弁が作
動していないと、即ち顆粒がサイロ１内に補給されない
と、調整時間ｔ２の終了時に乾燥温度がＴ１からＴ２へ
低下する．この実施例では、領域■においてはこのよう
な吸込み過程が起こらなかったものとする。従って乾燥
温度は低い値Ｔ２へ低下する。この場合真空弁は位１１
０を占める。この時サイロ１内には新しい顆粒が補給さ
れていないので、乾燥空気は低い乾燥温度で乾燥される
。
み搬送装置を仮定する。領域■において顆粒を予乾燥さ
せる。乾燥過程をスタートさせると、顆粒を乾燥温度Ｔ
１で予乾燥時間ｔ■だけ予乾燥させる。予乾燥時間ｔエ
が経過した後本来の調整過程（領域ｎ）が始まる。予乾
燥時間Ｌエが経過したら調整時間ｔ２をスタートさせる
。この調整時間ｔ２内に搬送装置５，６内の真空弁が作
動していないと、即ち顆粒がサイロ１内に補給されない
と、調整時間ｔ２の終了時に乾燥温度がＴ１からＴ２へ
低下する．この実施例では、領域■においてはこのよう
な吸込み過程が起こらなかったものとする。従って乾燥
温度は低い値Ｔ２へ低下する。この場合真空弁は位１１
０を占める。この時サイロ１内には新しい顆粒が補給さ
れていないので、乾燥空気は低い乾燥温度で乾燥される
。
第２図の領域■では、サイロ１内へ新しい顆粒を補給す
るため、吸込み搬送装置５または６の真空弁が２回開弁
じたものと仮定する（位ｉ！■）。
るため、吸込み搬送装置５または６の真空弁が２回開弁
じたものと仮定する（位ｉ！■）。
真空弁が開弁ずると（位置１）、調整時間ｔ２が新たに
スタートする９この調整時間ｔ２内に真空弁が再度作動
すると、真空弁が再度開弁じたときに調整時間ｔ２が新
たにスタートする。同時に乾燥温度は低い値Ｔ２から再
び高い値Ｔ１へ上昇する。この上昇は必要である．なぜ
なら、所定の調整時間ｔ２内に，顆粒を損傷させること
なく乾燥温度を上昇させて最適な乾燥を行なうことがで
きるほどの量の顆粒がサイロ１内に補給されたからであ
る。所定のｉｕ時間ｔ２内に真空弁が１回だけ開弁させ
る場合には、乾燥温度を値Ｔ１に上昇させる必要はない
。この場合、サイロ１内で顆粒を最適に乾燥させるため
には、乾燥温度を低い値Ｔ２にすれば十分である。領域
■では、新たにスタートした調整時間ｔ２内で新たな充
填過程、即ち真空弁を新たに開弁させろ過程は行なわな
い。
スタートする９この調整時間ｔ２内に真空弁が再度作動
すると、真空弁が再度開弁じたときに調整時間ｔ２が新
たにスタートする。同時に乾燥温度は低い値Ｔ２から再
び高い値Ｔ１へ上昇する。この上昇は必要である．なぜ
なら、所定の調整時間ｔ２内に，顆粒を損傷させること
なく乾燥温度を上昇させて最適な乾燥を行なうことがで
きるほどの量の顆粒がサイロ１内に補給されたからであ
る。所定のｉｕ時間ｔ２内に真空弁が１回だけ開弁させ
る場合には、乾燥温度を値Ｔ１に上昇させる必要はない
。この場合、サイロ１内で顆粒を最適に乾燥させるため
には、乾燥温度を低い値Ｔ２にすれば十分である。領域
■では、新たにスタートした調整時間ｔ２内で新たな充
填過程、即ち真空弁を新たに開弁させろ過程は行なわな
い。
従ってこの調整時間ｔ２が終了すると乾燥温度は再び低
い値Ｔ２へ低下する。
い値Ｔ２へ低下する。
領域■では真空弁を３回開弁させる。しかし個々の開弁
過程の間の時間間隔は調整時間ｔ２よりも長い。従って
乾燥温度は低い値Ｔ２に留まり、高い値Ｔ１へ切り換え
る必要はない。第２図に示すように、真空弁が開くたび
に調整時間ｔ２をスタートさせる。
