JPH0317807A - 垂直記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
垂直記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH0317807A JPH0317807A JP15303989A JP15303989A JPH0317807A JP H0317807 A JPH0317807 A JP H0317807A JP 15303989 A JP15303989 A JP 15303989A JP 15303989 A JP15303989 A JP 15303989A JP H0317807 A JPH0317807 A JP H0317807A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
磁気ディスク装置、磁気テープ装置等に用いられる垂直
磁化記録方式の薄膜磁気ヘットの製造方法に関し、 磁性基板の主磁極配設領域の構造を改良して、主磁極先
端部へ集中する外部漏洩ルハ界に対するシールド効果を
高めることを目的とし、 磁性基板上にV字状の底面を持つ溝と、該■字状溝の長
手力向と直交する方向に該■字状溝より浅く、かつ平ら
な底面を有する切り欠き部とを設け、該■字状溝及び切
り欠き部に非磁性絶縁材を充填した後、該切り欠き部を
覆うように層間絶縁層、薄膜コイル、眉間絶縁層を順次
形成し、更に記録再生用の主磁極を、前記層間絶縁層上
を含めて後端部は前記磁性基板面上に、先端部は前記V
字状溝内の非磁性絶縁材面上にそれぞれ延在するように
形成し、該主磁極の先端部を前記V字状溝の切り欠き部
に近い側の傾斜面上で該溝の長手方向に沿って磁性基板
と共に切除する工程を含み構戒する。
磁化記録方式の薄膜磁気ヘットの製造方法に関し、 磁性基板の主磁極配設領域の構造を改良して、主磁極先
端部へ集中する外部漏洩ルハ界に対するシールド効果を
高めることを目的とし、 磁性基板上にV字状の底面を持つ溝と、該■字状溝の長
手力向と直交する方向に該■字状溝より浅く、かつ平ら
な底面を有する切り欠き部とを設け、該■字状溝及び切
り欠き部に非磁性絶縁材を充填した後、該切り欠き部を
覆うように層間絶縁層、薄膜コイル、眉間絶縁層を順次
形成し、更に記録再生用の主磁極を、前記層間絶縁層上
を含めて後端部は前記磁性基板面上に、先端部は前記V
字状溝内の非磁性絶縁材面上にそれぞれ延在するように
形成し、該主磁極の先端部を前記V字状溝の切り欠き部
に近い側の傾斜面上で該溝の長手方向に沿って磁性基板
と共に切除する工程を含み構戒する。
本発明は磁気ディスク装置、磁気テープ装置等に用いら
れる垂直位化記録方式の薄膜磁気へノドの製造方法に関
するものである。
れる垂直位化記録方式の薄膜磁気へノドの製造方法に関
するものである。
垂直磁化記録は一般に用いられている水平磁化記録の高
密度化の限界を打破し得る方式として注目されており、
かかる垂直磁化記録方式では、高透磁率な軟磁性層上に
垂直異方性を有する磁化記録層が積層された二層膜構造
の垂直磁気記録媒体面に対して垂直な方向に情報を磁化
することにより高密度磁気記録を実現し得る単磁極型の
垂直記録用薄膜磁気ヘッドが既に提案されている。
密度化の限界を打破し得る方式として注目されており、
かかる垂直磁化記録方式では、高透磁率な軟磁性層上に
垂直異方性を有する磁化記録層が積層された二層膜構造
の垂直磁気記録媒体面に対して垂直な方向に情報を磁化
することにより高密度磁気記録を実現し得る単磁極型の
垂直記録用薄膜磁気ヘッドが既に提案されている。
このような単磁極型の薄膜るR気ヘソドは外部からのa
/9J.磁界の影響を受け易く、その外部漏洩{f生界
により主磁極が異常に励{1され、既に記録されたるn
化情報を部分的に滅磁、或いは消去するといった傾向が
ある。このため、そのような外部漏洩磁界の影響を防止
