JPH03168907A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH03168907A JPH03168907A JP30816089A JP30816089A JPH03168907A JP H03168907 A JPH03168907 A JP H03168907A JP 30816089 A JP30816089 A JP 30816089A JP 30816089 A JP30816089 A JP 30816089A JP H03168907 A JPH03168907 A JP H03168907A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- glass
- magnetic
- ferromagnetic metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005304 joining Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
星業ユ14叫旧別比
この発明は例えばHDTV対応のビデオテーブレコーダ
等の高周波信号を記録再生する軟磁性薄膜と非磁性基板
からなる磁気ヘッドの製造方法に関する。
等の高周波信号を記録再生する軟磁性薄膜と非磁性基板
からなる磁気ヘッドの製造方法に関する。
従泉空皮置
従来、この種の磁気ヘッドの製造方法は、第8図〜第1
4図に示すような方法となっていた。以下に従来の磁気
ヘッドの製造方法について図を参照しながら説明する。
4図に示すような方法となっていた。以下に従来の磁気
ヘッドの製造方法について図を参照しながら説明する。
第8図に示すように、複数個の非磁性体基板31の表面
に、スパッタリング等の真空薄膜形成技術を用い、同図
bのように強磁性体金属薄膜32と絶縁薄膜33とを交
互に積層した積層膜34を形成し、更に複数個の非磁性
体基板33の一番外側の面35a,35bを除く基板面
の少なくとも一方に真空薄膜形成技術を用いガラス薄膜
36を成膜する。次に、これら複数個の非磁性体基板3
1,強磁性体金属薄膜32,積層薄lX33およびガラ
ス薄膜36の複合体を重ね合わせ加圧しながら加熱し、
ガラスで融着させて第9図に示すような接合体37を得
ることができる。この接合体37をダイシングソー等の
回転砥石やワイヤーソー等でスライスして、第10図に
示すような一対の磁気コアブロック半体38a,38b
を得る。ここで、ビデオテープレコーダに用いられる磁
気ヘッドにおいては、アジマス記録ノ5式が採用きれで
いるのぞ、所望のアジマス角を設けてスライスしておく
ことは、周知の通りである。
に、スパッタリング等の真空薄膜形成技術を用い、同図
bのように強磁性体金属薄膜32と絶縁薄膜33とを交
互に積層した積層膜34を形成し、更に複数個の非磁性
体基板33の一番外側の面35a,35bを除く基板面
の少なくとも一方に真空薄膜形成技術を用いガラス薄膜
36を成膜する。次に、これら複数個の非磁性体基板3
1,強磁性体金属薄膜32,積層薄lX33およびガラ
ス薄膜36の複合体を重ね合わせ加圧しながら加熱し、
ガラスで融着させて第9図に示すような接合体37を得
ることができる。この接合体37をダイシングソー等の
回転砥石やワイヤーソー等でスライスして、第10図に
示すような一対の磁気コアブロック半体38a,38b
を得る。ここで、ビデオテープレコーダに用いられる磁
気ヘッドにおいては、アジマス記録ノ5式が採用きれで
いるのぞ、所望のアジマス角を設けてスライスしておく
ことは、周知の通りである。
次に第11図に示すように、少な《とも一方の磁気コア
ブロック半体38aのギャップ突き合わせ面39aに、
グイシングソー等の回転砥石を用い強磁性体金属薄膜と
絶縁薄膜の積層膜34を挟んで平行に補強用ガラス溝4
0を切り欠く。ここで第11図は、袖強用ガラス溝40
が強磁性金属薄膜と絶縁薄膜の積層体34に平行に切り
欠かれるようにアジマス角θなキャン々ルする治具41
に乗せた場合を示している。
ブロック半体38aのギャップ突き合わせ面39aに、
グイシングソー等の回転砥石を用い強磁性体金属薄膜と
絶縁薄膜の積層膜34を挟んで平行に補強用ガラス溝4
0を切り欠く。ここで第11図は、袖強用ガラス溝40
が強磁性金属薄膜と絶縁薄膜の積層体34に平行に切り
欠かれるようにアジマス角θなキャン々ルする治具41
に乗せた場合を示している。
次に、第12図に示すように、少な《とも一方の磁気コ
アブ口ツク半体38a.38hのギャップ突き合わせ而
に、巻線内窓42およびガラス溝43を切り欠く。更に
磁気コアブロック半体38a * 3 8 bのギャッ
プ突き合わせ面にガラス44をモールドし、更にこの面
を鏡面研磨した後、対の磁気コアブロック半体38a,
38bのギャップ突き合わせ面どうしをギヤツブスd−
サを介して突き合わせ、加熱しガラス/14を溶融接合
して磁気コアブロック45を得る。
