JPH0824846B2

JPH0824846B2 - ガス浄化触媒及びガス浄化方法

Info

Publication number: JPH0824846B2
Application number: JP3359621A
Authority: JP
Inventors: 幸雄久保; 勝也石川
Original assignee: Kawasaki Heavy Industries Ltd
Current assignee: Kawasaki Heavy Industries Ltd
Priority date: 1991-12-30
Filing date: 1991-12-30
Publication date: 1996-03-13
Anticipated expiration: 2011-03-13
Also published as: JPH0615173A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ディーゼルエンジン排
ガス・ボイラ排ガスなどに含まれるばいじん（ダスト）
と窒素酸化物（ＮＯｘ）を、また、場合によっては、硫
黄酸化物（ＳＯｘ）をも同時に除去するガス浄化触媒及
びガス浄化方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ディーゼルエンジン排ガス中のダ
スト除去方法としては、発泡セラミックなどの多孔質フ
ィルターによるろ過集じんが主流である。この方法で
は、フィルター内に捕集されたダストによって、フィル
ターの目詰まりが進行し、通気抵抗が一定値以上に高く
なると、排ガスを切り換え捕集されたダストを焼却・除
去することによって、フィルターを再生する。なお、こ
の方法では、窒素酸化物、硫黄酸化物は別途処理しなけ
ればならない。

【０００３】また、特開平１−１５９０３４号公報に
は、ディーゼルエンジン排ガスの煙道中にアンモニアガ
スを注入し、その後、消石灰とバナジウム酸化物を担時
したγ−アルミナ又はアナターゼ型チタニアの粉末を噴
射し、つぎに、排ガス後流にセラミックスフィルターを
設けて、排ガス中の粉末及び燃焼ばいじんを捕集すると
ともに、この捕集灰の層を排ガスが通過するようにして
脱硝する方法が記載されている。また、特開昭６１−１
１１１２８号公報、１１１１２９号公報には、灰分、塩
化水素、窒素酸化物、硫黄酸化物を含む燃焼炉排ガス処
理装置として、多孔質セラミック材の排ガス流入面側に
目詰まり防止用の特殊反応助剤プリコート層を介して、
消石灰又は炭酸カルシウム及び塩化カルシウムを含む固
形物層を形成し、排ガス流出面側に窒素酸化物除去用触
媒層を設けた装置が記載されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来、
ディーゼルエンジン排ガスを浄化する場合、ダストのみ
を除去し、窒素酸化物、硫黄酸化物は、別途処理しなけ
ればならなかった。また、特開平１−１５９０３４号公
報、特開昭６１−１１１１２８号公報、１１１１２９号
公報記載の方法を利用して、ダストと同時に窒素酸化物
を除去することも考えられるが、前段における消石灰を
含む触媒粉末で、後段のセラミックフィルターが目詰ま
りし易く、長時間効率よく、排ガス処理を行なうことが
困難であった。本発明は、上記の諸点に鑑みなされたも
ので、集じんと脱硝、又は集じんと脱硝と脱硫とを同時
に効率よく同時に行なうことができるガス浄化触媒及び
ガス浄化方法を提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段及び作用】上記の目的を達
成するために、本発明のガス浄化触媒は、シリカ、アル
ミナのうち少なくとも１種からなり、１〜５０μ径の発
泡状細孔を有する粒状多孔体、板状多孔体又は中空円筒
状多孔体の細孔表面に、酸化ニッケル及び酸化チタンか
らなる活性成分を０．２〜３０μの厚みに均一に担持さ
せたことを特徴としている。細孔径が１μ末満の場合
は、ガス拡散抵抗が大きくなり過ぎ、通気抵抗が過大と
なるか、あるいはガス拡散律速により反応速度が低下す
るという不具合がある。一方、細孔径が５０μを越える
と、焼成条件等を工夫しても、触媒強度の維持が困難と
なる。また、担持厚みを０．２μ未満にしようとする場
合、細孔表面全体への均一な担持が困難となり、担持ム
ラが生じて触媒性能が低下する。一方、担持厚みが細孔
径の５０〜６０％以上になると、部分的な細孔の閉塞が
多くなり、ガス拡散抵抗が過大となったり、有効反応表
面積が減少するなどの不都合がある。したがって本発明
における最大細孔径５０μの場合でも、担持厚みは３０
μに抑える必要がある。本触媒の調製方法は、後述する
実施例１にも記載している通り、１〜５０μの発泡状細
孔を有する多孔質のＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３担体に触媒成
分としての硝酸ニッケル、硝酸チタン混合溶液に浸漬
し、細孔表面（担体）に触媒活性成分を担持する含浸担
持方法である。この方法では、触媒の担持層としては、
細孔表面（担体）のみに触媒担持層が形成されるのでは
なく、担体中にも活性成分が含浸担持されるものであ
る。すなわち、ここで言う担持層とは、担体成分のＳｉ
Ｏ_２／Ａｌ_２Ｏ_３及び触媒活性成分が共存する層（含浸
層）も含まれており、単に担体表面にコーティングされ
た層のみを指すものではない。したがって、細孔径が５
０μの場合に、細孔径の１／２以上の担持厚み３０μに
なっても細孔が閉塞することにはならない。また、上記
のガス浄化触媒において、捕集ダストの燃焼促進用に、
活性成分に白金を加えたり、又は活性成分に脱硫成分と
しての酸化銅を加えたりするのが望ましい。