して信頼性を高めた垂直記録用薄n* 磁気ヘッドを容
易に製造する方法が要望されている。
/9J.磁界の影響を受け易く、その外部漏洩{f生界
により主磁極が異常に励{1され、既に記録されたるn
化情報を部分的に滅磁、或いは消去するといった傾向が
ある。このため、そのような外部漏洩磁界の影響を防止
して信頼性を高めた垂直記録用薄n* 磁気ヘッドを容
易に製造する方法が要望されている。
従来の単45i極型の垂直記録用薄膜るn気ヘッドは、
第4図の平面図及び第4図のA−A’ 切断線に沿った
第5図の断面図で示すように、スライダとなるNi−Z
n, Mn−Znなどのフエライトからなる磁性基板1
1の所定領域に、底部中央にV字状底面12aを有する
広い幅の溝l2を形成し、その溝12内にガラス、Si
n.などの非磁性絶縁材13を埋設する。
第4図の平面図及び第4図のA−A’ 切断線に沿った
第5図の断面図で示すように、スライダとなるNi−Z
n, Mn−Znなどのフエライトからなる磁性基板1
1の所定領域に、底部中央にV字状底面12aを有する
広い幅の溝l2を形成し、その溝12内にガラス、Si
n.などの非磁性絶縁材13を埋設する。
そして該非磁性絶縁材13の埋設領域上に、図示のよう
に熱硬化性絶縁樹脂材等からなる層間絶縁層14aを介
して渦巻状等からなる薄膜コイル15と層間絶縁層14
bを順次形成し、更にその層間絶縁層14b上には、例
えば0.3〜0.5μ閘の膜厚のアモルファスCo−Z
r系の磁性薄膜からなる記録再生用主磁極16を、その
先端部16aが前記溝l2のV字状底面12a上の非磁
性絶縁材13面上に、後端部16bは前記磁性基板11
面上にそれぞれ延在するように形成する。
に熱硬化性絶縁樹脂材等からなる層間絶縁層14aを介
して渦巻状等からなる薄膜コイル15と層間絶縁層14
bを順次形成し、更にその層間絶縁層14b上には、例
えば0.3〜0.5μ閘の膜厚のアモルファスCo−Z
r系の磁性薄膜からなる記録再生用主磁極16を、その
先端部16aが前記溝l2のV字状底面12a上の非磁
性絶縁材13面上に、後端部16bは前記磁性基板11
面上にそれぞれ延在するように形成する。
またその主磁極16上の先端部16aを除く領域には、
3μm程度の膜厚のNi−Feからなる盛り上げるは性
層l7を積層して該主磁極16の6n気抵抗を低くし、
同し< {fi気抵抗の低い前記65t性基板11との
組合わせにより高い記録・再生効率を得るようにしてい
る。
3μm程度の膜厚のNi−Feからなる盛り上げるは性
層l7を積層して該主磁極16の6n気抵抗を低くし、
同し< {fi気抵抗の低い前記65t性基板11との
組合わせにより高い記録・再生効率を得るようにしてい
る。
更に、前記主磁極先端部16aを含む盛り上げ磁性層l
7上にAj!zOtなどの保jff I19! 1 8
を被着形戒すると共に、該主磁極先端部16aを前記溝
12のv字状底而12aの一方の傾斜面上で該溝l2の
長手方向に沿って前記保護膜l8、溝l2に埋設された
非磁性絶縁材13及び磁性基板11と共にを切断除去し
、研磨仕.ヒげを行って媒体対向面l9を形成し、かつ
その媒体対向面l9は切削加工によりスライダ形状にし
ている。
7上にAj!zOtなどの保jff I19! 1 8
を被着形戒すると共に、該主磁極先端部16aを前記溝
12のv字状底而12aの一方の傾斜面上で該溝l2の
長手方向に沿って前記保護膜l8、溝l2に埋設された
非磁性絶縁材13及び磁性基板11と共にを切断除去し
、研磨仕.ヒげを行って媒体対向面l9を形成し、かつ
その媒体対向面l9は切削加工によりスライダ形状にし
ている。
このような構成の垂直記録用薄膜磁気ヘッドは、記録・
再生時に対向する屯直磁気記録媒体におけるディスク基
板と磁化記録層との間に介在される高透磁率な軟磁性層
を該磁気ヘッドの主磁極16と磁束リターンヨークとし
て機能する磁性基板11との磁路に利用することで、該
