JPH03169326A - 排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ及び排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ及び排ガス処理装置Info
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- JPH03169326A JPH03169326A JP1306528A JP30652889A JPH03169326A JP H03169326 A JPH03169326 A JP H03169326A JP 1306528 A JP1306528 A JP 1306528A JP 30652889 A JP30652889 A JP 30652889A JP H03169326 A JPH03169326 A JP H03169326A
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Landscapes
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は排ガス中のダス}、SOX及びNOXを除去ず
るためのフィルタ及び同フィルタを用いた排ガス処理装
置に関する。
るためのフィルタ及び同フィルタを用いた排ガス処理装
置に関する。
従来、実用に供されているボイラの排ガス処理装置とし
ては、節炭器と空気予熱器の間にNll.による選択接
触還元による脱硝装置を、空気予熱2tの後に電気集塵
器などの集塵装置を設け、更にその後流に脱硫装置を設
けている。
ては、節炭器と空気予熱器の間にNll.による選択接
触還元による脱硝装置を、空気予熱2tの後に電気集塵
器などの集塵装置を設け、更にその後流に脱硫装置を設
けている。
また、同時に脱塵、脱硫、脱硝する技術も既に提案され
ている。(特願昭62〜211510号) 〔発明が解決しようとする課題〕 従来、実用に供されている脱硝装置、集塵装置、脱硫装
置はそれぞれ独立した別個の設備で、そのため設置スペ
ース、設備費とも別々に要するという問題があり、又、
特に脱硝装置はダストやSIXが未だ処理されていない
初期の段階で脱硝を行わねばならず、触媒の磨耗、被毒
等の問題がある。
ている。(特願昭62〜211510号) 〔発明が解決しようとする課題〕 従来、実用に供されている脱硝装置、集塵装置、脱硫装
置はそれぞれ独立した別個の設備で、そのため設置スペ
ース、設備費とも別々に要するという問題があり、又、
特に脱硝装置はダストやSIXが未だ処理されていない
初期の段階で脱硝を行わねばならず、触媒の磨耗、被毒
等の問題がある。
又、特願昭62−211510による技術は同時脱硫脱
硝塵は行うも、脱硝触媒を上流から注入し、バグフィル
タろ面にダスト層を形威させてガスが通過時脱塵と脱硝
を行うようにしているが、バッグの逆洗時に貴重な脱硝
触媒も払い落され他のダストと混在して灰処理されるの
で触媒の消費量は多大となるという問題点がある。又、
ボイラ節炭器と空気予熱器の間の排ガス温度は約400
℃前後あり、従来使われているガラス繊維又はテトロン
系の繊維による識布又は不識布では耐熱的に弱く、耐熱
性のセラミック繊維ろ布も逆に繊維同志の摩擦、折曲げ
に弱く破裂するという問題点もある。
硝塵は行うも、脱硝触媒を上流から注入し、バグフィル
タろ面にダスト層を形威させてガスが通過時脱塵と脱硝
を行うようにしているが、バッグの逆洗時に貴重な脱硝
触媒も払い落され他のダストと混在して灰処理されるの
で触媒の消費量は多大となるという問題点がある。又、
ボイラ節炭器と空気予熱器の間の排ガス温度は約400
℃前後あり、従来使われているガラス繊維又はテトロン
系の繊維による識布又は不識布では耐熱的に弱く、耐熱
性のセラミック繊維ろ布も逆に繊維同志の摩擦、折曲げ
に弱く破裂するという問題点もある。
本発明は上記技術水準に鑑み、上述したような不具合の
ない排ガス中のダスト、SOx s NOxを同時に除
去できるフィルタ及び同フィルタを用いた排ガス処理装
置を提供しようとするものである。
ない排ガス中のダスト、SOx s NOxを同時に除
去できるフィルタ及び同フィルタを用いた排ガス処理装
置を提供しようとするものである。
本発明は
(1)排ガスろ過面側を微細気孔セラミック層とし、該
セラミック層を支える出口側を脱硝触媒を担持した粗気
