JPH03170041A - リン酸塩被膜面のリン酸塩層の厚さ及び組成の非接触オンライン決定方法 - Google Patents
リン酸塩被膜面のリン酸塩層の厚さ及び組成の非接触オンライン決定方法Info
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- JPH03170041A JPH03170041A JP2215697A JP21569790A JPH03170041A JP H03170041 A JPH03170041 A JP H03170041A JP 2215697 A JP2215697 A JP 2215697A JP 21569790 A JP21569790 A JP 21569790A JP H03170041 A JPH03170041 A JP H03170041A
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- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、リン酸塩被膜面の非破壊的分析の分野に関し
、%に自動車表面のリン酸塩層の厚さ及び紹成につ(・
ての非破壊的決定に関するものである。
、%に自動車表面のリン酸塩層の厚さ及び紹成につ(・
ての非破壊的決定に関するものである。
(従来技術の説明)
近年、リン酸処理スチール上へのペイントプライマーの
カンード電気コーティングが1す壕す重要に八ってきて
いる。これは%に自動車業界顕著で、ここではその処理
はアクリル主成分のべイントによるアンダーコーティン
グやト,プコーティングに於いて先駆的kものとして用
いられても・る。
カンード電気コーティングが1す壕す重要に八ってきて
いる。これは%に自動車業界顕著で、ここではその処理
はアクリル主成分のべイントによるアンダーコーティン
グやト,プコーティングに於いて先駆的kものとして用
いられても・る。
多くの場合、かく生成さハた全腐食抵抗性能はすこぶる
良い(適正なリン酸塩系と適正な適用処理を夕択する際
特別な注意が必要とさ1るが)。自動車Rイントに用い
られるリン酸塩コーティングに関する特別k例が下記の
文献にあげられている:”雷気ペイント・スチールの腐
食抵抗に関する亜鉛リン酸結晶形態学の影響”リチャー
ドソン他著、メタルフィニ,シング協会会報、61巻、
155ページ( 1 983 )。
良い(適正なリン酸塩系と適正な適用処理を夕択する際
特別な注意が必要とさ1るが)。自動車Rイントに用い
られるリン酸塩コーティングに関する特別k例が下記の
文献にあげられている:”雷気ペイント・スチールの腐
食抵抗に関する亜鉛リン酸結晶形態学の影響”リチャー
ドソン他著、メタルフィニ,シング協会会報、61巻、
155ページ( 1 983 )。
リン酸処理スチール表面の品知管理を行う従来の方法は
、生産ラインの自動車からリン酸被膜面の細かなチ,プ
な除去する工程と、場合によっては紹立ラインから遠く
離れた研究所にチ,プを運搬する工程と、基板からリン
酸塩層を分離する工程とから成っていた。リン酸塩層の
深さと糺成の検査はマイクロスコープで行わハ、筺たそ
の結果報告は生産ラインに戻されていた。
、生産ラインの自動車からリン酸被膜面の細かなチ,プ
な除去する工程と、場合によっては紹立ラインから遠く
離れた研究所にチ,プを運搬する工程と、基板からリン
酸塩層を分離する工程とから成っていた。リン酸塩層の
深さと糺成の検査はマイクロスコープで行わハ、筺たそ
の結果報告は生産ラインに戻されていた。
明らかにかかる従来技術の方法では、たとえ研究所が現
場に位置し、製造ラインの品質管理員によって即時に処
理されても、サンプルが被膜面から取出さbる時間とそ
の結果が報告さ幻る時間の間には実質的に遅れが存在す
る。そのコストと遅延は自動車の各被膜面の品質検査が
実施できな〈するばかりではR<,サンプル技術による
実際上の品弁管理なせいせち・事後決定とするような傾
向にしてし1う。製造環境によっては、(一つが表示さ
れれば)項目が紹立製品に入れられ次第、訂正応答は為
さかず、続いて仕上げられた要素に対する訂正のみが行
われるだけである。この間、処理変数は変化してし−i
L・、続いて仕上げられた構成部は同じ欠点を持ちつづ
けるかもしれ々L・し、そうではないかもしれず、筐た
は先にサンプルされた製品と同じ程度に欠点を有するか
もしれないし、あるいはそうではないかもしれない。
場に位置し、製造ラインの品質管理員によって即時に処
理されても、サンプルが被膜面から取出さbる時間とそ
の結果が報告さ幻る時間の間には実質的に遅れが存在す
る。そのコストと遅延は自動車の各被膜面の品質検査が
実施できな〈するばかりではR<,サンプル技術による
実際上の品弁管理なせいせち・事後決定とするような傾
向にしてし1う。製造環境によっては、(一つが表示さ
れれば)項目が紹立製品に入れられ次第、訂正応答は為
さかず、続いて仕上げられた要素に対する訂正のみが行