媒体の磁化記録層に対して乗直方向に高密度な磁気記録
・再生を可能にしている。
再生時に対向する屯直磁気記録媒体におけるディスク基
板と磁化記録層との間に介在される高透磁率な軟磁性層
を該磁気ヘッドの主磁極16と磁束リターンヨークとし
て機能する磁性基板11との磁路に利用することで、該
媒体の磁化記録層に対して乗直方向に高密度な磁気記録
・再生を可能にしている。
また、前記媒体対向面19における講l2に埋設された
非磁性絶縁材13と接する磁性基板l1の端面が傾斜さ
れ、該磁性基板11の霜出而と非磁性絶縁材13と接す
る面との縁端部のエッジが鈍角とされているので、対向
する媒体からの磁束の集中を低減し、磁束集中に起因す
るエッジノイズ(再生波形歪)の発生を防止している。
非磁性絶縁材13と接する磁性基板l1の端面が傾斜さ
れ、該磁性基板11の霜出而と非磁性絶縁材13と接す
る面との縁端部のエッジが鈍角とされているので、対向
する媒体からの磁束の集中を低減し、磁束集中に起因す
るエッジノイズ(再生波形歪)の発生を防止している。
ところで上記したような垂直記録用薄膜磁気ヘッドは、
単磁極型であるためと、該磁気ヘッドと組合わせて用い
る前述した二層1模構造の垂直磁気記録媒体における軟
磁性層の存在等に起因して、磁気ディスク装置等の装置
内の媒体駆動用モータ一やヘッド駆動用ボイスコイルモ
ーター等の磁気的な機構部からの漏洩磁界の影響を受け
易く、また構造的にも第6図の主磁極先端部16aが露
出する媒体対向面で示されるように、前記主磁極16と
磁気シールドとして機能する磁性基板1lとの間隔が大
きく離れているため、前記磁性基板11が主磁極16に
対する上述した漏浅磁界をシールドする効果が十分に発
揮されないので、前述した漏洩磁界は例えば垂直磁気記
録媒体における軟磁性層に吸収され、該軟磁性層に吸収
された漏洩磁界が該媒体面と対向する前記磁気ヘッドの
主磁極I6の先端部16aに集中するため、該主班極1
6が媒体を磁化させる程度に励磁され、それにより前記
媒体上の情報を減磁させて劣化させたり、また最悪な場
合には消去してしまうといった問題があった。
単磁極型であるためと、該磁気ヘッドと組合わせて用い
る前述した二層1模構造の垂直磁気記録媒体における軟
磁性層の存在等に起因して、磁気ディスク装置等の装置
内の媒体駆動用モータ一やヘッド駆動用ボイスコイルモ
ーター等の磁気的な機構部からの漏洩磁界の影響を受け
易く、また構造的にも第6図の主磁極先端部16aが露
出する媒体対向面で示されるように、前記主磁極16と
磁気シールドとして機能する磁性基板1lとの間隔が大
きく離れているため、前記磁性基板11が主磁極16に
対する上述した漏浅磁界をシールドする効果が十分に発
揮されないので、前述した漏洩磁界は例えば垂直磁気記
録媒体における軟磁性層に吸収され、該軟磁性層に吸収
された漏洩磁界が該媒体面と対向する前記磁気ヘッドの
主磁極I6の先端部16aに集中するため、該主班極1
6が媒体を磁化させる程度に励磁され、それにより前記
媒体上の情報を減磁させて劣化させたり、また最悪な場
合には消去してしまうといった問題があった。
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、磁性基板の主磁
極配設領域の構造を改良して、主磁極先端部へ集中する
外部漏洩磁界に対するシールド効果を高めた新規な垂直
記録用薄膜磁気ヘットの製造方法を提供することを目的
とするものである。
極配設領域の構造を改良して、主磁極先端部へ集中する
外部漏洩磁界に対するシールド効果を高めた新規な垂直
記録用薄膜磁気ヘットの製造方法を提供することを目的
とするものである。
本発明は上記した目的を達成するため、磁性基板上にV
字状の底面を持つ溝と、ilv字状溝の長手方向と直交
する方向に該■字状溝より浅く、かつ平らな底面を有す
る切り欠き部とを設け、該V字状溝及び切り欠き部に非
