JPH0317343B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0317343B2 JPH0317343B2 JP59219431A JP21943184A JPH0317343B2 JP H0317343 B2 JPH0317343 B2 JP H0317343B2 JP 59219431 A JP59219431 A JP 59219431A JP 21943184 A JP21943184 A JP 21943184A JP H0317343 B2 JPH0317343 B2 JP H0317343B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- cathode
- anode
- deflection
- beam generating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/07—Eliminating deleterious effects due to thermal effects or electric or magnetic fields
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電子ビームアニーリング装置等に使
用して適当なライン状電子ビーム発生装置に関す
る。
用して適当なライン状電子ビーム発生装置に関す
る。
［従来技術］
第４図は従来のライン状電子ビーム発生部を示
しており、図中１は細長い電子ビーム発生部２を
有した陰極である。該陰極１には、電源３から加
熱電流が供給され、その結果、該陰極から熱電子
が発生する。該熱電子は、該陰極１に接近して配
置された制御電極４によつて制御され、陽極５に
よつて加速されて被加熱材料（図示せず）に向け
照射される。
しており、図中１は細長い電子ビーム発生部２を
有した陰極である。該陰極１には、電源３から加
熱電流が供給され、その結果、該陰極から熱電子
が発生する。該熱電子は、該陰極１に接近して配
置された制御電極４によつて制御され、陽極５に
よつて加速されて被加熱材料（図示せず）に向け
照射される。
［発明が解決しようとする問題点］
上述した構成では、陰極１の電子ビーム発生部
２に電流ｉが流されるため、該陰極の近傍には、
紙面に垂直な方向に磁場Ｈが形成される。その結
果、該陰極１から発生した電子ビームは該磁場に
よつて偏向され、光軸Ｏからずれた方向に照射さ
れることになる。
２に電流ｉが流されるため、該陰極の近傍には、
紙面に垂直な方向に磁場Ｈが形成される。その結
果、該陰極１から発生した電子ビームは該磁場に
よつて偏向され、光軸Ｏからずれた方向に照射さ
れることになる。
本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、
電子ビームを光軸方向に正確に照射することがで
きる電子ビーム発生装置を提供することを目的と
している。
電子ビームを光軸方向に正確に照射することがで
きる電子ビーム発生装置を提供することを目的と
している。
［問題点を解決するための手段］
本発明に基づくライン状電子ビーム発生装置
は、細長い電子ビーム発生部を有した陰極と、該
陰極に加熱電流を供給する手段と、該陰極から発
生する電子線ビームを制御する制御電極と、該電
子ビームを加速するための陰極とを備えた装置に
おいて、前記陰極に対し鏡筒外から光軸に対し垂
直な面上で前記陽極を移動させる手段を設けたこ
とを特徴としている。
は、細長い電子ビーム発生部を有した陰極と、該
陰極に加熱電流を供給する手段と、該陰極から発
生する電子線ビームを制御する制御電極と、該電
子ビームを加速するための陰極とを備えた装置に
おいて、前記陰極に対し鏡筒外から光軸に対し垂
直な面上で前記陽極を移動させる手段を設けたこ
とを特徴としている。
［実施例］
以下、本発明の実施例を添附図面に基づいて詳
述する。
述する。
第２図において、第１図と同一構成要素に対し
ては同一番号を付しその詳細な説明は省略する。
この実施例において、陽極５は光軸Ｏに対して垂
直なＸ、Y2方向に移動機構６によつて移動可能
に配置されている。第２図は陰極１の電子ビーム
発生部２と陽極５の開口５ａとの関係を示してい
る。該開口５ａの幅および流さは該発生部２のそ
れより長くされており、該陽極５は、Ｘ方向には
±ａ、Ｙ方向には±ｂ該移動機構６によつて移動
可能にされている。前述した如く、該陰極への電
流ｉの供給により、該陰極１下部には電子ビーム
を偏向する磁場が形成され、該陰極１より発生し
た電子ビームは該磁場によつて偏向されるもの
の、この実施例では、該陽極５の静電偏向作用に
よつて該磁場による電子ビームの偏向は補償され
る。すなわち、該陽極の位置が該電子ビームの偏
向の程度によつて移動され、該磁場による偏向の
向きと逆の向きに、該電子ビームは該陽極の静電
偏向場によつて偏向されることから、電子ビーム
は光軸Ｏに沿つて照射されることになる。
ては同一番号を付しその詳細な説明は省略する。
この実施例において、陽極５は光軸Ｏに対して垂
直なＸ、Y2方向に移動機構６によつて移動可能
に配置されている。第２図は陰極１の電子ビーム
発生部２と陽極５の開口５ａとの関係を示してい
る。該開口５ａの幅および流さは該発生部２のそ
れより長くされており、該陽極５は、Ｘ方向には
±ａ、Ｙ方向には±ｂ該移動機構６によつて移動
可能にされている。前述した如く、該陰極への電
流ｉの供給により、該陰極１下部には電子ビーム
を偏向する磁場が形成され、該陰極１より発生し
た電子ビームは該磁場によつて偏向されるもの
の、この実施例では、該陽極５の静電偏向作用に
よつて該磁場による電子ビームの偏向は補償され
る。すなわち、該陽極の位置が該電子ビームの偏
向の程度によつて移動され、該磁場による偏向の
向きと逆の向きに、該電子ビームは該陽極の静電
偏向場によつて偏向されることから、電子ビーム
は光軸Ｏに沿つて照射されることになる。
［効果］
以上詳述した如く、本発明においては、細長い