われるだけである。この間、処理変数は変化してし−i
L・、続いて仕上げられた構成部は同じ欠点を持ちつづ
けるかもしれ々L・し、そうではないかもしれず、筐た
は先にサンプルされた製品と同じ程度に欠点を有するか
もしれないし、あるいはそうではないかもしれない。
従って、必要とされるものは、スチール表面上のリン酸
塩層の厚さ及び紹成を決定するオンライン・リアルタイ
ムの非破壊的手段である。
塩層の厚さ及び紹成を決定するオンライン・リアルタイ
ムの非破壊的手段である。
(発明が解決しようとする課題)
リン酸塩材料は二つの成分なブレンドしたものである。
二つの成分は1枚のリン酸層な形成する。
本発明の目的は、層の厚さを測定し、且つ層の紹成な決
定する、すなわち層の1つのリン酸塩成分の他方の成分
に対する比率を法定する1オ71力2イン・非接触的々
方法を提供することにある。
定する、すなわち層の1つのリン酸塩成分の他方の成分
に対する比率を法定する1オ71力2イン・非接触的々
方法を提供することにある。
(課題を解決する手段)
本発明による方法は、基板上に配設された哲護リン酸塩
膜内に含1れる成分の率と層の厚さを決定する方法であ
って、基板上の保護リン酸塩膜を第11の所定周波数の
光で照射する工程を含む。保護リン酸塩膜からの反射光
の強度は第1の周波数で測定さハる。基板上の保護リン
酸塩膜は第2の所定周波数の光で照射される。保護リン
酸塩膜からの反射光の強度は、第2周波数で測定される
。
膜内に含1れる成分の率と層の厚さを決定する方法であ
って、基板上の保護リン酸塩膜を第11の所定周波数の
光で照射する工程を含む。保護リン酸塩膜からの反射光
の強度は第1の周波数で測定さハる。基板上の保護リン
酸塩膜は第2の所定周波数の光で照射される。保護リン
酸塩膜からの反射光の強度は、第2周波数で測定される
。
保護リン酸塩膜の第1及び第2の成分の相対比率及び膜
厚は、第1及び第2周波数での保護リン酸塩膜からの反
射光の測定強度ぶら決定される。第1及び第2周波数の
光は、保護リン酸塩膜の第1及び第2の表面により保護
リン酸塩膜で反射される。保護リン酸塩膜は第1及び第
2周波数の光に対して少なくとも半透明である。
厚は、第1及び第2周波数での保護リン酸塩膜からの反
射光の測定強度ぶら決定される。第1及び第2周波数の
光は、保護リン酸塩膜の第1及び第2の表面により保護
リン酸塩膜で反射される。保護リン酸塩膜は第1及び第
2周波数の光に対して少なくとも半透明である。
この結果、膜厚及び保護リン酸塩膜内の成分の相対比率
は非破壊的に決定さハる。
は非破壊的に決定さハる。
好適な実施例に於いて、第1及び第2の周波数は等しい
ものではなく、赤外スRクトルから逼定さhる。測定反
射光は、保護リン酸塩膜の少むくとも2つのインタフェ
ースからの反射光である。
ものではなく、赤外スRクトルから逼定さhる。測定反
射光は、保護リン酸塩膜の少むくとも2つのインタフェ
ースからの反射光である。
上記決定工程は、既知の光学パラメータ及び厚さに対す
る反射強度の関数依存性を利用することで各所定周波数
での光学パラメータを与えて、保護リン酸塩膜内の成分
の紹成比率を自動的に算出する工程を含む。
る反射強度の関数依存性を利用することで各所定周波数
での光学パラメータを与えて、保護リン酸塩膜内の成分
の紹成比率を自動的に算出する工程を含む。
特に、リン酸塩膜は、ξ,+ξ2=1の関係を有する実
効成分率ξ,とξ2の2つの成分を有する。上記算出工
程は、d,ξ,及びξ,を決定する工程を含み、この工
程は各周波数での測定反射強度にそれぞれ基づいて保護
リン酸塩膜の成分め率と膜厚とに対応して下記の式によ
り決定される。
効成分率ξ,とξ2の2つの成分を有する。上記算出工
程は、d,ξ,及びξ,を決定する工程を含み、この工
程は各周波数での測定反射強度にそれぞれ基づいて保護
リン酸塩膜の成分め率と膜厚とに対応して下記の式によ
り決定される。
I=ao2(r,2+(+−r,)’r22e−’(ξ
西+ξ2ラ)dsecψI+2(1−r,)2r1 r
2e−2(ξ西+ξ2’2)dSec”cos2(ξI
kl+ξ2k2)acosψ′〕本発明は、自動車紹立
ラインでのリアルタイム非破壊的品質検査に用いら加、
メタル基板上に配設されたリン酸塩層の実際の厚さを非
破壊的に決定する方法により特徴づけられるもので、該
方法は、リン酸塩層な赤外スペクトル内の第1周波数の
光ビームによって照射する工程を含む。#:1周波数は
リン酸塩層内に少むくとも部分的に透過される。リン酸
塩層からの反射光の強度は第1周波数で測定さ幻る。リ
ン酸塩層は赤外スペクトル内の第2周波数の光ビームで
照射される。第2周波数はリン酔塩層内に少なくとも部
分的に透過される。リン酸塩層からの反射光の強度は第
2周波数で測定される。第1及び第2のリン酸塩成分の
実効率ξ,とξ2は、リン酸塩層からの光の測定反射強
度から自動的に導き出される。リン酸塩層からの反射光
の度合いは、少なくとも部分的に各リン酸塩成分の率に