過程の間の時間間隔は調整時間ｔ２よりも長い。従って
乾燥温度は低い値Ｔ２に留まり、高い値Ｔ１へ切り換え
る必要はない。第２図に示すように、真空弁が開くたび
に調整時間ｔ２をスタートさせる。
総括すると、調整時間ｔ２は吸込み搬送装置５，６の真
空弁によってスタートする。調整時間ｔ２の長さは顆粒
の種類、サイロ１への乾燥空気の質流量、及び顆粒の処
理量に依存している。調整時間ｔ２により顆粒を最適に
乾燥させることができる。調整時間ｔ２内で真空弁を新
たに開弁させない場合には，この調整時間が終了した後
に乾燥温度を低い値Ｔ２へ調整する。一方調整時間ｔ７
内で真空弁を新たに開弁させる場合には、調整時間ｔ２
を新たにスタートさせる。この場合乾燥温度を高い値Ｔ
１へ調整する。
空弁によってスタートする。調整時間ｔ２の長さは顆粒
の種類、サイロ１への乾燥空気の質流量、及び顆粒の処
理量に依存している。調整時間ｔ２により顆粒を最適に
乾燥させることができる。調整時間ｔ２内で真空弁を新
たに開弁させない場合には，この調整時間が終了した後
に乾燥温度を低い値Ｔ２へ調整する。一方調整時間ｔ７
内で真空弁を新たに開弁させる場合には、調整時間ｔ２
を新たにスタートさせる。この場合乾燥温度を高い値Ｔ
１へ調整する。
第２図の下半分は乾燥温度調整の第２実施例である。ま
ず顆粒を乾燥温度Ｔ１で時間ｔ０の間予乾燥させる。こ
の場合真空弁は前記実施例の場合と同様に閉じている（
位置Ｏ）。予乾燥時間ｔ１が終了した後も乾燥温度Ｔ１
は維持される。次に、この実施例の場合吸込み殻送装置
５または６の真空弁が短い時間間隔で３回開弁させられ
る。このことは、各サイロから比較的多量の顆粒が所定
の時間内に抜き取られることを意味している。この場合
出力は高く、これに応じてサイロ１内での顆粒の滞留時
間は短い。従って乾燥温度は低下せず、滞留時間が短い
にもかかわらず顆粒は十分に乾燥される。
ず顆粒を乾燥温度Ｔ１で時間ｔ０の間予乾燥させる。こ
の場合真空弁は前記実施例の場合と同様に閉じている（
位置Ｏ）。予乾燥時間ｔ１が終了した後も乾燥温度Ｔ１
は維持される。次に、この実施例の場合吸込み殻送装置
５または６の真空弁が短い時間間隔で３回開弁させられ
る。このことは、各サイロから比較的多量の顆粒が所定
の時間内に抜き取られることを意味している。この場合
出力は高く、これに応じてサイロ１内での顆粒の滞留時
間は短い。従って乾燥温度は低下せず、滞留時間が短い
にもかかわらず顆粒は十分に乾燥される。
より長い時間にわたって顆粒を抜き取らないと、乾燥温
度は低い値Ｔ２に低下する。前記実施例とは異なり、温
度の低下は連続的に行なわれる。吸込み搬送装置の出力
が小さく、これに応じてサイロ１内での顆粒の滞留時間
が長いので、乾燥温度を低下させることができる。従っ
て顆粒を十分に乾燥させることができ、乾燥温度Ｔ２が
低いことによる損傷の心配はない。
度は低い値Ｔ２に低下する。前記実施例とは異なり、温
度の低下は連続的に行なわれる。吸込み搬送装置の出力
が小さく、これに応じてサイロ１内での顆粒の滞留時間
が長いので、乾燥温度を低下させることができる。従っ
て顆粒を十分に乾燥させることができ、乾燥温度Ｔ２が
低いことによる損傷の心配はない。
サイロ１からわずかな量の顆粒を抜取り、これに応じて
少量の顆粒をサイロ１に補給すれば、乾燥温度は低下し
たままである。吸込み式搬送装置５または６の真空弁を
再びより長い時間間隔及び／またはより短い時間間隔で
開弁ずれば、乾燥温度は再び値Ｔ１へ上昇する。乾燥温
