JPH03181455A - 4―ハロゲノチオフェノールの製造方法 - Google Patents

4―ハロゲノチオフェノールの製造方法

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JPH03181455A
JPH03181455A JP32114389A JP32114389A JPH03181455A JP H03181455 A JPH03181455 A JP H03181455A JP 32114389 A JP32114389 A JP 32114389A JP 32114389 A JP32114389 A JP 32114389A JP H03181455 A JPH03181455 A JP H03181455A
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Katsuya Kaneda
金田 克哉
Sakae Kajiwara
梶原 栄
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Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd
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    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/09Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、医薬、農薬などの原料や、染料の中間体とし
て有用な4−ハロゲノチオフェノールの製造方法に関す
る。さらに詳しくは、異性体である2−ハロゲノチオフ
ェノールをほとんど含まない高純度の4−ハロゲノチオ
フェノールの製造方法に関する。
(従来の技術および解決すべき課題) 4−ハロゲノチオフェノールを医薬品用原料として用い
るためには、不純物をほとんど含まない高純度のものが
要求される。
しかしながらモノクロロベンゼンやモノブロムベンゼン
等のハロゲノベンゼンをクロルスルホン酸等のスルホン
化剤でスルホン化し、次いで塩化チオニル等の塩素化剤
を用いて塩素化して得られた4−ハロゲノベンゼンスル
ホニルクロリドには、不純物として異性体である2−ハ
ロゲノベンゼンスルホニルクロリドが通常1〜3%含ま
れている。
この異性体を含む4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロ
リドを亜鉛および/または錫と鉱酸で還元する場合には
、異性体も同様に還元されてしまい、還元して得られる
4−ハロゲノチオフェノールと2−ハロゲノチオフェノ
ールとを分離することは、極めて困難である。例えば、
4−クロロチオフェノールと2−クロロチオフェノール
とでは、両者は、沸点が205〜207℃、205〜2
06℃と近似しておりこれを蒸留し、分離することは極
めて困難である。
再結晶による4−クロロチオフェノールと2クロロチオ
フエノールの分離精製は、一般によく用いられる方法で
あるが、溶媒へのロスがあり有利な方法とは言えない。
また製品の酸化による純度低下を防ぐため濾過、乾燥な
どは、不活性ガス雰囲気下で行わなければならない。4
−クロロチオフェノールの場合には、融点が52〜53
℃であり乾燥時に高い温度にすることができないため溶
媒を除去するのに長時間を要するなど工業的に有利では
ない。
これらのことから不純物として異性体をほとんど含まな
い4−ハロゲノチオフェノールを得るためには、その前
段階である還元反応に際し、原料である4−ハロゲノベ
ンゼンスルホニルクロリドとして異性体を含まないもの
を用いるのが得策である。
4−ハa)fノベンゼンスルホニルクロリドの精製方法
としては従来より、4−ハロゲノベンゼンスルホニルク
ロリドを含む反応液を水中に添加し、4−ハロゲノベン
ゼンスルホニルクロリドを晶析させる方法が知られてい
る。しかし、この方法では、未反応のスルホン酸および
過剰の塩素化剤、スルホン化剤等は、除去できるが、異
性体の除去はほとんど不可能である。また、これらを蒸
留によって分離精製することは、両者の沸点か近似して
いるために非常に困難である。
このような状況に鑑み、本発明者らは従来法の欠点を改
良し、異性体である2−ハロゲノチオフェノールをほと
んど含まない4−ハロゲノチオフェノールを高収率で製
造する方法について鋭意検討した。その結果、4−ハロ
ゲノベンゼンスルホニルクロリドを含む反応溶液を水た
けでなく有機溶剤を加えた混合溶夜中に添加し、晶析さ
せ、これを、濾取すれば、異性体である2−ハロゲノベ
ンゼンスルホニルクロリドの含量を著しく減少させるこ
とができ、これを還元すれば、2−ハロゲノチオフェノ
ールをほとんど含まない4−ハロゲノチオフェノールを
高収率で製造することかできることを見出し本発明に至
った。
(課題を解決するための手段) 本発明は、ハロゲノベンゼンをスルホン化して4−ハロ
ゲンベンゼンスルホン酸とし、続いて塩素化して4−ハ
ロゲノベンゼンスルホニルクロリドとなし、亜鉛および
/または錫と鉱酸で還元して4−ハロゲノチオフェノー
ルを得るに際し、4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロ
リドを含む反応液を水および有機溶剤の混合液中に添加
し、晶析させ、濾取した後、亜鉛および/または錫と鉱
酸で還元することを特徴とする高純度4−ハロゲノチオ
フェノールの製造方法を提供するものである。
4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドを含む反応液
を水中に添加しても、結晶は析出するが、この場合には
、粘性を有する凝集しやすい物となり、濾過性が悪く、
洗浄しても異性体の含量を減少させる効果は少ない。
本発明では4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドを
含む反応液を水および有機溶剤の混合液中に添加するこ
とにより濾過性のよい結晶が得られるため、異性体の含
量の少ない4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドの
結晶が得られる。このようにして得られた4−ハロゲノ
ベンゼンスルホニルクロリドを還元することにより異性
体の2−ハロゲノチオフェノールの含量が極めて少ない
4−ハロゲノチオフェノールを得ることが可能となる。
有機溶剤としては、4−ハロゲノベンゼンスルホニルク
ロリドと反応しない有機溶剤は何でも使用することがで
きる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール
等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベン
ゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素等が用いられる。と
りわけ、メタノール、エタノール、プロパノール等のア
ルコール類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素を
用いた場合に、異性体の除去効果が大きく、回収率が高
く好結果が得られる。
水と有機溶剤との混合B液に4−ハロゲノベンゼンスル
ホニルクロリドを含む反応溶液を添加するときの温度は
、0〜30℃が好ましく、特に5〜15℃が好ましい。
温度が30℃より高くなると4−ハロゲノベンゼンスル
ホニルクロリドが分解したり、濾液への溶解ロスか増加
するため回収率が低下する。
水と有機溶剤との混合割合は、水1重量部に対して有機
溶剤が0.1〜3,0重量部、好ましくは0.5〜2 
、 O重量部の割合で用いられる。O51重量部より少
ない場合には有機溶剤を混合する効果が得られず、3.