よって決定される。
西+ξ2ラ)dsecψI+2(1−r,)2r1 r
2e−2(ξ西+ξ2’2)dSec”cos2(ξI
kl+ξ2k2)acosψ′〕本発明は、自動車紹立
ラインでのリアルタイム非破壊的品質検査に用いら加、
メタル基板上に配設されたリン酸塩層の実際の厚さを非
破壊的に決定する方法により特徴づけられるもので、該
方法は、リン酸塩層な赤外スペクトル内の第1周波数の
光ビームによって照射する工程を含む。#:1周波数は
リン酸塩層内に少むくとも部分的に透過される。リン酸
塩層からの反射光の強度は第1周波数で測定さ幻る。リ
ン酸塩層は赤外スペクトル内の第2周波数の光ビームで
照射される。第2周波数はリン酔塩層内に少なくとも部
分的に透過される。リン酸塩層からの反射光の強度は第
2周波数で測定される。第1及び第2のリン酸塩成分の
実効率ξ,とξ2は、リン酸塩層からの光の測定反射強
度から自動的に導き出される。リン酸塩層からの反射光
の度合いは、少なくとも部分的に各リン酸塩成分の率に
よって決定される。
この結果、自動車紹立ラインでの塗装さhたメタル表面
についてのオンライン・リアルタイムの品質管理が実施
される。
についてのオンライン・リアルタイムの品質管理が実施
される。
例示実施例に於いて、測定反射光強度は、リン酸塩層の
前後面によって反射せしめも到る。
前後面によって反射せしめも到る。
上記方法は追加周波数でリン酸塩層を照射する工程を更
に含む。追加周波数の数は、リン酸塩層内に含壕れる追
加リン酸塩成分の数に等しL・。リン酸塩層からの反射
光の強度は追加周波数で測定さハる。リン酸塩層内の各
リン酸塩成分の率は、追加周波数を含む周波数のそれぞ
れでの反射光の測定強度に基づいて自動的に導き出され
る。
に含む。追加周波数の数は、リン酸塩層内に含壕れる追
加リン酸塩成分の数に等しL・。リン酸塩層からの反射
光の強度は追加周波数で測定さハる。リン酸塩層内の各
リン酸塩成分の率は、追加周波数を含む周波数のそれぞ
れでの反射光の測定強度に基づいて自動的に導き出され
る。
本発明は更に、自動車生産ラインでリアルタイムベース
でシートメタル上のリン酸塩層の品質を決定する装置0
改善により特徴づけられるもので、該装置は複数の周波
数の光でリン酸塩層な照射するコーヒレント光源を備え
て成る。リン酸塩層は各周波数の光に対して少な〈とも
部分的に半透明である。光検出器は各周波数1のリン酸
塩層からの反射光の強度を測定する。コンピュータは、
光をリン酸塩層から反射せしツるリン酸塩層内に含1れ
る各成分の率を自動的に導き出す。
でシートメタル上のリン酸塩層の品質を決定する装置0
改善により特徴づけられるもので、該装置は複数の周波
数の光でリン酸塩層な照射するコーヒレント光源を備え
て成る。リン酸塩層は各周波数の光に対して少な〈とも
部分的に半透明である。光検出器は各周波数1のリン酸
塩層からの反射光の強度を測定する。コンピュータは、
光をリン酸塩層から反射せしツるリン酸塩層内に含1れ
る各成分の率を自動的に導き出す。
この結果、リン酸塩層いリアルタイム・非破壊的な品質
管理が行わかる。
管理が行わかる。
リン酸塩層からの反射光の強度を測定する光抄出器及び
リン酸塩層な照射するコーヒレント光源は、リン酸塩層
内の成分と同じ数の周波数を与え且つ測定する。
リン酸塩層な照射するコーヒレント光源は、リン酸塩層
内の成分と同じ数の周波数を与え且つ測定する。
自動車紹立ライン内でのリン酸シートメタルの様な金属
表面上に設けられたリン酸塩層内の各亜鉛リン酸塩成分
の率を決定する非破壊方法及び非破壊装置が開示されて
いる。リン酸処理層は、少なくとも部分的にリン酸塩層
な透過する赤外光に照射さトる。リン酸塩層の上下面か
らの反射は、リン酸層の光学パラメータ及びこの光学パ
ラメータに対応する成分率の関数である総合反射強度に
帰1る。例えば、リン酸塩層が2つの亜鉛リン酸塩成分
を含む場合、2つの別の波長での反射強度の測定は、亜
鉛リン酸塩成分の光学特性も1た波長の関数であること
から、異なるものとなろう。
表面上に設けられたリン酸塩層内の各亜鉛リン酸塩成分
の率を決定する非破壊方法及び非破壊装置が開示されて
いる。リン酸処理層は、少なくとも部分的にリン酸塩層
な透過する赤外光に照射さトる。リン酸塩層の上下面か
らの反射は、リン酸層の光学パラメータ及びこの光学パ
ラメータに対応する成分率の関数である総合反射強度に
帰1る。例えば、リン酸塩層が2つの亜鉛リン酸塩成分
を含む場合、2つの別の波長での反射強度の測定は、亜
鉛リン酸塩成分の光学特性も1た波長の関数であること
から、異なるものとなろう。
測定反射強度及びリン酸塩層内の成分の相対的な比率に
対する反射強度の関数依存度は、各成分の光学パラメー
タの既知の値と共に、リン酸塩層内の各成分の比率な算
出する際に用L・ることができる。
対する反射強度の関数依存度は、各成分の光学パラメー
タの既知の値と共に、リン酸塩層内の各成分の比率な算
出する際に用L・ることができる。