磁性絶縁材を充填した後、該切り欠き部を覆うように層
間絶縁層、薄膜コイル、眉間絶縁層を順次形成し、更に
記録再生用の主磁極を、前記層間絶縁層上を含めて後端
部は前記磁性基板面上に、先端部は前記V字状構内の非
磁性絶縁材面上にそれぞれ延在するように形成し、該主
磁極の先端部を前記V字状講の切り欠き部に近い側の傾
斜面上で該溝の長手方同に沿って磁性基板と共に切除す
る工程によって構或する9〔作 用〕 本発明の製造方法により得られた垂直記録用薄収磁気ヘ
ッドでは、主るn極の基板対向面及びその両側面が、埋
設された非6a性絶縁材を介して磁気シールドとして機
能する磁性基板により取り囲むよう配置した構造とされ
ているため、主磁極に対する外部漏洩磁界のシールド効
果が高められる。
字状の底面を持つ溝と、ilv字状溝の長手方向と直交
する方向に該■字状溝より浅く、かつ平らな底面を有す
る切り欠き部とを設け、該V字状溝及び切り欠き部に非
磁性絶縁材を充填した後、該切り欠き部を覆うように層
間絶縁層、薄膜コイル、眉間絶縁層を順次形成し、更に
記録再生用の主磁極を、前記層間絶縁層上を含めて後端
部は前記磁性基板面上に、先端部は前記V字状構内の非
磁性絶縁材面上にそれぞれ延在するように形成し、該主
磁極の先端部を前記V字状講の切り欠き部に近い側の傾
斜面上で該溝の長手方同に沿って磁性基板と共に切除す
る工程によって構或する9〔作 用〕 本発明の製造方法により得られた垂直記録用薄収磁気ヘ
ッドでは、主るn極の基板対向面及びその両側面が、埋
設された非6a性絶縁材を介して磁気シールドとして機
能する磁性基板により取り囲むよう配置した構造とされ
ているため、主磁極に対する外部漏洩磁界のシールド効
果が高められる。
その結果、既に記録がなされた媒体に対する磁化情報の
減磁、或いは消去等が防止され、安定な再生出力特性が
得られ、信頼性が向上する。
減磁、或いは消去等が防止され、安定な再生出力特性が
得られ、信頼性が向上する。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第l図及び第2図は本発明に係る垂直記録用薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法の一実施例を説明するための図であり、
第1図は非磁性絶縁材を埋設した磁性基板と主磁極との
関係を示す要部平面図、第2図は第1図に示すB−B″
切断線に沿った断面図である。
ッドの製造方法の一実施例を説明するための図であり、
第1図は非磁性絶縁材を埋設した磁性基板と主磁極との
関係を示す要部平面図、第2図は第1図に示すB−B″
切断線に沿った断面図である。
なお、これらの各図において第4図及び第5図と同等部
分には同一符号を付している。
分には同一符号を付している。
これらの図で示すように実施例では、スライダとなるN
i−Zn, Mn−Znなどのフエライトからなる磁性
基板11上の主磁極16配設領域に、■字状の底面?1
aを持つ/#21と、該V字状溝21の長手方向と直交
する方向に該■字状溝21より浅い平らな底面を有し、
かつ主磁極16よりも狭い幅の切り欠き部22とを、例
えば機械的な研削加工により形戒し、該■字状?r!#
21及び切り欠き部22内にガラス、SiO■、或いは
^l203などからなる非磁性絶縁材13を加熱溶融法
、或いはスパッタリング法等により理設する。
i−Zn, Mn−Znなどのフエライトからなる磁性
基板11上の主磁極16配設領域に、■字状の底面?1
aを持つ/#21と、該V字状溝21の長手方向と直交
する方向に該■字状溝21より浅い平らな底面を有し、
かつ主磁極16よりも狭い幅の切り欠き部22とを、例
えば機械的な研削加工により形戒し、該■字状?r!#
21及び切り欠き部22内にガラス、SiO■、或いは
^l203などからなる非磁性絶縁材13を加熱溶融法
、或いはスパッタリング法等により理設する。