孔セラミック層としてなる排ガス処理用多孔質セラミッ
クフィルタ(2) ボイラ節炭器と空気予熱器の間の
ダクトに、」二記(1)記載の排ガス処理用多孔質セラ
ミックフィルタを設置し、かつ該セラミックフィルタと
前記節炭器の間のダクトに脱硫剤供給手段及び脱硝用還
元剤注入手段を設けてなる排ガス処理装置 である。
セラミック層を支える出口側を脱硝触媒を担持した粗気
孔セラミック層としてなる排ガス処理用多孔質セラミッ
クフィルタ(2) ボイラ節炭器と空気予熱器の間の
ダクトに、」二記(1)記載の排ガス処理用多孔質セラ
ミックフィルタを設置し、かつ該セラミックフィルタと
前記節炭器の間のダクトに脱硫剤供給手段及び脱硝用還
元剤注入手段を設けてなる排ガス処理装置 である。
本発明の排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ〈以下
、単にセラミックフィルタともいう)は、排ガスろ過面
側をダストの侵入を防止するために微細気孔(例えば数
μm径)のセラミックス層とし、これを支える出口面側
を脱硝触媒(例えばTl02、v205など)を担持し
た粗気孔(例えば100〜200μm径)のセラミック
層として全体のフィルタとしての圧損の上昇を極力抑え
るようにしたものである。このセラミックフィルタは脱
硫剤及び還元剤を添加された排ガス流に微細気孔セラミ
ック層が面するようにして使用されるもので、排ガス温
度が400℃程度の位置に設置することが好ましい。ま
た、このセラミックフィルタは板状以外に円筒状もしく
は袋状として使用することもできる。
、単にセラミックフィルタともいう)は、排ガスろ過面
側をダストの侵入を防止するために微細気孔(例えば数
μm径)のセラミックス層とし、これを支える出口面側
を脱硝触媒(例えばTl02、v205など)を担持し
た粗気孔(例えば100〜200μm径)のセラミック
層として全体のフィルタとしての圧損の上昇を極力抑え
るようにしたものである。このセラミックフィルタは脱
硫剤及び還元剤を添加された排ガス流に微細気孔セラミ
ック層が面するようにして使用されるもので、排ガス温
度が400℃程度の位置に設置することが好ましい。ま
た、このセラミックフィルタは板状以外に円筒状もしく
は袋状として使用することもできる。
本発明の排ガス処理装置は、上記のセラミックフィルタ
をボイラ節炭器と空気予熱器の間のダクト内に微細気孔
セラミック層がダクトを流れる排ガス流に面するように
設置し、かつこのセラミックフィルタと節炭器の間のダ
クトに(:a (DH) 2 、NaHCLなどの脱硫
剤及びNH.などの還元剤の注入手段を設けたものであ
る。この際、脱硫剤の注入点はNll3の注入点より可
能な限り上流側に設けて、脱硫剤とSOxの反応を促進
させると共に、SOxと還元剤であるNH3との反応を
抑えるようにすることが好ましい。
をボイラ節炭器と空気予熱器の間のダクト内に微細気孔
セラミック層がダクトを流れる排ガス流に面するように
設置し、かつこのセラミックフィルタと節炭器の間のダ
クトに(:a (DH) 2 、NaHCLなどの脱硫
剤及びNH.などの還元剤の注入手段を設けたものであ
る。この際、脱硫剤の注入点はNll3の注入点より可
能な限り上流側に設けて、脱硫剤とSOxの反応を促進
させると共に、SOxと還元剤であるNH3との反応を
抑えるようにすることが好ましい。
本発明の排ガス処理用セラミックフィルタは、セラミッ
ク製であるので脱硝反応に適する温度、約400℃、の
ような高温下でも使用でき、微細気孔セラミック層と粗
気孔セラミック層を複層させたものであるので、圧損の
上昇は殆んど問題とはならず、しかも排ガスが面するセ
ラミック層の気孔径は一般的に数μmと微細気孔である
ので、通常のフライアッシュ(平均粒径1o数μm)に
よる目詰りはない。
ク製であるので脱硝反応に適する温度、約400℃、の
ような高温下でも使用でき、微細気孔セラミック層と粗
気孔セラミック層を複層させたものであるので、圧損の
上昇は殆んど問題とはならず、しかも排ガスが面するセ
ラミック層の気孔径は一般的に数μmと微細気孔である
ので、通常のフライアッシュ(平均粒径1o数μm)に
よる目詰りはない。
また、このセラミックフィルタの設置個所の上流は排ガ
ス温度は高いので、その上流で注入されたNallCO
sもしくはCa (OH) 2などの脱硫剤は、排ガス