本発明は、スチールもしくけ、メタル基板上のリン酸塩
層の実際上の厚さ及び紹成を決定する方法論及び手段を
提供するものである。2つの避定波長でのインタフエロ
メトリ,ク・データが記録さ力る。データは理論モデル
に入力され、リン酸塩層の各成分率が決定される。リン
酸塩層内の各種リン酸塩成分の重み付け率もオた決定さ
力る。
層の実際上の厚さ及び紹成を決定する方法論及び手段を
提供するものである。2つの避定波長でのインタフエロ
メトリ,ク・データが記録さ力る。データは理論モデル
に入力され、リン酸塩層の各成分率が決定される。リン
酸塩層内の各種リン酸塩成分の重み付け率もオた決定さ
力る。
図示の実施例では、リン酸塩成分はリン酸亜鉛Z ns
( Hs PO4 ) 2とリン酸鉄亜鉛Z n F
e ( H s P 0 4 ) 2を含む。これら
成分は不鮮明なインタフェースをその間に有するか、あ
るいは2つの成分の非均一あるいは同質混合体を構成す
る。
( Hs PO4 ) 2とリン酸鉄亜鉛Z n F
e ( H s P 0 4 ) 2を含む。これら
成分は不鮮明なインタフェースをその間に有するか、あ
るいは2つの成分の非均一あるいは同質混合体を構成す
る。
第1図を参照し、図示実施例を概念的に説明する。リン
酸塩層10を、一般的には自動車あるいはその他の車輌
のシートメタル構成要素であるスチール基飯12上に配
置する。第1図に示すように、リン酸層10は、第1の
リン酸塩成分すなわち層14と、スチール基板12と接
触する下側の第2のリン酸塩成分16より成る。10.
6マイクロメータで作動するレーザのようなコーヒーレ
ントな光源18は表面11を基板12の表面に対し垂M
に振巾a。のビーム20にて照射する。
酸塩層10を、一般的には自動車あるいはその他の車輌
のシートメタル構成要素であるスチール基飯12上に配
置する。第1図に示すように、リン酸層10は、第1の
リン酸塩成分すなわち層14と、スチール基板12と接
触する下側の第2のリン酸塩成分16より成る。10.
6マイクロメータで作動するレーザのようなコーヒーレ
ントな光源18は表面11を基板12の表面に対し垂M
に振巾a。のビーム20にて照射する。
しかし、入射ビーム200波長は、リン酸塩層1口が少
なくとも半透明となるスペクトルの部分にて遇定される
。他方、リン酸塩層1口は可視スRクトルで不透明であ
り、第2図に示すような赤外スぱクトルでは、波長、波
長幹囲あるいは各種の波長範囲などは、リン酸塩層が半
透明である所に存在する。
なくとも半透明となるスペクトルの部分にて遇定される
。他方、リン酸塩層1口は可視スRクトルで不透明であ
り、第2図に示すような赤外スぱクトルでは、波長、波
長幹囲あるいは各種の波長範囲などは、リン酸塩層が半
透明である所に存在する。
例えば、第2図に、典型的なリン酸塩層の透過スペクト
ルをグラフとして示す。垂直軸はインターフェースを横
切る入射ビームの透過率を示し、他方、水平軸はミクロ
ン単位の波長を示す。第2図の透過スペクトルの検査に
より、2つの、すなわち参照番号26と28で示さ力る
波長範囲があり、ここではインターフェースを介して良
好な透過率が得られることが容易に示される。帥囲28
のピークは事実20%を超過{−ており、コーヒレント
光源18の一つの周波数として選定でき得る。
ルをグラフとして示す。垂直軸はインターフェースを横
切る入射ビームの透過率を示し、他方、水平軸はミクロ
ン単位の波長を示す。第2図の透過スペクトルの検査に
より、2つの、すなわち参照番号26と28で示さ力る
波長範囲があり、ここではインターフェースを介して良
好な透過率が得られることが容易に示される。帥囲28
のピークは事実20%を超過{−ており、コーヒレント
光源18の一つの周波数として選定でき得る。
同じピーク上の近くの識別可能な周波数は第2の周波数
として選定される。あるL・は範囲26内のピークの一
つは、後述するように本発明に基づいて使用可能なコー
ヒーレント光源18の第2の波長な指定するよう選択さ
れ得る。
として選定される。あるL・は範囲26内のピークの一
つは、後述するように本発明に基づいて使用可能なコー
ヒーレント光源18の第2の波長な指定するよう選択さ
れ得る。
第2図に示す透過スペクトルは一つの例として示されて
(・ることは明らかに理解されよう。いか々る特別なリ
ン酸塩の透過スペクトルも経験的に測定可能であり、そ
の透過用の2つの適当な周波数は本発明の主旨に従って
決定した。
(・ることは明らかに理解されよう。いか々る特別なリ
ン酸塩の透過スペクトルも経験的に測定可能であり、そ
の透過用の2つの適当な周波数は本発明の主旨に従って
決定した。
第1図を参照するに、振巾a。の入射ビーム20の一部
は、振巾a,の光線24として反射し、1た残る一部は
振巾a,の光線60として透過する。光線30はリン酸
塩層14と16の結合厚さを通過し、リン酸塩とメタル
とのインターフェース32に入射する。光線ろ0の一部
は光線64としてメタル基板12内に再び透過するが、