【０００６】本発明の触媒は、以下の製法により、製造
が可能となった。（１）シリカ、アルミナのうち１種以上の粉末と、粒
径１〜５０μのカーボン粉末を混合し、水又はバインダ
ーを加えて粒状、板状、又は中空円筒状に成型し、つぎ
にこの成型物を乾燥させ、空気中で９００℃で焼成して
カーボン成分を焼失させ発泡状細孔を形成せしめ、細孔
表面に上記活性成分をディップコーティング又はＣＶＤ
（ｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ）等の方法で均一に担持させる。（２）シリカ、アルミナのうち１種以上の粉末と、粒
径１〜５０μのカーボン粉末を混合し、水又はバインダ
ーを加えて粒状、板状、又は中空円筒状に成型し、つぎ
にこの成型物を乾燥させて空気中で９００℃で焼成して
カーボン成分を焼失させ発泡状細孔を形成せしめ、その
細孔表面にまずチタニアの薄層をディップコーティング
又はＣＶＤ等の方法でコーティングし、つぎに上記活性
成分を均一に担持させる。

【０００７】本発明のガス浄化方法は、上記のガス浄化
触媒を用い、排ガスを粒状多孔体間を通過させるか、又
は板状多孔体もしくは中空円筒状多孔体を一方の面から
他方の面に通過させて、排ガス中の窒素酸化物及びダス
ト、又は窒素酸化物、ダスト及び硫黄酸化物を除去する
ことを特徴としている。なお、排ガス中に、アンモニ
ア、炭化水素などの還元剤を添加する。そして、ガス浄
化操作を継続すると、多孔体のガス入口側にダストが堆
積して通気抵抗が増大するし、また酸化銅が硫酸銅に転
化して脱硫活性を失うため、使用済の粒状多孔体、板状
多孔体又は中空円筒状多孔体に再生ガスを流し、ダスト
の燃焼及び二酸化硫黄の脱離を行なう。再生ガスとして
は、空気、希釈空気、酸素、酸素富化空気などが用いら
れる。また、請求項６のガス浄化方法は、粒状ガス浄化
触媒を用いて充填層又は移動層を形成し、その層に排ガ
スを通過させて浄化させる際に、層を２分割し、ガス入
口側の層には反応性を持たない粒子を充填して排ガス中
のダスト除去のみを行なわせ、後流側の層に請求項１、
２又は３に記載のガス浄化触媒を充填し、排ガスの脱
硝、又は脱硝及び脱硫を行なわせることを特徴としてい
る。さらに、請求項７のガス浄化方法は、粒状ガス浄化
触媒で充填層又は移動層を形成し、その層に排ガスを通
過させて浄化させる際に、層を３分割し、ガス入口側の
層には反応性を持たない粒子を充填して排ガス中のダス
ト除去のみを行なわせ、２番目の層に請求項３に記載の
ガス浄化触媒又は硫酸銅のみを担持させたガス浄化触媒
を充填して主に排ガスの脱硫を行なわせ、ガス出口側の
層に請求項１又は２に記載のガス浄化触媒を充填して排
ガスの脱硝を行なわせることを特徴としている。

