JPH03181438A - ４―イソプロピルシクロヘキサノンの製造方法 - Google Patents
４―イソプロピルシクロヘキサノンの製造方法Info
- Publication number
- JPH03181438A JPH03181438A JP1320126A JP32012689A JPH03181438A JP H03181438 A JPH03181438 A JP H03181438A JP 1320126 A JP1320126 A JP 1320126A JP 32012689 A JP32012689 A JP 32012689A JP H03181438 A JPH03181438 A JP H03181438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- isopropylcyclohexanone
- isopropylphenol
- reaction
- selectivity
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
皮果±旦祉里公立
本発明は、液相中、ｐ−イソプロピルフェノールを接触
還元する４−イソプロピルシクロヘキサノンの製造方法
に関する。
還元する４−イソプロピルシクロヘキサノンの製造方法
に関する。
丈来坐狡歪
４−イソプロピルシクロヘキサノンは、重合体や医薬品
、香料等の製造中間原料として重要である。
、香料等の製造中間原料として重要である。
従来、フェノールを気相で接触還元して、シクロヘキサ
ノンを製造する方法は、例えば、特開昭５０−１４９６
４９号公報、特開昭６２−１４４７４９号公報等に記載
されているように知られている。また、米国特許明細書
第３，０７６．８１０号には、フェノールを液相でパラ
ジウム触媒及びナトリウム化合物の存在下でｐＨを規制
して、接触的に水素還元して、シクロヘキサノンを製造
する方法が記載されているが、反応条件が？Ｊ雑であり
、特に、ｐＨ調整が容易ではない。
ノンを製造する方法は、例えば、特開昭５０−１４９６
４９号公報、特開昭６２−１４４７４９号公報等に記載
されているように知られている。また、米国特許明細書
第３，０７６．８１０号には、フェノールを液相でパラ
ジウム触媒及びナトリウム化合物の存在下でｐＨを規制
して、接触的に水素還元して、シクロヘキサノンを製造
する方法が記載されているが、反応条件が？Ｊ雑であり
、特に、ｐＨ調整が容易ではない。
他方、４−イソプロピルシクロヘキサノンについては、
従来、例えば、Ｊ、＾−，Ｃｈｅｗ、 Ｓｏｃ、＋ ｇ
３６４６ （１９７３）やＪ、 Ａｍ、 Ｃｈｅ＋ｗ、
Ｓｏｃ、＋ ９５＋ ７５９９（１９７２）に記載さ
れているように、１−アミノアポカンファンをｔｅｒｔ
、−ブチルハイポクロライドにて塩素化して、ｌ−Ｎ、
Ｎ−シクロロアミノアポカンファンを得た後、塩化アル
ミニウムと反応させ、酸で加水分解することによって製
造する方法が知られている。しかし、この方法は、原料
を低廉に入手することが困難であるうえに、反応条件が
厳しく、且つ、反応が複雑であって、副生物が多い。し
かも、工程数が多いので、工業的な製造方法としては、
採用し難い。
従来、例えば、Ｊ、＾−，Ｃｈｅｗ、 Ｓｏｃ、＋ ｇ
３６４６ （１９７３）やＪ、 Ａｍ、 Ｃｈｅ＋ｗ、
Ｓｏｃ、＋ ９５＋ ７５９９（１９７２）に記載さ
れているように、１−アミノアポカンファンをｔｅｒｔ
、−ブチルハイポクロライドにて塩素化して、ｌ−Ｎ、
Ｎ−シクロロアミノアポカンファンを得た後、塩化アル
ミニウムと反応させ、酸で加水分解することによって製
造する方法が知られている。しかし、この方法は、原料
を低廉に入手することが困難であるうえに、反応条件が
厳しく、且つ、反応が複雑であって、副生物が多い。し
かも、工程数が多いので、工業的な製造方法としては、
採用し難い。
また、特開昭５０−３０８１４号公報には、金触媒の存
在下に気相にて４−イソプロピルシクロヘキサノールを
酸素含有気体に接触させることによって、４−イソプロ
ピルシクロヘキサノンを得る方法が記載されている。し
かし、この方法も、原料を低廉に入手することが容易で
ない。
在下に気相にて４−イソプロピルシクロヘキサノールを
酸素含有気体に接触させることによって、４−イソプロ
ピルシクロヘキサノンを得る方法が記載されている。し
かし、この方法も、原料を低廉に入手することが容易で
ない。
ρ−クレゾールについては、■９８９年度触媒研究発表
会要旨集に記載されているように、これをシクロヘキサ
ン中にて水添して、４−メチルシクロヘキサノンを得る