光線340大部分は、振巾a,の光線としてリン酸塩層
10を介して上方に反射する。光線36はインターフェ
ース22の下面に入射し、その一部は再び振巾a4の光
線38としてそこを透過する。各入射光線20の光線2
4及び38は建設的にあるいは相殺的に結合して干渉フ
リンジ・パターンを形成する。これは写真板、光検出器
あるいはビデオカメラ40上に合焦する。後述するよう
に、例えば、下記の各種の式を解くようプログラムされ
たコンピュータ50によって、反射光の強度が測定され
、1たリン酸塩層10の厚さが決定される。
は、振巾a,の光線24として反射し、1た残る一部は
振巾a,の光線60として透過する。光線30はリン酸
塩層14と16の結合厚さを通過し、リン酸塩とメタル
とのインターフェース32に入射する。光線ろ0の一部
は光線64としてメタル基板12内に再び透過するが、
光線340大部分は、振巾a,の光線としてリン酸塩層
10を介して上方に反射する。光線36はインターフェ
ース22の下面に入射し、その一部は再び振巾a4の光
線38としてそこを透過する。各入射光線20の光線2
4及び38は建設的にあるいは相殺的に結合して干渉フ
リンジ・パターンを形成する。これは写真板、光検出器
あるいはビデオカメラ40上に合焦する。後述するよう
に、例えば、下記の各種の式を解くようプログラムされ
たコンピュータ50によって、反射光の強度が測定され
、1たリン酸塩層10の厚さが決定される。
波の振幅を位相情報を有する複素数として取り扱う場合
、検出器40が受ける入射振幅は光線24と38の和と
なる。すなわち、 a = a, +a,
(11ここで、 a一検出器4口での振幅 3,=インタフェース22から反射された振a,=イン
タフェース62からの反射後のインタフェース22を透
過した振幅。
、検出器40が受ける入射振幅は光線24と38の和と
なる。すなわち、 a = a, +a,
(11ここで、 a一検出器4口での振幅 3,=インタフェース22から反射された振a,=イン
タフェース62からの反射後のインタフェース22を透
過した振幅。
振幅a,及びa,の値は1)入射振幅a。により、2)
−それぞれrl l r2のように表示されるインタフ
ェース22及び62の反射率により、6)リン酸塩層1
0の吸収率αにより、4)リン酸塩層10内での放射の
波数kにより、1た5)リン酸塩層10の厚さdにより
書き換えられる。従って、検出振幅aは下記の式(2)
に示される如く規定される。
−それぞれrl l r2のように表示されるインタフ
ェース22及び62の反射率により、6)リン酸塩層1
0の吸収率αにより、4)リン酸塩層10内での放射の
波数kにより、1た5)リン酸塩層10の厚さdにより
書き換えられる。従って、検出振幅aは下記の式(2)
に示される如く規定される。
a=a0(r, +( 1−r, ) 2r2e−2α
dsecψezikdcosψ〕(2)ここで 『,=インタフェース22の反射率 r!=インタフェース32の反射率 α=層10の吸収率 k=層10での波数 ψは表面に対する法線に関し入射ビームが作る角度。
dsecψezikdcosψ〕(2)ここで 『,=インタフェース22の反射率 r!=インタフェース32の反射率 α=層10の吸収率 k=層10での波数 ψは表面に対する法線に関し入射ビームが作る角度。
検出器40での観測ビームの強度は上記の式2で与えら
れた検出振幅の絶対量の2乗である。従って、メタル基
板12上のリン酸塩層10から反射した頼出ビームの強
度は下記の式6のように与えら力る。
れた検出振幅の絶対量の2乗である。従って、メタル基
板12上のリン酸塩層10から反射した頼出ビームの強
度は下記の式6のように与えら力る。
I = lal2=a(,2(rl2+(1−r,)’
r,2e−’αdsecψ′+2(+−r,)2r,r
2e−2αdsecψ’cos(2ka cosψ’)
] (3)ここで1はn sinψ′=sinψによ
ってψに関連されるリン酸塩層内での屈折ビーム角度で
、上述のnは屈折率。
r,2e−’αdsecψ′+2(+−r,)2r,r
2e−2αdsecψ’cos(2ka cosψ’)
] (3)ここで1はn sinψ′=sinψによ
ってψに関連されるリン酸塩層内での屈折ビーム角度で
、上述のnは屈折率。
従って、強度はリン酸塩層10の光学パラメータと層の
厚さdの関数となる。強度は項cos( zkdcos
ψ)′によりψもしくはψ′の関数として周期的に変化
する。かくして、強度は、2kacosψ’= 0 .
2π,4π・・・の時最大となり、2kdcosr=
π,6π,5π・・・の時最小と々る。画像面のフリン
ジの周期を測定することにより、1た△x=f△ψとす
ることにより厚さdが決定される。なお、ここでナはレ
ンズの焦点距離。
厚さdの関数となる。強度は項cos( zkdcos
ψ)′によりψもしくはψ′の関数として周期的に変化
する。かくして、強度は、2kacosψ’= 0 .