【０００８】再生ガスを処理対象ガスと同じ方向で流す
と、まず入口側に堆積したダストに着火し、おき燃焼の
状態でダストが燃焼する。ダストに着火させるためには
再生ガス温度を上昇させる必要があるが、触媒に白金成
分を添加することあるいは再生ガスとして酸素富化空気
を用いることは、燃焼促進、着火温度低下のために有効
である。ただし、条件によっては過熱による触媒劣化を
防止するため希釈空気を再生ガスとして用いることもあ
り得る。硫酸銅を酸化銅に戻し、脱硫活性を再生するた
めには、本来硫酸銅の熱分解まで触媒を加熱する必要が
あるが、本発明の方法では、再生ガスはダスト燃焼熱に
よってさらに加熱されて触媒層又は触媒内部を通過する
ため、この際に外部からの熱供給なしに再生することが
可能である。請求項６に記載の、層を２分割し、ガス入
口側の層ではダスト除去のみを行なわせ、後流側の層に
ガス浄化触媒を充填して脱硝と脱硫を行なわせる方法で
も、再生時にダスト除去層で発生した燃焼熱が再生ガス
によって触媒層に運ばれ、触媒再生に用いられるが、ダ
スト燃焼による局所発熱が触媒層では生じないため、触
媒の劣化抑制にさらに効果的である。請求項７に記載
の、層を３分割し、ガス入口側の層ではダスト除去のみ
を行なわせ、２番目の層で脱硫、３番目の層で脱硝を行
なわせる方法では、通常運転時にＳＯ_２に起因する脱硝
触媒活性の低下が生じにくい上、再生時にダスト除去層
で発生した燃焼熱が再生ガスによってまず脱硫層に運ば
れて触媒再生に用いられ、最後に脱硝触媒層を通過する
ため、ダスト燃焼発熱による脱硝触媒の劣化はさらに抑
制される。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例を挙げて説明する。実施例１シリカ５５ｗｔ％、アルミナ４５ｗｔ％の粉末担体原料
１０に対し、平均粒径１５μのカーボン粉末を２の割合
で混合し、水を噴霧しながら転動造粒機で粒状に造粒し
た。つぎにこの成型物を乾燥させ、空気中で９００℃で
焼成してカーボン成分を焼失させて平均細孔径が２０μ
径の発泡状細孔を有する担体を形成せしめた後、硝酸ニ
ッケル、硝酸チタン混合溶液への浸漬と、空気雰囲気下
４００℃での焼成を４回繰り返し、細孔表面に活性成分
を均一に担持させた。最終的に、平均細孔径が１６μ
で、細孔表面に酸化チタン、酸化ニッケル混合層が平均
６μの厚みでほぼ均一に担持された触媒が得られた。な
お、担体表面のコーティング層の平均厚みは２μ、担体
表面に含浸した含浸層の平均厚みは４μであった。

【００１０】実施例２実施例１と同じ粉末担体原料とカーボン粉末の混合物に
水を加えてスラリー化し、抽出し成型機で板状に成型し
た。つぎにこの成型物を乾燥させ、空気中で９００℃で
焼成してカーボン成分を焼失させて平均細孔径が１６μ
径の発泡状細孔を有する担体を形成せしめた後、実施例
１と同じ原料、方法で細孔表面に活性成分を均一に担持
させた。最終的に、平均細孔径が１２μで、細孔表面に
酸化チタン、酸化ニッケル混合層が平均５μの厚みでほ
ぼ均一に担持された触媒が得られた。なお、担体表面の
コーティング層の平均厚みは２μ、担体表面に含浸した
含浸層の平均厚みは３μであった。

【００１１】実施例３実施例１と同じ粉末担体原料とカーボン粉末の混合物に
水を加えてスラリー化し、ラバープレスで中空円筒状に
成型した。つぎにこの成型物を乾燥させ、空気中で９０
０℃で焼成してカーボン成分を焼失させて平均細孔径が
１２μ径の発泡状細孔を有する担体を形成せしめた。こ
の成型物に真空中で金属Ｔｉを蒸着させ、再度空気中で
９００℃で焼成して酸化チタン層を形成させた後、硝酸
ニッケル水溶液への浸漬と、空気雰囲気下４００℃での
焼成を２回繰り返し、細孔表面に酸化ニッケル層を均一
に担持させた。最終的に、平均細孔径が８μで、細孔
表面に酸化チタン及び酸化ニッケル層が両層合わせて平
均４μの厚みでほぼ均一に担持された触媒が得られた。
なお、担体表面のコーティング層の平均厚みは２μ、担
体表面に含浸した含浸層の平均厚みは２μであった。上
記の製造例では、触媒細孔径は混合するカーボン粉末粒
径で、活性成分担持量及び担持層の厚みは含浸溶液濃
度、含浸回数、蒸着時間によって自由に調節することが
できた。