次にかかる磁性基板tiにおける非磁性絶縁材13が埋
設された切り欠き部22上に、図示のように熱硬化性絶
縁樹脂材等からなる層間絶縁層14aを介して渦巻状等
からなる薄膜コイル15、層間絶縁層14bを順に被着
形成し、この層間絶縁層14b上に、例,jば0.3〜
0.5μmの膜厚のアモルファスCo−Zr系の磁性薄
膜からなる主磁極16が、その先端部16aは前記v字
状溝21内に埋設した非磁性絶縁材13面上に、その後
端部16bは前記磁性基板11面上にそれぞれ延在する
ように形成する。
設された切り欠き部22上に、図示のように熱硬化性絶
縁樹脂材等からなる層間絶縁層14aを介して渦巻状等
からなる薄膜コイル15、層間絶縁層14bを順に被着
形成し、この層間絶縁層14b上に、例,jば0.3〜
0.5μmの膜厚のアモルファスCo−Zr系の磁性薄
膜からなる主磁極16が、その先端部16aは前記v字
状溝21内に埋設した非磁性絶縁材13面上に、その後
端部16bは前記磁性基板11面上にそれぞれ延在する
ように形成する。
しかる後、該主磁極16上の先端部16aを除く領域に
、従来と同様にNi−Feからなる盛り上げ磁性層l7
を積層形成し、その主磁極先端部16aを含む盛り上げ
磁性層l7上にA N 203などからなる保護膜l8
を被着形戒する。
、従来と同様にNi−Feからなる盛り上げ磁性層l7
を積層形成し、その主磁極先端部16aを含む盛り上げ
磁性層l7上にA N 203などからなる保護膜l8
を被着形戒する。
そしてかかるヘソド構戒基板を前記主磁極先端部16a
が露出するように、前記V字状溝21の切り欠き部22
に近い側の傾斜面上に対応する位置で該溝21の長手方
向に沿って切除し、媒体対向面l9を形戒することによ
って完威させる。
が露出するように、前記V字状溝21の切り欠き部22
に近い側の傾斜面上に対応する位置で該溝21の長手方
向に沿って切除し、媒体対向面l9を形戒することによ
って完威させる。
このような方法により構成された薄膜磁気ヘッドでは、
第l図及び第3図の主磁極先端部16aを媒体側から見
た媒体対向面で示されるように、前記主磁極16の先端
部16aを含む前半部分の基板対向面及び両側面が、埋
設された非磁性絶縁材13を介して磁気シールドとして
機能する前記磁性基板l1により取り囲まれた構成とさ
れているため、媒体側からの外部漏洩磁界が前記主磁極
16を取り囲む容量の大きい磁性基板11部分へ吸収さ
れて、該外部漏洩磁界の主磁極先端部16aへの集中が
低減されるので、従来の如き既に記録された媒体におけ
る磁化情報を滅磁、或いは消去する等の不測な事態の発
生を防止することができる。
第l図及び第3図の主磁極先端部16aを媒体側から見
た媒体対向面で示されるように、前記主磁極16の先端
部16aを含む前半部分の基板対向面及び両側面が、埋
設された非磁性絶縁材13を介して磁気シールドとして
機能する前記磁性基板l1により取り囲まれた構成とさ
れているため、媒体側からの外部漏洩磁界が前記主磁極
16を取り囲む容量の大きい磁性基板11部分へ吸収さ
れて、該外部漏洩磁界の主磁極先端部16aへの集中が
低減されるので、従来の如き既に記録された媒体におけ
る磁化情報を滅磁、或いは消去する等の不測な事態の発
生を防止することができる。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直記録
用薄膜磁気ヘソドの製造方法によれば、媒体対向面にお
いて、主磁極を取り囲むように磁気抵抗の低い磁性部材
、即ち磁性基板が配置された構造とされているので、主
磁極に対する外部漏洩磁界のシールド効果が著しく高め
られ、媒体に記録された磁化情報が減磁、或いは消去さ
れる問題が防止される等、信頼性が向上し、実用上優れ
た効果を奏する。
用薄膜磁気ヘソドの製造方法によれば、媒体対向面にお
いて、主磁極を取り囲むように磁気抵抗の低い磁性部材