2π,4π・・・の時最大となり、2kdcosr=
π,6π,5π・・・の時最小と々る。画像面のフリン
ジの周期を測定することにより、1た△x=f△ψとす
ることにより厚さdが決定される。なお、ここでナはレ
ンズの焦点距離。
しかし現実には、リン酸塩層10は実際上は2つの個別
成分、部分重複と併合される2つの個別成分の層もしく
は層10内の内部層間に鮮明々インタフェースを有しな
い2層の非均一々あるいは同質々混合体による複合層で
ある。層10内の各リン酸塩成分は、層10の光学巷性
に貢献する。
成分、部分重複と併合される2つの個別成分の層もしく
は層10内の内部層間に鮮明々インタフェースを有しな
い2層の非均一々あるいは同質々混合体による複合層で
ある。層10内の各リン酸塩成分は、層10の光学巷性
に貢献する。
従って、上述の式で表わされている通り、層10内の放
射の波数及び吸収率は、層内の各リン酸塩成分の程度に
よって重み付けされた層10内のリン酸塩成分双方から
の平均とみなしてよい。従って、式乙に示される量、〈
α>,<d>及び(kd)の重み付け平均値は次の式4
に与えられると考えて良い。
射の波数及び吸収率は、層内の各リン酸塩成分の程度に
よって重み付けされた層10内のリン酸塩成分双方から
の平均とみなしてよい。従って、式乙に示される量、〈
α>,<d>及び(kd)の重み付け平均値は次の式4
に与えられると考えて良い。
〈α〉=ξ+a1+ξ,aR
〈k〉=ξlkl+ξ, k, (4
)ここで 色は第一のリン酸塩の吸収率 ξ1は第十のリン酸塩の成分率 へは第二のリン酸塩の吸収率 ξ2はξ1+ξ2=1の関係性を有する第二のリン酸塩
の成分率。
)ここで 色は第一のリン酸塩の吸収率 ξ1は第十のリン酸塩の成分率 へは第二のリン酸塩の吸収率 ξ2はξ1+ξ2=1の関係性を有する第二のリン酸塩
の成分率。
式4からのくα〉と<k>の値を式3に代入すると、次
の結果が得られる。
の結果が得られる。
I=ao2(r12+(1−r,)%,26−4(ξ,
色+ξ*a2〉dsecψI+20−r,)2r1r2
e−2(ξ1a1+ξ,(14)dsecψ島2(ξ山
+/,,k,)a cosψク従って、被測定ビームの
強度は既知の定数とリン酸塩層10内の2つのリン酸塩
成分の率ξ,とξ,との関数となる。光学定数は各波長
で別々に既知であることから、2つの別々の波長での強
度を測定することで、2つの未知数を含む上述の形の2
つの式を得ることができる。一次方程式でけむいが、゛
ξ,=1−ξ,とし、2つの異なる波長でのdについて
のフリンジ周期を測定することで、2つの式は例えばコ
ンピュータ50で数値的に解かれ、かくしてξ,とξ,
の値が与えられる。このように、リン酸塩膜の厚さと紹
成がオンラインで且つリアルタイムで決定される。
色+ξ*a2〉dsecψI+20−r,)2r1r2
e−2(ξ1a1+ξ,(14)dsecψ島2(ξ山
+/,,k,)a cosψク従って、被測定ビームの
強度は既知の定数とリン酸塩層10内の2つのリン酸塩
成分の率ξ,とξ,との関数となる。光学定数は各波長
で別々に既知であることから、2つの別々の波長での強
度を測定することで、2つの未知数を含む上述の形の2
つの式を得ることができる。一次方程式でけむいが、゛
ξ,=1−ξ,とし、2つの異なる波長でのdについて
のフリンジ周期を測定することで、2つの式は例えばコ
ンピュータ50で数値的に解かれ、かくしてξ,とξ,
の値が与えられる。このように、リン酸塩膜の厚さと紹
成がオンラインで且つリアルタイムで決定される。
仮に2つ以上のリン酸塩成分が存する場合、実効集合厚
さが得られるリン酸塩成分と同じ数の追加波長で、その
手順を繰り返して良い。これらの率のそれぞれを決定す
ることが出来ることにより、リン酸塩成分が層内にいか
に分配されるか、1た理論上この様なリン酸塩層かも得
られる有謳な腐食抵抗効果が実現でき得るものかどうか
に5いて数量的に理解することができる。
さが得られるリン酸塩成分と同じ数の追加波長で、その
手順を繰り返して良い。これらの率のそれぞれを決定す
ることが出来ることにより、リン酸塩成分が層内にいか
に分配されるか、1た理論上この様なリン酸塩層かも得
られる有謳な腐食抵抗効果が実現でき得るものかどうか
に5いて数量的に理解することができる。
図示の実施例は単なる例として述べられているにすぎず
、酌記の特許請求の範囲にて定義される発明を限定する
ものとして考えらIるぺきでは?jい。多くの変更及び
修正は、発明の範囲と精神力ら逸脱することな〈当業者
により為さわることG』明らかであろう。
、酌記の特許請求の範囲にて定義される発明を限定する
ものとして考えらIるぺきでは?jい。多くの変更及び
修正は、発明の範囲と精神力ら逸脱することな〈当業者
により為さわることG』明らかであろう。
第1図はリン酸塩膜の厚さを光学的に測定する測定装置
の断面を概略的に示す図。第2図は、メタル表面のリン
酸塩コーティングに用ち・られるリン酸塩化合物用の典
型的な赤外透過スペクトルググラフ。 10:リン酸塩層 12:スチール基板14:第1
のリン酸塩成分16:第2のリン酸塩成多18:コヒー
レント光源 20:入射ビーム24・30・ろ4・36
・38 :光線) } 40 二光検出器 50 :コンピュータ 一一 (
の断面を概略的に示す図。第2図は、メタル表面のリン
酸塩コーティングに用ち・られるリン酸塩化合物用の典
型的な赤外透過スペクトルググラフ。 10:リン酸塩層 12:スチール基板14:第1
のリン酸塩成分16:第2のリン酸塩成多18:コヒー
レント光源 20:入射ビーム24・30・ろ4・36
・38 :光線) } 40 二光検出器 50 :コンピュータ 一一 (
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板上に配された保護リン酸塩膜の厚さ及び組成率
を非破壊的に決定する方法であって、上記基板上の上記
保護リン酸塩膜を第1の所定周波数の光で照射する工程
と、上記第1の周波数での上記保護リン酸塩膜からの反
射光の強度を測定する工程と、上記基板上の上記保護リ
ン酸塩膜を第2の所定周波数の光で照射する工程と、上
記第2の周波数での上記保護リン酸塩膜からの反射光の
強度を測定する工程と、上記第1及び第2周波数での上
記保護リン酸塩膜からの反射光の上記の測定強度から上
記保護リン酸塩膜の第1及び第2の成分の率を決定する
工程であって、上記第1及び第2の周波数の光は上記保