中のSOxと下記の反応 2NatlCOz +SO2 →NazSD+ + 2
CL + HJCa(OH)2+SO2 − CaS,
Oa + H20を起こし、排ガス中のSOxはダス
トと共にセラミックフィルタによって除外される。
ス温度は高いので、その上流で注入されたNallCO
sもしくはCa (OH) 2などの脱硫剤は、排ガス
中のSOxと下記の反応 2NatlCOz +SO2 →NazSD+ + 2
CL + HJCa(OH)2+SO2 − CaS,
Oa + H20を起こし、排ガス中のSOxはダス
トと共にセラミックフィルタによって除外される。
方、排ガス中のNOxは脱硫剤の注入点より後流の注入
点で注入されたNusと共に微細気孔のセラミック層を
通過し、裏面の脱硝触媒担持粗気孔セラミック層で下記
の反応 6NO + 4NH3→5N2 + 6L04NO +
4NH3 + L→ 4L+6H20により無害
化され脱硝される。
点で注入されたNusと共に微細気孔のセラミック層を
通過し、裏面の脱硝触媒担持粗気孔セラミック層で下記
の反応 6NO + 4NH3→5N2 + 6L04NO +
4NH3 + L→ 4L+6H20により無害
化され脱硝される。
微細気孔セラミック層上に積み重なるダスト及び脱硫生
或物は、セラミックフィルタを逆洗することによって払
い落されるが、この際裏面の粗気孔セラミック層に担持
されている脱硝触媒は払い落されることはない。
或物は、セラミックフィルタを逆洗することによって払
い落されるが、この際裏面の粗気孔セラミック層に担持
されている脱硝触媒は払い落されることはない。
また、本発明の排ガス処理装置は脱硫、脱硝のための脱
硫剤及び還元剤の注入手段を有し、かつ上記セラミック
フィルタをボイラの節炭器と空気予熱器の間のダクトに
設置したものであるが、この間のダクトが脱硝反応に最
も適する温度範囲にあるからである。
硫剤及び還元剤の注入手段を有し、かつ上記セラミック
フィルタをボイラの節炭器と空気予熱器の間のダクトに
設置したものであるが、この間のダクトが脱硝反応に最
も適する温度範囲にあるからである。
〔実施例]
以下、本発明の排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ
及び排ガス処理装置の一実施例を第1図〜第3図によっ
て説明する。
及び排ガス処理装置の一実施例を第1図〜第3図によっ
て説明する。
第1図はボイラ排ガスに本発明排ガス処理用多孔質セラ
ミックフィルタを適用した排ガス処理装置の概略図、第
2図は本発明排ガス処理用多孔質セラミックフィルタの
設置例の説明図、第3図は第2図の排ガス処理用多孔質
セラミックフィルタの一実施例の斜視図を示す。
ミックフィルタを適用した排ガス処理装置の概略図、第
2図は本発明排ガス処理用多孔質セラミックフィルタの
設置例の説明図、第3図は第2図の排ガス処理用多孔質
セラミックフィルタの一実施例の斜視図を示す。
第1図において、■はボイラ本体で節炭器l′の後の排
ガスはダク}10を介して本発明のセラミックフィルタ
2へ接続している。ダクト10の途中には脱硫剤注入ノ
ズル7とNl{.注入ノズル8が設けてある。セラミッ
クフィルタ2の出口ガスは空気予熱器3に接続されてい
る。
ガスはダク}10を介して本発明のセラミックフィルタ
2へ接続している。ダクト10の途中には脱硫剤注入ノ
ズル7とNl{.注入ノズル8が設けてある。セラミッ
クフィルタ2の出口ガスは空気予熱器3に接続されてい
る。
ボイラ排ガスは節炭器1′を出ると温度は約400℃前
後となり、脱硫剤注入ノズル7よりNallC03もし
くはCa(叶)2等の脱硫剤を注入すると排ガス中のS
OXは各々Na2SO.もしくはCaSO./CaSO
3となり、本来のダストと共にセラミックフィルタエレ
メント(第2図、第3図参照)でろ過される。一方、排
ガス中のNOXはダスト及び脱硫生成物が除去されて微
細気孔セラミック層17 (第3図参照)を通過し、脱
硝触媒が担持された粗気孔セラミック層18 (第3図
参照〉に至り、こ\を通過する間に脱硝され、セラミッ
クフィルタ2の出口ダクト11中の排ガス中にはN[]
x 、SOx及びダストが略々完全に除去された状態で
空気予熱器3へ至り、吸引ファン4によりスタック6を
介して大気に放出される。
後となり、脱硫剤注入ノズル7よりNallC03もし
くはCa(叶)2等の脱硫剤を注入すると排ガス中のS