ことが知られている。しかし、上記文献には、４−イソ
プロピルシクロヘキサノンの製造については、何ら検討
がなされていないし、また、本発明者らによれば、４−
イソプロピルフェノールをシクロヘキサン中にて水添し
ても、４−イソプロピルシクロヘキサノンを高転化率及
び高選択率にて得ることができないことを見出している
。
会要旨集に記載されているように、これをシクロヘキサ
ン中にて水添して、４−メチルシクロヘキサノンを得る
ことが知られている。しかし、上記文献には、４−イソ
プロピルシクロヘキサノンの製造については、何ら検討
がなされていないし、また、本発明者らによれば、４−
イソプロピルフェノールをシクロヘキサン中にて水添し
ても、４−イソプロピルシクロヘキサノンを高転化率及
び高選択率にて得ることができないことを見出している
。
Ｈ（° しよ゛と るｉ
本発明は、従来の４−イソプロピルシクロヘキサノンの
製造における上記した問題を解決するためになされたも
のであって、液相にて穏和な条件下にｐ−イソプロピル
フェノールを接触還元して、高転化率及び高選択率にて
４−イソプロピルシクロヘキサノンを製造する方法を提
供することを目的とする。
製造における上記した問題を解決するためになされたも
のであって、液相にて穏和な条件下にｐ−イソプロピル
フェノールを接触還元して、高転化率及び高選択率にて
４−イソプロピルシクロヘキサノンを製造する方法を提
供することを目的とする。
量 を ° るための
本発明による４−イソプロピルシクロヘキサノンの製造
方法は、アルキル置換芳香族炭化水素溶剤中、パラジウ
ム触媒の存在下に、ｐ−イソプロピルフェノールを水素
にて還元することを特徴とする。
方法は、アルキル置換芳香族炭化水素溶剤中、パラジウ
ム触媒の存在下に、ｐ−イソプロピルフェノールを水素
にて還元することを特徴とする。
本発明においては、触媒として、パラジウム触媒が用い
られる０通常、これらは、シリカ、アルミナ、活性炭、
グラファイト、ケイソウ土、軽石、テトラシリシックマ
イカ、ヘクトライト、テニオライト、モンモリロナイト
等を担体とし、これに担持させて用いられる。このよう
な担持触媒の具体例としては、例えば、パラジウム／活
性炭、パラジウム／シリカ、パラジウム／アル逅す、パ
ラジウム／テトラシリシックマイカ等を挙げることがで
きる。
られる０通常、これらは、シリカ、アルミナ、活性炭、
グラファイト、ケイソウ土、軽石、テトラシリシックマ
イカ、ヘクトライト、テニオライト、モンモリロナイト
等を担体とし、これに担持させて用いられる。このよう
な担持触媒の具体例としては、例えば、パラジウム／活
性炭、パラジウム／シリカ、パラジウム／アル逅す、パ
ラジウム／テトラシリシックマイカ等を挙げることがで
きる。
このような担持触媒において、パラジウムの担体への担
持量は、特に、限定されるものではないが、通常、担体
に対して、０．０１〜２０重量％の範囲であり、好まし
くは、０．１〜１０重量％の範囲である。
持量は、特に、限定されるものではないが、通常、担体
に対して、０．０１〜２０重量％の範囲であり、好まし
くは、０．１〜１０重量％の範囲である。
用いる触媒量は、担持触媒として、通常、ｐ −イソプ
ロピルフェノール１００重量部に対して、０．０１〜２
０重量部、好ましくは、０．５〜１０重量部の範囲であ
る。
ロピルフェノール１００重量部に対して、０．０１〜２
０重量部、好ましくは、０．５〜１０重量部の範囲であ
る。
本発明による方法において、ｐ−イソプロピルフェノー
ルの還元は、上記触媒の存在下に、アルキル置換芳香族
炭化水素溶剤中にて、水素を用いて行なわれる。上記ア
ルキル置換芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トル
エン、キシレン、メシチレン等や、これらの混合溶剤が
用いられる。
ルの還元は、上記触媒の存在下に、アルキル置換芳香族
炭化水素溶剤中にて、水素を用いて行なわれる。上記ア
ルキル置換芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トル
エン、キシレン、メシチレン等や、これらの混合溶剤が
用いられる。
これら溶剤は、通常、溶剤１ｍｌに対して、ｐ−イソプ
ロピルフェノール量が０．０ Ｏ５〜Ｉｇ、好ましくは
、０６０１〜０．５ ｇとなるように用いられる。
ロピルフェノール量が０．０ Ｏ５〜Ｉｇ、好ましくは
、０６０１〜０．５ ｇとなるように用いられる。
反応は、通常、常圧又は加圧水素雰囲気下で０〜２００
℃、好ましくは、常温乃至１８０ ’Ｃ程度の温度で行
なわれる。
℃、好ましくは、常温乃至１８０ ’Ｃ程度の温度で行