【００１２】実施例４実施例２の方法で製造した板状触媒を、ヘキサクロロ白
金酸溶液に含浸し、乾燥させた後Ｈ_２５％雰囲気で３０
０℃で還元し、表面に白金成分を担持させた。

【００１３】実施例５実施例１の方法で製造した粒状触媒を硝酸銅溶液に含浸
し、乾燥させた後空気雰囲気で４００℃で焼成し、表面
に酸化銅成分を担持させた。

【００１４】上記のようにして製造したガス浄化触媒を
用いて、以下のような、ガス浄化性能試験を行なった。（１）脱硝実施例１で製造した粒状触媒を用いた。触媒充填層に、
ＮＯｘ３００ｐｐｍ、Ｏ_２３％、Ｈ_２Ｏ８％、残りＮ_２
からなるガスをＳＶ５０００ｈ^−１で流した。触媒充填
層及びガス温度は３５０℃に保った。触媒充填層上流
に、ガス中ＮＯｘに対し２倍のモル比でＮＨ_３を供給し
たところ、ほぼ安定して９２％のＮＯｘ除去率が維持さ
れ、触媒の脱硝効果が確認された。（２）脱硝・脱じん・再生（燃焼）実施例２及び４で製造した板状触媒を用いた。板状充填
に、ＮＯｘ３００ｐｐｍ、ダスト２００ｍｇ／Ｎｍ^３を
含むディーゼル排ガスを流速４ｃｍ／ｓで流した。触媒
及びガス温度は３２０℃に保った。触媒充填層上流に、
ガス中ＮＯｘに対し２倍のモル比でＮＨ_３を供給したと
ころ、６時間にわたって８６％のＮＯｘ除去率が維持さ
れ、触媒の脱硝効果が確認された。６時間通ガス後、触
媒への供給ガスを空気に切り替え、供給空気温度を次第
に上昇させた。実施例２の触媒では、空気温度が４９０
℃に達した時点で捕集ダストの燃焼が開始した。それに
対し、実施例４の触媒では４２０℃でダスト燃焼が開始
し、Ｐｔ成分による燃焼促進効果が確認された。（３）脱硫・脱じん・再生（燃焼同時）実施例５で製造した粒状触媒を用いた。触媒充填層に、
ＳＯｘ６００ｐｐｍ、ダスト２００ｍｇ／Ｎｍ^３を含む
ディーゼル排ガスをＳＶ５０００ｈ^−１で流した。触媒
充填層及びガス温度は３５０℃に保った。触媒充填層入
口／出口のガス組成を比較すると、６時間にわたって７
２％のＳＯｘ除去率が維持された後破過し、触媒の脱硫
効果が確認された。６時間通ガス後、触媒への供給ガス
を空気に切り替え、供給空気温度を５２０℃まで昇温し
て、１時間かけてダストを燃焼させた。ダスト燃焼後の
触媒層に再度当初と同じディーゼル排ガスを流したとこ
ろ、脱硫効果はほぼ旧に復しており、排ガス供給、ダス
ト燃焼を５回繰り返した後も同様であった。このことか
らダスト燃焼と同時に脱硫成分の再生が同時に起こって
いることが確認された。