アブ口ツク半体38a.38hのギャップ突き合わせ而
に、巻線内窓42およびガラス溝43を切り欠く。更に
磁気コアブロック半体38a * 3 8 bのギャッ
プ突き合わせ面にガラス44をモールドし、更にこの面
を鏡面研磨した後、対の磁気コアブロック半体38a,
38bのギャップ突き合わせ面どうしをギヤツブスd−
サを介して突き合わせ、加熱しガラス/14を溶融接合
して磁気コアブロック45を得る。
次に第l3図に示すように磁気コアブロック45の磁性
媒体対接面46に、磁性媒体色の接触面積を小キ<シて
、媒体との接触を良好にするための切り欠き溝47を、
強磁性体金属薄膜と絶縁薄膜の積層模34の両側に平行
に設ける。更に、第14図に示すように、磁性媒体との
対接面46にdl1面研磨を施し、スライサー等の回転
砥石やワイヤーソー等でスライスして磁気ヘッドチップ
48を得るような製造方法となっていた。
媒体対接面46に、磁性媒体色の接触面積を小キ<シて
、媒体との接触を良好にするための切り欠き溝47を、
強磁性体金属薄膜と絶縁薄膜の積層模34の両側に平行
に設ける。更に、第14図に示すように、磁性媒体との
対接面46にdl1面研磨を施し、スライサー等の回転
砥石やワイヤーソー等でスライスして磁気ヘッドチップ
48を得るような製造方法となっていた。
発咀夏邂扶↓ユjユまふ五鳳一
ところで、上記の従来の磁気ヘッドの製造方法は、第1
1図に示すような磁気コアブロック半体38aのギャッ
プ突き会わせ面39aに補強用ガラス溝40を切り欠く
場合や、第13図に示すような媒体その接触面積を小さ
くするための切欠溝47を切削加工する場合や、磁気へ
ッドチップに切り離す場合、非磁牲体基板31の厚さや
強磁性体金属薄膜と絶縁薄膜の積層膜34の膜厚やガラ
ス膜36の膜厚にどうしても1μm程度のばらつきが生
じ、これらを複数個電ね合わせて接合した接合体37に
は、数μmのピッチのずれが発生し、ダイシングソー等
の目転砥石やワイヤーソーで、切削加工を行う場会に、
所望の位置に加工を施すことができなくなり、歩留京り
が低下したり、前記ピッチのずれに対応した加工をする
ために手間がかかる等の欠点があった。
1図に示すような磁気コアブロック半体38aのギャッ
プ突き会わせ面39aに補強用ガラス溝40を切り欠く
場合や、第13図に示すような媒体その接触面積を小さ
くするための切欠溝47を切削加工する場合や、磁気へ
ッドチップに切り離す場合、非磁牲体基板31の厚さや
強磁性体金属薄膜と絶縁薄膜の積層膜34の膜厚やガラ
ス膜36の膜厚にどうしても1μm程度のばらつきが生
じ、これらを複数個電ね合わせて接合した接合体37に
は、数μmのピッチのずれが発生し、ダイシングソー等
の目転砥石やワイヤーソーで、切削加工を行う場会に、
所望の位置に加工を施すことができなくなり、歩留京り
が低下したり、前記ピッチのずれに対応した加工をする
ために手間がかかる等の欠点があった。
星延金鼓沃土玉禿&立王且一
この発明の磁気ヘッドの製造方法では、第1の非磁性体
基板の表面に少なくとも強磁性体金属薄膜に被着形成し
、第2の非磁性体基板の表面をガラス薄膜を溶融して接
合し接合体を形成し、強磁性体金属薄膜の面内方向に、
磁気コア事体が磁気ギャップ深さ方向に複数個並ぶよう
に切り出して、一対の磁気コアブロック半体とし、以後
の製造工程を施す。
基板の表面に少なくとも強磁性体金属薄膜に被着形成し
、第2の非磁性体基板の表面をガラス薄膜を溶融して接
合し接合体を形成し、強磁性体金属薄膜の面内方向に、
磁気コア事体が磁気ギャップ深さ方向に複数個並ぶよう
に切り出して、一対の磁気コアブロック半体とし、以後
の製造工程を施す。
拒批
上記の構成によるた、強磁性体金属薄膜と絶縁薄膜の積
層膜の面内方向にのみ複数個の薄膜状磁気へッドコアが
位置し、法線方向には薄膜状磁気コアは位置しないため
、原理的に基板厚さや膜厚のばらつきにより、コア突き
合わせ作業時のピッチのずれがない構造であり、ピッチ
のずれによる補強用ガラス溝や磁性媒体その接触面積を
小きくするための切欠講の加工位置のずれをなくすこと
ができる。
層膜の面内方向にのみ複数個の薄膜状磁気へッドコアが
位置し、法線方向には薄膜状磁気コアは位置しないため
、原理的に基板厚さや膜厚のばらつきにより、コア突き
合わせ作業時のピッチのずれがない構造であり、ピッチ
のずれによる補強用ガラス溝や磁性媒体その接触面積を
小きくするための切欠講の加工位置のずれをなくすこと
ができる。
実1u殊
以下、この発明について図面を参照して説明する。
第1図〜第7図はこの発明の磁気ヘッドの製造力法の一
実施例を示す斜視図である。
実施例を示す斜視図である。
第1図に示すように、第1の非磁性体基板1の内面にス
パッタリング等の真空薄膜形成技術を用いて、センダス
ト等の強磁性体金属薄膜3とSif+等の絶縁薄膜4こ
を交互に積層し積層膜5を形成する。次に、第2の非磁
性体基板2の表面に真空薄膜形成技術を用いて、ガラス
膜6を被着形成する。次に前記積層膜6とガラス膜6と