度をほぼ不連続的に低下または上昇させる前記実施例の
場合とは異なり，この温度上昇は連続的に行なわれる。
少量の顆粒をサイロ１に補給すれば、乾燥温度は低下し
たままである。吸込み式搬送装置５または６の真空弁を
再びより長い時間間隔及び／またはより短い時間間隔で
開弁ずれば、乾燥温度は再び値Ｔ１へ上昇する。乾燥温
度をほぼ不連続的に低下または上昇させる前記実施例の
場合とは異なり，この温度上昇は連続的に行なわれる。
第２図の下半分には、さらに、サイロ１から顆粒を不連
続的に抜き取るのではなく、比較的長時間にわたって連
続的に抜きとることもできることが示されている。領域
１ｋにおいて、吸込み搬送装置５または６の真空弁を開
弁させる。その結果顆粒はサイロ１から常時抜き取られ
、これに応じて新たに顆粒が補給される。この時間ｔ，
の間乾燥温度は高い値Ｔ１に維持され、従って新たな顆
粒は十分に乾燥される。
続的に抜き取るのではなく、比較的長時間にわたって連
続的に抜きとることもできることが示されている。領域
１ｋにおいて、吸込み搬送装置５または６の真空弁を開
弁させる。その結果顆粒はサイロ１から常時抜き取られ
、これに応じて新たに顆粒が補給される。この時間ｔ，
の間乾燥温度は高い値Ｔ１に維持され、従って新たな顆
粒は十分に乾燥される。
顆粒の抜取りが連続的にまたは不連続的にゼロに減少す
ると、乾燥温度は連続的に値Ｔ２へ低下する。
ると、乾燥温度は連続的に値Ｔ２へ低下する。
この乾燥調整は大きな利点を持っている。顆粒の処理量
が少ないと乾燥温度は低下し、その結果サイロ１内の顆
粒は熱的な損傷を受けない。顆粒の処理量が少ない場合
、初期の乾燥に適したより高い温度を維持すると、顆粒
の処理量が少ないために、即ちサイロ１内での顆粒の滞
留時間が長いために、顆粒を熱的に損傷させることにな
ろう。
が少ないと乾燥温度は低下し、その結果サイロ１内の顆
粒は熱的な損傷を受けない。顆粒の処理量が少ない場合
、初期の乾燥に適したより高い温度を維持すると、顆粒
の処理量が少ないために、即ちサイロ１内での顆粒の滞
留時間が長いために、顆粒を熱的に損傷させることにな
ろう。
これは上記の乾燥温度調整方法により確実に回避される
。顆粒の処理量が少ない場合に、即ち乾燥時間が長い場
合に、温度を段階的に降下させることにより、かなりの
エネルギーを節約することができる。上記した乾燥装置
は完全自動的に稼働、調整することができる。最新の技
術を翻使してマイクロプロセッサにより制御される（コ
ンピュータＦａ！Ｉ ＃ ）乾！Ｊ設備の場合には、必
要な付加投資が比較的少なくて済む．このような乾燥設
備は、設備の規模に応じて制御及び調整を行なえば単に
エネルギーの節約だけでほぼ一年以内に減価賞却するこ
とができるが、乾燥された物質の品質向上すら考慮され
ていない． なお第１図は制御ユリソトまたは調整ユニット１４をも
示している． 上記した実施例とは異なり、顆粒の処理量をサイロまた
は乾燥ホッパーエの上流側または下流側に設けた装置で
検出してもよい。これによって上述した調整が変化を被
ることはない。
。顆粒の処理量が少ない場合に、即ち乾燥時間が長い場
合に、温度を段階的に降下させることにより、かなりの
エネルギーを節約することができる。上記した乾燥装置
は完全自動的に稼働、調整することができる。最新の技
術を翻使してマイクロプロセッサにより制御される（コ
ンピュータＦａ！Ｉ ＃ ）乾！Ｊ設備の場合には、必