OXは各々Na2SO.もしくはCaSO./CaSO
3となり、本来のダストと共にセラミックフィルタエレ
メント(第2図、第3図参照)でろ過される。一方、排
ガス中のNOXはダスト及び脱硫生成物が除去されて微
細気孔セラミック層17 (第3図参照)を通過し、脱
硝触媒が担持された粗気孔セラミック層18 (第3図
参照〉に至り、こ\を通過する間に脱硝され、セラミッ
クフィルタ2の出口ダクト11中の排ガス中にはN[]
x 、SOx及びダストが略々完全に除去された状態で
空気予熱器3へ至り、吸引ファン4によりスタック6を
介して大気に放出される。
なお、第1図中、5は空気の押込ファン、9は逆洗ライ
ンである。また、第2図中、第ITji!Jと同一符号
は、第l図と同じ部位を示し、l3は仕切板、14は排
ガス人口室、15は排ガス出口室、16は逆洗ノズルで
あり、第3図中、17は微細気孔セラミック層、18は
脱硝触媒担持粗気孔セラミック層を示す。
ンである。また、第2図中、第ITji!Jと同一符号
は、第l図と同じ部位を示し、l3は仕切板、14は排
ガス人口室、15は排ガス出口室、16は逆洗ノズルで
あり、第3図中、17は微細気孔セラミック層、18は
脱硝触媒担持粗気孔セラミック層を示す。
以上、本発明の排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ
の使用例をボイラ排ガスの処理に適用する場合に着目し
て説明したが、該セラミックフィルタはボイラ排ガスの
処理以外にも、般の燃焼炉排ガス、ディーゼルエンジン
排ガスなどにも適用できることはいうまでもない。
の使用例をボイラ排ガスの処理に適用する場合に着目し
て説明したが、該セラミックフィルタはボイラ排ガスの
処理以外にも、般の燃焼炉排ガス、ディーゼルエンジン
排ガスなどにも適用できることはいうまでもない。
本発明の排ガス処理用セラミックフィルタはセラミック
であるので高温下で使用することが可能であり、該セラ
ミックフィルタを脱触に適する高温排ガス流下位置に設
置し、かつその上流に脱硫剤を注入すると脱硫剤とSO
Xの反応生成物は該セラミックフィルタの前面でダスト
と共に除去することができ、これらを除去された排ガス
は脱硝触媒担持部分で還元剤により脱硝されるので、脱
塵、脱硫、脱硝を同時に行うことができる。
であるので高温下で使用することが可能であり、該セラ
ミックフィルタを脱触に適する高温排ガス流下位置に設
置し、かつその上流に脱硫剤を注入すると脱硫剤とSO
Xの反応生成物は該セラミックフィルタの前面でダスト
と共に除去することができ、これらを除去された排ガス
は脱硝触媒担持部分で還元剤により脱硝されるので、脱
塵、脱硫、脱硝を同時に行うことができる。
また、本発明の排ガス処理装置によれば上記セラミック
フィルタをボイラ節炭器と空気予熱器の間のダクトに設
置されており、脱硝反応に適する温度下で脱硝反応が行
われ、かつ更に高温域で脱硫反応も促進されるので脱塵
、脱硫、脱硝を一度に行わせることができ、その工業的
価値は著しく高いものである。
フィルタをボイラ節炭器と空気予熱器の間のダクトに設
置されており、脱硝反応に適する温度下で脱硝反応が行
われ、かつ更に高温域で脱硫反応も促進されるので脱塵
、脱硫、脱硝を一度に行わせることができ、その工業的
価値は著しく高いものである。
第1図はボイラ排ガスに本発明排ガス処理用多孔質セラ
ミックフィルタを適用した排ガス処理装置の概略図、第
2図は本発明の排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ
の設置例の説明図、第3図は本発明の排ガス処理用多孔
質セラミック フイ ルタの一実施例の斜視図である。
ミックフィルタを適用した排ガス処理装置の概略図、第
2図は本発明の排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ
の設置例の説明図、第3図は本発明の排ガス処理用多孔
質セラミック フイ ルタの一実施例の斜視図である。
Claims (2)
- (1)排ガスろ過面側を微細気孔セラミック層とし、該
セラミック層を支える出口面側を脱硝触媒を担持した粗
気孔セラミック層としてなることを特徴とする排ガス処
理用多孔質セラミックフィルタ。 - (2)ボイラ節炭器と空気予熱器の間のダクトに、請求
項(1)記載の排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ
を設置し、かつ該セラミックフィルタと前記節炭器の間
のダクトに脱硫剤供給手段及び脱硝用還元剤注入手段を
設けてなることを特徴とする排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1306528A JPH03169326A (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ及び排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1306528A JPH03169326A (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ及び排ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03169326A true JPH03169326A (ja) | 1991-07-23 |
Family
ID=17958110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1306528A Pending JPH03169326A (ja) | 1989-11-28 | 1989-11-28 | 排ガス処理用多孔質セラミックフィルタ及び排ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03169326A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05154352A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-06-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理方法 |
| JP2004503375A (ja) * | 2000-07-13 | 2004-02-05 | ポール・コーポレーション | セラミックフィルタエレメント及びその製造方法 |
| JP2004082103A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Asahi Glass Co Ltd | So2を含有するガスの処理方法 |
| JP4807935B2 (ja) * | 2001-12-29 | 2011-11-02 | ポール・コーポレーション | フィルタ要素 |
| KR101691505B1 (ko) * | 2016-02-25 | 2017-01-02 | (주)제스엔지니어링 | 다층 세라믹부를 갖는 필터시스템 |
-
1989
- 1989-11-28 JP JP1306528A patent/JPH03169326A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05154352A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-06-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス処理方法 |
| JP2004503375A (ja) * | 2000-07-13 | 2004-02-05 | ポール・コーポレーション | セラミックフィルタエレメント及びその製造方法 |
| US8388898B2 (en) | 2000-07-13 | 2013-03-05 | Pall Corporation | Ceramic filter element |
| JP4807935B2 (ja) * | 2001-12-29 | 2011-11-02 | ポール・コーポレーション | フィルタ要素 |
| JP2004082103A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Asahi Glass Co Ltd | So2を含有するガスの処理方法 |
| KR101691505B1 (ko) * | 2016-02-25 | 2017-01-02 | (주)제스엔지니어링 | 다층 세라믹부를 갖는 필터시스템 |
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