護リン酸塩膜の第1及び第2のインタフェースを介して
上記保護リン酸塩膜から反射されるものであり、上記保
護リン酸塩膜は上記第1及び第2周波数の上記光に対し
て少なくとも半透明である工程とを備え、上記保護リン
酸塩膜内の上記成分の率が非破壊的に決定されることを
特徴とする方法。 2、上記第1及び第2の周波数は異なることを特徴とす
る請求項1記載の方法。 3、上記第1及び第2周波数は赤外スペクトルから選定
することを特徴とする請求項2記載の方法。 4、上記決定工程は、既知の光学パラメータ及び厚さに
対する上記反射強度の関数依存性を利用することにより
、上記各所定周波数での光学パラメータを既知として与
えて、上記保護リン酸塩膜内の上記成分の率を自動的に
算出する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の方
法。 5、上記リン酸塩膜は率ξ_1とξ_2の少なくとも2
つの成分を有し、上記算出工程は各上記周波数での測定
反射強度に基づく上記保護リン酸塩膜の上記の成分の率
にそれぞれ対応して、各上記所定周波数に対して下記の
式によってξ_1とξ_2とを決定することを特徴とす
る請求項4記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ただし、Iは上記所定周波数での上記反射光の強度。 a_0は上記基板を照射する光の振巾。 r_1は上記リン酸塩膜の第1の上側界面の反射率。 r_2は上記リン酸塩膜の第2の下側界面の反射率。 α_1は上記リン酸塩膜の上記第1の成分の吸収率。 α_2は上記リン酸塩膜の上記第2の成分の吸収率。 ξ_1は上記リン酸塩膜の上記第1の成分の率。 ξ_2は上記リン酸塩膜の上記第2の成分の率。 ψ′は上記リン酸塩膜における入射ビーム の屈折角。 6、上記各工程は自動的に行われることを特徴とする請
求項1記載の方法。 7、上記各工程は自動的に行われることを特徴とする請
求項5記載の方法。 8、自動組立ラインに於けるリアルタイム非破壊品質検
査に用いられ、メタル基板上に配されるリン酸塩層内の
各リン酸塩成分の率を非破壊的に決定する方法であって
、赤外スペクトル内にあり上記リン酸塩層内に少なくと
も部分的に透過される第1周波数の光ビームで上記リン
酸塩層を照射する工程と、上記リン酸塩層からの上記第
1周波数での反射光の強度を測定する工程と、赤外スペ
クトル内にあり上記リン酸塩層内に少なくとも部分的に
透過される第2周波数の光ビームで上記リン酸塩層を照
射する工程と、上記リン酸塩層からの上記第2周波数で
の反射光の強度を測定する工程と、上記リン酸塩層から
の光の測定反射強度から上記リン酸塩層内の上記第1及
び第2リン酸塩成分の率を自動的に導き出す工程であっ
て、上記リン酸塩層からの反射光の度合いは少なくとも
部分的に各リン酸塩成分の率により決定される工程とを
含み、自動組立ラインに於けるリン酸処理メタル表面に
対するオンライン・リアルタイム品質管理が行われるこ
とを特徴とする方法。 9、上記第1及び第2周波数での反射光の強度を測定す
る工程に於いて、上記リン酸塩層にて画定される二つの
インタフェースからの反射光が測定されることを特徴と
する請求項8記載の方法。 10、上記測定反射光強度はZn_3(H_3PO_4
)_2成分にて反射されることを特徴とする請求項8記
載の方法。 11、上記測定反射光強度は上記リン酸塩層内のZn_
2Fe(H_3PO_4)_2成分から反射するように
したことを特徴とする請求項8記載の方法。 12、上記測定反射光強度は上記リン酸塩層内のZn_
2Fe(H_3PO_4)_2成分から反射するように
したことを特徴とする請求項10記載の方法。 13、少なくとも1つの追加周波数で上記リン酸塩層を
照射する工程であって、該追加周波数の数は上記リン酸
塩層内に含まれる追加リン酸塩層の数に等しい工程と、
上記追加周波数での上記リン酸塩層からの反射光強度を
測定する工程と、上記追加周波数を含む上記各周波数で
の反射光の測定強度に基づいて上記リン酸塩層内の各成
分の率を自動的に導き出す工程とを更に含むことを特徴
とする請求項8記載の方法。 14、自動生産ラインに用いられ、リアルタイムベース
でシートメタル上のリン酸塩層の品質を決定する装置で
あって、複数の周波数のそれぞれの光に対して少なくと
も部分的に半透明である上記リン酸塩層を上記複数の周
波数の光で照射する手段と、上記光を上記リン酸塩層か
ら反射せしめる上記リン酸塩層内に含まれる各成分の率
を自動的に導き出す手段とを備えて成り、リン酸塩層の
リアルタイム非破壊品質管理を行うことを特徴とする装
置。 15、上記光を与える手段は赤外スペクトル内の上記周
波数のそれぞれでの光を与えることを特徴とする請求項
14記載の装置。 16、上記リン酸塩層からの反射光強度を測定する手段
は、上記リン酸塩層の2つのインタフェースからの反射
光の強度を測定することを特徴とする請求項14記載の
装置。 17、上記リン酸層からの反射光の反射強度を測定する
手段及び上記リン酸塩層を照射する手段は上記リン酸塩
層内の成分と同じ数の周波数を与え且つ測定することを
特徴とする請求項14記載の装置。 18、上記リン酸塩層内の上記成分は上記リン酸塩層の
リン酸亜鉛成分であることを特徴とする請求項17記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US39319889A | 1989-08-14 | 1989-08-14 | |
| US393198 | 1989-08-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03170041A true JPH03170041A (ja) | 1991-07-23 |
Family
ID=23553684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2215697A Pending JPH03170041A (ja) | 1989-08-14 | 1990-08-14 | リン酸塩被膜面のリン酸塩層の厚さ及び組成の非接触オンライン決定方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0413943A1 (ja) |
| JP (1) | JPH03170041A (ja) |