【００１５】つぎに、本発明の粒状ガス浄化触媒、板状
ガス浄化触媒、中空円筒状ガス浄化触媒を使用する装置
例について説明する。（１）粒状ガス浄化触媒図１及び図２に示すように、この排ガス処理装置は、金
網、多孔板、パンチングメタル等の多孔支持体２０で形
成され、内部に粒状ガス浄化触媒２１からなる粒子充填
層２２を有する円盤状容器２４と、この円盤状容器２４
を収納する本体２６と、この本体２６に、円盤状容器２
４が回転できるように支承された回転軸２８と、本体２
６内を二室３０、３２に仕切るための、回転軸方向の仕
切板３４と、一方の室３０に接続された排ガス入口３６
及び浄化ガス出口３８と、他方の室３２に接続された再
生ガス入口４０及び再生オフガス出口４２とを備えてい
る。４４、４６はガスシール部である。なお、排ガスの
流れ方向と再生ガスの流れ方向とを同方向とすることも
可能である。この装置において、回転式の円盤状容器２
４に充填した粒子充填層２２の一部に排ガスを通過させ
て、ガス中のダストを捕集・除去するとともに、ガス中
のＮＯｘ、又はＮＯｘ及びＳＯｘを除去し、粒子充填層
２２の残部に再生ガスを流しながら粒子充填層２２を連
続的又は間欠的に回転させ、集じん・脱硝、又は集じん
・脱硝・脱硫と、粒子充填層内に捕集されたダストの焼
却・除去及び粒子（触媒）の再生とを同時に、かつ、連
続的に行なう。なお、粒状ガス浄化触媒２１は、発泡状
細孔を有しているので、この細孔内を若干のガスが通過
するが、通気抵抗が大きいので、大部分のガスは触媒２
１、２１間の間隙を通過する。

【００１６】図３及び図４は、粒状ガス浄化触媒２１の
他の使用例を示している。この排ガス処理装置は、多孔
支持体２０で形成され、内部に粒子充填層２２を有する
中空円筒状容器５０と、この中空円筒状容器５０を、粒
子充填層２２外面と本体２６内面との間に間隙５２が生
じるように収納する本体２６と、この本体２６に、中空
円筒状容器５０が回転できるように支承された回転軸２
８と、本体２６内を二室５４、５６に仕切るための仕切
板５８と、一方の室５４の粒子充填層外側の間隙５２に
接続された排ガス入口３６と、一方の室５４の粒子充填
層内側の中空部６０に接続された浄化ガス出口３８と、
他方の室５６の粒子充填層内側の中空部６０に接続され
た再生ガス入口４０と、他方の室５６の粒子充填層外側
の間隙５２に設けられた再生オフガス出口４２とを備え
ている。６２、６４はガスシール部、６６、６８、７
０、７２、７４、７６は仕切板である。なお、排ガスの
流れ方向と再生ガスの流れ方向とを対向する方向とする
ことも可能である。この装置において、回転式の中空円
筒状容器５０に充填した粒子充填層２２の一部に排ガス
を通過させて、ガス中のダストを捕集・除去するととも
に、ガス中ＮＯｘ、又はＮＯｘ及びＳＯｘを除去し、粒
子充填層２２の残部に再生ガスを流しながら粒子充填層
２２を連続的又は間欠的に回転させ、集じん・脱硝、又
は集じん・脱硝・脱硫と、粒子充填層内に捕集されたダ
ストの焼却・除去及び粒子（触媒）の再生とを同時に、
かつ、連続的に行なう。

【００１７】（２）板状ガス浄化触媒図５及び図６に示すように、金属製支持体８０で、数枚
〜数十枚の板状ガス浄化触媒８２を一体に支持し、通気
性円筒８４を形成する。この通気性円筒８４を図３及び
図４に示す粒子充填層２２と同様に設置する。ガスは、
通気性円筒８４の外方向から内方向へ、又は内方向から
外方向へ板状ガス浄化触媒８２の発泡状細孔を通過して
流れる。なお、金属製支持体として、棒状部材の代わり
に、金網、多孔板、パンチングメタルなどの多孔支持体
を用いてもよい。

【００１８】また、図７及び図８に示すように、板状ガ
ス浄化触媒８２を２枚対設し、下端及び両側に盲板８
６、８８を設けて、排ガスを板状ガス浄化触媒８２を通
して浄化するように構成することもできる。９０は本
体、９２は排ガス入口、９４は浄化ガス出口、９６は再
生ガス入口、９８、１００は仕切板である。なお、再生
時は、浄化ガス出口９４が再生オフガス出口となる。

【００１９】（３）中空円筒状ガス浄化触媒図９及び図１０に示すように、中空円筒状ガス浄化触媒
１０２を、図７及び図８に示す板状ガス浄化触媒８２と
同様に設置する。他の構成は図７及び図８に示す場合と
同様である。