を突き合わせ加熱●溶融接合し、第2図に示すような接
合体7を得る。
パッタリング等の真空薄膜形成技術を用いて、センダス
ト等の強磁性体金属薄膜3とSif+等の絶縁薄膜4こ
を交互に積層し積層膜5を形成する。次に、第2の非磁
性体基板2の表面に真空薄膜形成技術を用いて、ガラス
膜6を被着形成する。次に前記積層膜6とガラス膜6と
を突き合わせ加熱●溶融接合し、第2図に示すような接
合体7を得る。
次に第3図に示すように、前記接合体7をアジマス角θ
を設けて切り離し、一対の短冊状の磁気コアブロック半
体8a,8bを得る。
を設けて切り離し、一対の短冊状の磁気コアブロック半
体8a,8bを得る。
次に第4図に示すように、少なくとも一方の磁気コアブ
ロック半体8aのギャップ突き合わせ面9aに強磁性体
金属薄膜と絶縁薄膜の積層膜5の両側に積層膜5と平行
に補強用ガラス溝10を切り欠く、更に、巻線用内窓1
1とガラス溝12を切削加工する。
ロック半体8aのギャップ突き合わせ面9aに強磁性体
金属薄膜と絶縁薄膜の積層膜5の両側に積層膜5と平行
に補強用ガラス溝10を切り欠く、更に、巻線用内窓1
1とガラス溝12を切削加工する。
次に磁気コアブロック半体8 a * 8 bのギャッ
プ突き合わせ面にガラス13を加熱モールドした後、鏡
面研磨を施す。
プ突き合わせ面にガラス13を加熱モールドした後、鏡
面研磨を施す。
更に第5図に示すように、ギヤップスペーサを介して一
対の磁気へッドコア半体8a,8bを突き合わせ、磁性
媒体対接面をのぞむ方向14とその反対のヘッド下端面
をのぞむ方向15より、前記積層体5どうしを突き合わ
せ所望のトラック幅が得られるようにし加熱し、ガラス
13を溶融接合し磁気コアブロック16を得る。更に所
望の切断位置l7でスライスして第6図に示すような磁
気へッドチップ18を得る。更に、磁性媒体対接面19
に磁性媒体対接面の面積を小さくして、接触を良好にす
るための切欠溝20を前記積層膜5と平行に切り欠く。
対の磁気へッドコア半体8a,8bを突き合わせ、磁性
媒体対接面をのぞむ方向14とその反対のヘッド下端面
をのぞむ方向15より、前記積層体5どうしを突き合わ
せ所望のトラック幅が得られるようにし加熱し、ガラス
13を溶融接合し磁気コアブロック16を得る。更に所
望の切断位置l7でスライスして第6図に示すような磁
気へッドチップ18を得る。更に、磁性媒体対接面19
に磁性媒体対接面の面積を小さくして、接触を良好にす
るための切欠溝20を前記積層膜5と平行に切り欠く。
更に磁性媒体対接面19を曲面研摩し、更に所望のチッ
プ厚となるように両側面21を平面研摩し、第7図に示
すような磁気ヘッドが得られる。
プ厚となるように両側面21を平面研摩し、第7図に示
すような磁気ヘッドが得られる。
発肚空羞果
以上説明したように、この発明は非磁性体基板に形成し
た強磁性金属薄膜と絶縁薄膜の積層膜の面内方向にのみ
複数個の薄膜磁気コアが配置するような一対の磁気コア
ブロック半体を作り、補強用ガラス構の切削加工や磁性
媒体対接面の切欠満の切削加工を行うことにより、基板
の厚さや強磁性金属薄膜,ガラス膜厚のばらつきにとも
なう切削加工位置のずれを防止でき、歩留りを改善でき
る。
た強磁性金属薄膜と絶縁薄膜の積層膜の面内方向にのみ
複数個の薄膜磁気コアが配置するような一対の磁気コア
ブロック半体を作り、補強用ガラス構の切削加工や磁性
媒体対接面の切欠満の切削加工を行うことにより、基板
の厚さや強磁性金属薄膜,ガラス膜厚のばらつきにとも
なう切削加工位置のずれを防止でき、歩留りを改善でき
る。
また、一対の磁気コアブロック半体を突き合わせてトラ
ックを合わせる際に、磁性媒体対接面側と磁気コア下端
側との両側より、トラック幅の規定するためフロントギ
ャップ部およびリアギャップ部のトラックずれが小さく
なり、挟トラックヘッドのトラックずれによる出力変動
を小さくできる効果がある。
ックを合わせる際に、磁性媒体対接面側と磁気コア下端
側との両側より、トラック幅の規定するためフロントギ
ャップ部およびリアギャップ部のトラックずれが小さく
なり、挟トラックヘッドのトラックずれによる出力変動
を小さくできる効果がある。
第1〜7図はこの発明の磁気ヘッドの製造方法の一実施
例を示す斜視図である。 第8〜14図は従来の磁気の磁気ヘッドの製造方法を示
す斜視図である。 1. 2, 31・・・・・・非磁性体基板、3,32
・・・・・・強磁性体金属薄膜、4.33・・・・・・
絶縁薄膜、 5.34・・・・・・強磁性体金属薄膜と絶縁薄膜の積
層膜、 6,36・・・・・・ガラス膜、 10.40・・・・・・補強用ガラス溝、20, 47・・・・・・磁性媒体対接面幅を規制する切欠溝。 (0) 第 1 図 ・t,bl t (b) 5 第 2 図 第 3 図 筒 5 図 第 6 図 第 7 図 35CL 35コ CQ) 第 8 図 第 1つ 図 41 第 11 図 第 12 図 第 13 図 46 / / ? 14 図
例を示す斜視図である。 第8〜14図は従来の磁気の磁気ヘッドの製造方法を示