| KR (1) | KR920011038B1 (ja) |
| AU (1) | AU626201B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009509149A (ja) * | 2005-09-22 | 2009-03-05 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 干渉計による層厚決定 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5795394A (en) * | 1997-06-02 | 1998-08-18 | Honeywell-Measurex | Coating weight measuring and control apparatus |
| US6198537B1 (en) * | 1997-07-11 | 2001-03-06 | Philip Morris Incorporated | Optical inspection system for the manufacture of banded cigarette paper |
| CN103983201A (zh) * | 2014-05-14 | 2014-08-13 | 首钢总公司 | 一种检测冷轧板磷化膜厚度的方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS603409B2 (ja) * | 1980-11-25 | 1985-01-28 | 工業技術院長 | ポリアシルヒドラゾン及びその製造方法 |
| JPS6425039A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-27 | Mazda Motor | Detecting device of adhesion amount of film subjected to chemical formation |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4129781A (en) * | 1976-05-17 | 1978-12-12 | Doyle W | Film thickness measuring apparatus and method |
| US4189335A (en) * | 1978-09-28 | 1980-02-19 | The Dow Chemical Company | Method for determining distribution of a coating composition on a carpet structure |
| JPS6052706A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-26 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 膜厚測定装置 |
| US4679946A (en) * | 1984-05-21 | 1987-07-14 | Therma-Wave, Inc. | Evaluating both thickness and compositional variables in a thin film sample |
| FR2589578B1 (fr) * | 1985-11-05 | 1988-02-05 | Univ Reims Champagne Ardenne | Procede et dispositif de controle optique par reflexion d'un materiau ou composant semi-transparent |
| GB8528448D0 (en) * | 1985-11-19 | 1985-12-24 | Infrared Eng Ltd | Absorption gauge |
| JP2567601B2 (ja) * | 1987-03-27 | 1996-12-25 | サンスター技研 株式会社 | 塗布剤の塗布状態検査方法 |
-
1990
- 1990-07-12 EP EP90113363A patent/EP0413943A1/en not_active Withdrawn
- 1990-08-07 AU AU60284/90A patent/AU626201B2/en not_active Ceased
- 1990-08-13 KR KR1019900012435A patent/KR920011038B1/ko not_active Expired
- 1990-08-14 JP JP2215697A patent/JPH03170041A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS603409B2 (ja) * | 1980-11-25 | 1985-01-28 | 工業技術院長 | ポリアシルヒドラゾン及びその製造方法 |
| JPS6425039A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-27 | Mazda Motor | Detecting device of adhesion amount of film subjected to chemical formation |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009509149A (ja) * | 2005-09-22 | 2009-03-05 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 干渉計による層厚決定 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU6028490A (en) | 1991-04-18 |
| KR920011038B1 (ko) | 1992-12-26 |
| EP0413943A1 (en) | 1991-02-27 |
| KR910005047A (ko) | 1991-03-29 |
| AU626201B2 (en) | 1992-07-23 |
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