なわれる。
反応終了後、反応混合物から濾過等の適宜手段にて触媒
を分離した後、抽出、蒸留等の通常の手段によって、目
的物である４−イソプロピルシクロヘキサノンを得るこ
とができる。
を分離した後、抽出、蒸留等の通常の手段によって、目
的物である４−イソプロピルシクロヘキサノンを得るこ
とができる。
屍旦企匁且
以上のように、本発明の方法によれば、溶剤としてアル
キル置換芳香族炭化水素を用いて、ｐ−イソプロビルフ
ェノールを直接に接触還元することによって、高転化率
及び高選択率にて４−イソプロピルシクロヘキサノンを
得ることができ、しかも、原料であるｐ−イソプロピル
フェノールは入手が容易である。従って、本発明の方法
によれば、工業原料として重要な４−イソプロピルシク
ロヘキサノンを低廉に製造することができ、工業上、非
常に有利である。
キル置換芳香族炭化水素を用いて、ｐ−イソプロビルフ
ェノールを直接に接触還元することによって、高転化率
及び高選択率にて４−イソプロピルシクロヘキサノンを
得ることができ、しかも、原料であるｐ−イソプロピル
フェノールは入手が容易である。従って、本発明の方法
によれば、工業原料として重要な４−イソプロピルシク
ロヘキサノンを低廉に製造することができ、工業上、非
常に有利である。
１嵐明
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこ
れら実施例により何ら限定されるものではない。
れら実施例により何ら限定されるものではない。
実施例Ｉ
Ｐ−イソプロピルフェノール５．０ｇ、５％パラジウム
／活性炭０．５ｇ及びメシチレン３０ｍ１の混合物を加
熱還流させ、この混合物中に水素を５０ｍ１／分の速度
で３時間吹き込んだ。
／活性炭０．５ｇ及びメシチレン３０ｍ１の混合物を加
熱還流させ、この混合物中に水素を５０ｍ１／分の速度
で３時間吹き込んだ。
反応成績は、ｐ−イソプロピルフェノール転化率８１％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率９０％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率９０％であ
った。
実施例２
実施例１において、５％パラジウム／活性炭に代えて、
３％パラジウム／アルミナを用いた以外は、実施例１と
同様に反応を行なった。
３％パラジウム／アルミナを用いた以外は、実施例１と
同様に反応を行なった。
反応成績は、ｐ−イソプロピルフェノール転化率７８％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率８８％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率８８％であ
った。
実施例３
実施例１において、溶剤として、メシチレンに代えて、
キシレン３０ｍ１を用いた以外は、実施例１と同様に反
応を行なった。
キシレン３０ｍ１を用いた以外は、実施例１と同様に反
応を行なった。
反応成績は、ｐ−イソプロピルフェノール転化率７３％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率８５％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率８５％であ
った。
比較例１
実施例１において、溶剤として、メシチレンに代えて、
シクロヘキサン３０ｍ１を用いた以外は、実施例１と同
様に反応を行なった。
シクロヘキサン３０ｍ１を用いた以外は、実施例１と同
様に反応を行なった。
反応成績は、ｐ−イソプロピルフェノール転化率３８％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率５５％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率５５％であ
った。
比較例２
実施例１において、ｐ−イソプロピルフェノールに代え
て、ｐ−クレゾール５．０ｇを用いた以外は、実施例１
と同様に反応を行なった。
て、ｐ−クレゾール５．０ｇを用いた以外は、実施例１
と同様に反応を行なった。
反応成績は、ｐ−クレゾール転化率５５％、４−メチル
シクロヘキサノン選択率６０％であった。
シクロヘキサノン選択率６０％であった。
比較例３
実施例１において、溶剤として、メシチレンに代えて、
ベンゼン３０ｍ１を用いた以外は、実施例１と同様に反
応を行なった。
ベンゼン３０ｍ１を用いた以外は、実施例１と同様に反
応を行なった。