す斜視図である。 1. 2, 31・・・・・・非磁性体基板、3,32
・・・・・・強磁性体金属薄膜、4.33・・・・・・
絶縁薄膜、 5.34・・・・・・強磁性体金属薄膜と絶縁薄膜の積
層膜、 6,36・・・・・・ガラス膜、 10.40・・・・・・補強用ガラス溝、20, 47・・・・・・磁性媒体対接面幅を規制する切欠溝。 (0) 第 1 図 ・t,bl t (b) 5 第 2 図 第 3 図 筒 5 図 第 6 図 第 7 図 35CL 35コ CQ) 第 8 図 第 1つ 図 41 第 11 図 第 12 図 第 13 図 46 / / ? 14 図
Claims (1)
- 多数個分のコア面積を有する非磁性体基板を一対用意し
て、上記非磁性体基板の少なくとも一方の表面に、多数
個分の強磁性体金属薄膜コアを形成しておき、非磁性体
基板で強磁性体金属薄膜コアを挟着してコアブロック半
体を得て、上記コアブロック半体を一組準備して、コア
接合を行ってギャップ形成後、個々のコアに切断させる
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30816089A JPH03168907A (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30816089A JPH03168907A (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03168907A true JPH03168907A (ja) | 1991-07-22 |
Family
ID=17977620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30816089A Pending JPH03168907A (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03168907A (ja) |
-
1989
- 1989-11-28 JP JP30816089A patent/JPH03168907A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6233642B2 (ja) | ||
| JPH0546010B2 (ja) | ||
| JPS6374115A (ja) | 浮動形磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPS61129716A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0786967B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0475564B2 (ja) | ||
| JPH03168907A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2627322B2 (ja) | 浮動型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62157306A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS59203210A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| JPH02763B2 (ja) | ||
| JP3718916B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3274201B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0263245B2 (ja) | ||
| JPH0546011B2 (ja) | ||
| JPS61250810A (ja) | 磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JP2004103177A (ja) | 磁気ヘッドおよび磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS6332706A (ja) | 複合型磁気ヘツド | |
| JPH07192214A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS60173714A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS63288407A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0447885B2 (ja) | ||
| JPH025208A (ja) | 磁気ヘッド並びにその製造方法 | |
| JPH0378105A (ja) | マルチトラツク磁気ヘッド |