、即ち磁性基板が配置された構造とされているので、主
磁極に対する外部漏洩磁界のシールド効果が著しく高め
られ、媒体に記録された磁化情報が減磁、或いは消去さ
れる問題が防止される等、信頼性が向上し、実用上優れ
た効果を奏する。
第l図は本発明に係る垂直記録用薄膜磁気ヘッドの製造
方法の一実施例を説明するた めの要部平面図、 第2図は第1図に示すB−B’切断線に沿った断面図、 第3図は本発明に係る垂直記録用薄膜磁気ヘフドの媒体
対向面における主磁極先端部 近傍を示す要部平面図、 第4図は従来の垂直記録用薄膜f1気ヘットの製造方法
を説明するための要部平面図、 第5図は第4図に示すA−A”切断線に沿った断面図、 第6図は従来の垂直記録用薄膜4fi気ヘッドの媒体対
向面における主磁極先端部近傍を 示す要部平面図である。 第l図〜第3図において、 11は磁性基板、13は非磁性絶縁材、14a,14b
は層間絶縁層、15は薄膜コイル、16は主6R極、1
6aは主磁極先端部、16bは主磁極後端部、l7は盛
り上げ磁性層、l8は保護膜、21はV字状溝、21a
はv字状底面、22は切り欠き部をそれぞれ示す。 Ill図 第2図 第3図
方法の一実施例を説明するた めの要部平面図、 第2図は第1図に示すB−B’切断線に沿った断面図、 第3図は本発明に係る垂直記録用薄膜磁気ヘフドの媒体
対向面における主磁極先端部 近傍を示す要部平面図、 第4図は従来の垂直記録用薄膜f1気ヘットの製造方法
を説明するための要部平面図、 第5図は第4図に示すA−A”切断線に沿った断面図、 第6図は従来の垂直記録用薄膜4fi気ヘッドの媒体対
向面における主磁極先端部近傍を 示す要部平面図である。 第l図〜第3図において、 11は磁性基板、13は非磁性絶縁材、14a,14b
は層間絶縁層、15は薄膜コイル、16は主6R極、1
6aは主磁極先端部、16bは主磁極後端部、l7は盛
り上げ磁性層、l8は保護膜、21はV字状溝、21a
はv字状底面、22は切り欠き部をそれぞれ示す。 Ill図 第2図 第3図
Claims (1)
- 磁性基板(11)上にV字状の底面を持つ溝(21)と
、該V字状溝(21)の長手方向と直交する方向に該V
字状溝(21)より浅く、かつ平らな底面を有する切り
欠き部(22)とを設け、該V字状溝(21)及び切り
欠き部(22)に非磁性絶縁材(13)を充填した後、
該切り欠き部(22)を覆うように層間絶縁層(14a
)、薄膜コイル(15)、層間絶縁層(14b)を順次
形成し、更に記録再生用の主磁極(16)を、前記層間
絶縁層(14b)上を含めて後端部は前記磁性基板(1
1)面上に、先端部は前記V字状溝(21)内の非磁性
絶縁材(13)面上にそれぞれ延在するように形成し、
該主磁極(16)の先端部(16a)を前記V字状溝(
21)の切り欠き部(22)に近い側の傾斜面上で該溝
(21)の長手方向に沿って磁性基板(11)と共に切
除する工程を含んでなることを特徴とする垂直記録用薄
膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15303989A JP2689613B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 垂直記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15303989A JP2689613B2 (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 垂直記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317807A true JPH0317807A (ja) | 1991-01-25 |
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