【００２０】

【発明の効果】本発明は、上記のように構成されている
ので、つぎのような効果を奏する。（１）集じんと脱硝、又は集じんと脱硝と脱硫とを同
時に効率よく行なうことができる。（２）捕集ダストを焼却する場合、燃焼速度が速いの
で、低めの温度で行なうことができ、捕集ダストの焼却
処理が円滑に行なわれる。（３）捕集ダストを焼却する場合、捕集ダストの焼却
熱により、使用済み脱硫成分の再生（熱分解→ＳＯ_２脱
離）が同時に起こる。（４）触媒を連続的又は間欠的に移動（回転）させる
か、あるいは排ガスと再生ガスの導入位置を連続的又は
間欠的に移動させることにより、ガス浄化処理（脱じん
・脱硝・脱硫）と再生（ダスト焼却・ＳＯ_２脱離）を同
時に行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の粒状ガス浄化触媒を用いた排ガス処理
装置の一例を示す縦断面説明図（図２における１−１線
断面図）である。

【図２】図１における２−２線断面図である。

【図３】本発明の粒状ガス浄化触媒を用いた排ガス処理
装置の他の例を示す縦断面説明図（図４における３−３
線断面図）である。

【図４】図３における４−４線断面図である。

【図５】本発明の板状ガス浄化触媒の使用例を示す斜視
図である。

【図６】図５に示す板状ガス浄化触媒まわりの拡大断面
図である。

【図７】本発明の板状ガス浄化触媒の他の使用例を示す
断面図である。

【図８】図７における８−８線断面図である。

【図９】本発明の中空円筒状ガス浄化触媒の使用例を示
す断面図である。

【図１０】図９における１０−１０線断面図である。

【符号の説明】

２０多孔支持体２１粒状ガス浄化触媒２２粒子充填層２４円盤状容器２６本体２８回転軸３６排ガス入口３８排ガス出口４０再生ガス入口４２再生オフガス出口５０中空円筒状容器８０金属製支持体８２板状ガス浄化触媒８４通気性円筒９２排ガス入口９４浄化ガス出口９６再生ガス入口１０２中空円筒状ガス浄化触媒

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ０１Ｊ 23/89 Ａ 35/04 ３３１ＢＢ０１Ｄ 53/36 １０２Ｂ１０２Ｄ１０４Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シリカ、アルミナのうち少なくとも１種
からなり、１〜５０μ径の発泡状細孔を有する粒状多孔
体、板状多孔体又は中空円筒状多孔体の細孔表面に、酸
化ニッケル及び酸化チタンからなる活性成分を０．２〜
３０μの厚みに均一に担持させたことを特徴とするガス
浄化触媒。
【請求項２】捕集ダストの燃焼促進用に、活性成分に
白金を加えたことを特徴とする請求項１記載のガス浄化
触媒。
【請求項３】活性成分に脱硫成分としての酸化銅を加
えたことを特徴とする請求項１又は２記載のガス浄化触
媒。
【請求項４】請求項１、２又は３記載のガス浄化触媒
を用い、排ガスを粒状多孔体間を通過させるか、又は板
状多孔体もしくは中空円筒状多孔体を一方の面から他方
の面に通過させて、排ガス中の窒素酸化物及びダスト、
又は窒素酸化物、ダスト及び硫黄酸化物を除去すること
を特徴とするガス浄化方法。
【請求項５】使用済の粒状多孔体、板状多孔体又は中
空円筒状多孔体に再生ガスを流し、ダストの燃焼及び二
酸化硫黄の脱離を行なうことを特徴とする請求項４記載
のガス浄化方法。
【請求項６】粒状ガス浄化触媒を用いて充填層又は移
動層を形成し、その層に排ガスを通過させて浄化させる
際に、層を２分割し、ガス入口側の層には反応性を持た
ない粒子を充填して排ガス中のダスト除去のみを行なわ
せ、後流側の層に請求項１、２又は３に記載のガス浄化
触媒を充填し、排ガスの脱硝、又は脱硝及び脱硫を行な
わせることを特徴とするガス浄化方法。
【請求項７】粒状ガス浄化触媒で充填層又は移動層を
形成し、その層に排ガスを通過させて浄化させる際に、
層を３分割し、ガス入口側の層には反応性を持たない粒
子を充填して排ガス中のダスト除去のみを行なわせ、２
番目の層に請求項３に記載のガス浄化触媒又は硫酸銅の
みを担持させたガス浄化触媒を充填して主に排ガスの脱
硫を行なわせ、ガス出口側の層に請求項１又は２に記載
のガス浄化触媒を充填して排ガスの脱硝を行なわせるこ
とを特徴とするガス浄化方法。