電子ビーム発生部に電流が長されることに伴う磁
場による電子ビームの偏向を補償することがで
き、ライン状の電子ビームを目的部分へ正確に照
射することが可能となる。又、本発明では、陰極
に対し陽極を移動させるメカ的機構により、陰極
への加熱電流の供給に基づいて発生する磁場によ
る電子ビームの偏向を補償しているので、制御電
極と陽極の間、若しくは陽極の直下に、偏向コイ
ル、偏向電極若しくは電磁石等の電気的機構を設
ける場合に比べ、種々のメリツトがある。即ち、
前記電気的機構は外部ノイズの影響を受けるが、
本発明のメカ的機構は該外部ノイズの影響を受け
ない。前記電気的機構は制御電極と陽極の間、若
しくは陽極の直下に補償機構を設ける為に余計に
空間を広げる必要があるが、本発明のメカ的機構
は鏡筒外から陽極を駆動出来るので、鏡筒外の駆
動機構と鏡筒内の陽極を接続する移動棒が鏡筒内
に設けられるだけなので、制御電極と陽極の間、
若しくは陽極の直下に特に広い空間を設ける必要
がない。
電子ビーム発生部に電流が長されることに伴う磁
場による電子ビームの偏向を補償することがで
き、ライン状の電子ビームを目的部分へ正確に照
射することが可能となる。又、本発明では、陰極
に対し陽極を移動させるメカ的機構により、陰極
への加熱電流の供給に基づいて発生する磁場によ
る電子ビームの偏向を補償しているので、制御電
極と陽極の間、若しくは陽極の直下に、偏向コイ
ル、偏向電極若しくは電磁石等の電気的機構を設
ける場合に比べ、種々のメリツトがある。即ち、
前記電気的機構は外部ノイズの影響を受けるが、
本発明のメカ的機構は該外部ノイズの影響を受け
ない。前記電気的機構は制御電極と陽極の間、若
しくは陽極の直下に補償機構を設ける為に余計に
空間を広げる必要があるが、本発明のメカ的機構
は鏡筒外から陽極を駆動出来るので、鏡筒外の駆
動機構と鏡筒内の陽極を接続する移動棒が鏡筒内
に設けられるだけなので、制御電極と陽極の間、
若しくは陽極の直下に特に広い空間を設ける必要
がない。
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図は
第１図の陽極と陰極の電子ビーム発生部との関係
を示す図、第３図は従来のライン状電子ビーム発
生装置を示す図である。 １……陰極、２……電子ビーム発生部、３……
電源、４……制御電極、５……陽極、６……移動
機構。
第１図の陽極と陰極の電子ビーム発生部との関係
を示す図、第３図は従来のライン状電子ビーム発
生装置を示す図である。 １……陰極、２……電子ビーム発生部、３……
電源、４……制御電極、５……陽極、６……移動
機構。
Claims (1)
- １ 細長い電子ビーム発生部を有した陰極と、該
陰極に加熱電流を供給する手段と、該陰極から発
生する電子ビームを制御する制御電極と、該電子
ビームを加速するための陽極とを備えたライン状
電子ビーム発生装置において、前記陰極に対し鏡
筒外から光軸に対し垂直な面上で前記陽極を移動
させる手段を設けたことを特徴とするライン状電
子ビーム発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219431A JPS6199255A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ライン状電子ビ−ム発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219431A JPS6199255A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ライン状電子ビ−ム発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199255A JPS6199255A (ja) | 1986-05-17 |
| JPH0317343B2 true JPH0317343B2 (ja) | 1991-03-07 |
Family
ID=16735288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59219431A Granted JPS6199255A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ライン状電子ビ−ム発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199255A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61139562U (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-29 | ||
| JPH01204340A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 直熱式リニアフィラメント型電子銃 |
| JPH01231250A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 傍熱式リニアフィラメント型電子銃 |
| JPH02113257U (ja) * | 1988-05-24 | 1990-09-11 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56109442A (en) * | 1980-02-05 | 1981-08-29 | Nec Corp | Electron beam generator |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59219431A patent/JPS6199255A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6199255A (ja) | 1986-05-17 |
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