反応成績は、ｐ−イソプロピルフェノール転化率４０％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率６０％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率６０％であ
った。
比較例４
実施例１において、溶剤としてメシチレンに代えて、メ
タノール３０ｎｌを用いた以外は、実施例１と同様に反
応を行なった。
タノール３０ｎｌを用いた以外は、実施例１と同様に反
応を行なった。
反応成績は、ｐ−イソプロピルフェノール転化率１５％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率１８％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率１８％であ
った。
比較例５
実施例１において、５％パラジウム／活性炭に代えて、
酸化白金（ｐｔｏ□）０．３ｇを用いた以外は、実施例
１と同様に反応を行なった。
酸化白金（ｐｔｏ□）０．３ｇを用いた以外は、実施例
１と同様に反応を行なった。
反応成績は、Ｐ−イソプロピルフェノール転化率６４％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率２８％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率２８％であ
った。
尚、この反応においては、４−イソプルピルシクロヘキ
サノンが更に還元されたｐ−イソプロピルシクロヘキサ
ノールが選択率５２％にて生成していることが認められ
た。
サノンが更に還元されたｐ−イソプロピルシクロヘキサ
ノールが選択率５２％にて生成していることが認められ
た。
比較例６
実施例１において、５％パラジウム／活性炭に代えて、
２％イリジウム／シリカ０．３ｇを用いた以外は、実施
例１と同様に反応を行なった。
２％イリジウム／シリカ０．３ｇを用いた以外は、実施
例１と同様に反応を行なった。
反応成績は、Ｐ−イソプロピルフェノール転化率５８％
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率２１％であ
った。
、４−イソプロピルシクロヘキサノン選択率２１％であ
った。
尚、この反応においては、４−イソプロピルシクロヘキ
サノンが更に還元されたｐ−イソプロピルシクロヘキサ
ノールが選択率６４％にて生成していることが認められ
た。
サノンが更に還元されたｐ−イソプロピルシクロヘキサ
ノールが選択率６４％にて生成していることが認められ
た。
Claims (1)
- （１）アルキル置換芳香族炭化水素溶剤中、パラジウム
触媒の存在下に、ｐ−イソプロピルフェノールを水素に
て還元することを特徴とする４−イソプロピルシクロヘ
キサノンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1320126A JPH03181438A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | ４―イソプロピルシクロヘキサノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1320126A JPH03181438A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | ４―イソプロピルシクロヘキサノンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03181438A true JPH03181438A (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=18117992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1320126A Pending JPH03181438A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | ４―イソプロピルシクロヘキサノンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03181438A (ja) |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP1320126A patent/JPH03181438A/ja active Pending
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