要な付加投資が比較的少なくて済む．このような乾燥設
備は、設備の規模に応じて制御及び調整を行なえば単に
エネルギーの節約だけでほぼ一年以内に減価賞却するこ
とができるが、乾燥された物質の品質向上すら考慮され
ていない． なお第１図は制御ユリソトまたは調整ユニット１４をも
示している． 上記した実施例とは異なり、顆粒の処理量をサイロまた
は乾燥ホッパーエの上流側または下流側に設けた装置で
検出してもよい。これによって上述した調整が変化を被
ることはない。
次に、本発明の実施態様を列記しておく。
（１）乾燥時間をより長くして乾燥温度を降下させるこ
とを特徴とする、請求項１に記載の方法。
とを特徴とする、請求項１に記載の方法。
（２）物質の処理量をより少なくして乾燥温度を降下さ
せることを特徴とする、請求項１または上記第１項に記
載の方法。
せることを特徴とする、請求項１または上記第１項に記
載の方法。
（３）乾燥温度を調整時間（ｔ２）内で調整することを
特徴とする、請求項１、上記第１項または第２項に記載
の方法。
特徴とする、請求項１、上記第１項または第２項に記載
の方法。
（４）物質の補給過程によって調整時間（ｔ２）によっ
てスタートさせることを特徴とする、上記第３項に記載
の方法。
てスタートさせることを特徴とする、上記第３項に記載
の方法。
（５）調整時間（ｔ２）終了後より低い乾燥温度（Ｔ２
）に調整することを特徴とする、上記第３項または第４
項に記載の方法。
）に調整することを特徴とする、上記第３項または第４
項に記載の方法。
（６）調整時間（ｔ２）内で新たに補給過程を行なって
調整時間（ｔ２）を新たにスタートさせることを特徴と
する、上記第３項から第５項までのいずれか１つに記載
の方法。
調整時間（ｔ２）を新たにスタートさせることを特徴と
する、上記第３項から第５項までのいずれか１つに記載
の方法。
（７）弁の切り換え信号が調整ユニット（１４）のタイ
マーをスタートさせることを特徴とする、請求項２に記
載の装置。
マーをスタートさせることを特徴とする、請求項２に記
載の装置。
（８）タイマーの時間を調整可能であることを特徴とす
る，上記第７項に記載の装置。
る，上記第７項に記載の装置。
（９）タイマーの出力信号が温度調整機を制御すること
を特徴とする、上記第７項または第８項に記載の装置。
を特徴とする、上記第７項または第８項に記載の装置。
第１図は本発明による装置の構成図５第２図は本発明に
よる方法の２つの実施例のフローチャートである。 ５，６・・・・・吸込み搬送装置 工４・・・・・・調整ユニット ｔ２・・・・・・・調整時間
よる方法の２つの実施例のフローチャートである。 ５，６・・・・・吸込み搬送装置 工４・・・・・・調整ユニット ｔ２・・・・・・・調整時間
Claims (2)
- （１）容器内にある物質を、該物質に応じて調整された
乾燥温度をもつ乾燥空気によって乾燥させるようにした
物質の乾燥方法において、乾燥温度を物質の処理量に依
存して調整す ることを特徴とする乾燥方法。 - （２）少なくとも１つの容器と少なくとも１つの搬送装
置とを有し、容器に乾燥管が通じ且つ乾燥空気のための
還流管が接続し、搬送装置が、物質を搬送させるために
操作可能な弁を有している、請求項１に記載の方法を実
施するための装置において、 搬送装置（５、６）の前記弁が調整ユニッ ト（１４）に接続していることを特徴とする装置。
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