0重量部より多い場合には、不純物である2−ハロゲノ
ベンゼンスルホニルクロリドの含量は減少するが、目的
物である4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドの溶
酸への溶解が多くなり、収量が低下するので好ましくな
い。
4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドの純度および
収量について好ましい結果を得るためには、水と有機溶
剤との混合割合は、上記した範囲のものを用いることが
必要である。
析出した4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドは、
濾過性が良好であり、洗浄後乾燥せずに次工程の還元反
応に供することができる。
還元反応は、塩酸または硫酸等鉱酸の存在下、亜鉛およ
び/または錫を用いて行われる。好ましくは塩酸の存在
下、亜鉛を用いて行われる。
亜鉛を使用する場合、その使用量は、理論量の1.05
倍で十分である。
還元反応は、通常、有機溶剤を添加して行われ、該有機
溶媒としては、トルエン、キシレン等芳香族炭化水素が
好適に用いられる。
還元反応終了後、有機層と水層とに分離し、有機層を希
酸で洗浄して未反応金属を除去する。
有機層を水洗した後、蒸留することにより、不純物とし
て存在する2−ハロゲノチオフェノール以外の4.4゛
−ジハロゲノジフェニルスルホン、4.4°−ジハロゲ
ノジフエニルジスルフィド等はそれらが高沸点であるた
め容易に分離することができ、純度が99.5%以上の
4−ハロゲノチオフェノールが得られる。
この様に、酸化されやすい4−ハロゲノチオフェノール
の精製のためには、晶析、濾過、洗浄等繁雑な操作を必
要とする再結晶によるよりも前記した蒸留による精製の
方が得策である。このとき、蒸留液中に異性体の2−ハ
ロゲノチオフェノールが混入している場合には両者の沸
点が近似しているため、これらを分離することは極めて
困難であるが、本発明の方法では混入する2−ハロゲノ
チオフェノールか極めて少ないため、容易に高純度の4
−ハロゲノチオフェノールを得ることが可能となる。
(実施例) 以下に実施例および比較例をあげて本発明を具体的に説
明するが、本発明は、これらにより限定されるものでは
ない。
製造例1 クロルスルホン酸652.0(5,6モル)に硫酸ナト
リウム32.89を添加し、50℃に昇温した。これに
モノクロロベンゼン450.49<4.0モル)を3時
間で滴下した。70℃まで1時間で昇温した後、塩化チ
オニル499.49(4,2モル)を3時間で滴下し、
同温度で1時間保持した。得られた4−クロロベンゼン
スルホニルクロリドを含む反応液1069.69を分割
して、以下の実施例1〜4および比較例1の原料液とし
て供した。
実施例1 製造例1においてl、0モルに相当する4−クロロベン
ゼンスルホニルクロリドを含む反応液267.49をメ
タノール240g、水160gの混合溶液に20分で滴
下した。この間、温度をl0℃に保った。同温度で2時
間撹拌した後、減圧濾過し、メタノール609および水
409の混合溶液で洗浄した。4−クロロベンゼンスル
ホニルクロリドの湿ケーキ219gをトルエン509お
よび濃塩酸6579(6,3モル)中に添加し、亜鉛1
96.29(3,0モル)を20℃から80℃に昇温し
ながら1時間で添加した。
85℃で2時間保持した後、トルエン150gを添加し
、30°Cに冷却した後、分離した。
トルエン層を10%塩酸100gで洗浄した後、水10
09で水洗し、有機層330.69を得た。
4−クロロチオフェノールの生成率は、90.8%で、
2−クロロチオフェノールの含量は、0.12%であっ
た。
有機層を減圧蒸留し、4−クロロチオフェノールとして
94〜97°C/ 15〜20mmHg℃の留分、12
7.19を得た。
有姿収率は87.9%(対クロロベンゼン)、純度は9
9.7%で、2−クロロチオフェノールの含量は001
2%であった。
実施例2 製造例1において0.5モルに相当する4−クロロベン
ゼンスルホニルクロリドを含む反応液133.79を2
−プロパノール809、水1209の混合溶液に15分
で滴下した。この間、温度を15℃に保った。同温度で
1時間45分撹拌した後、減圧濾過し、2−プロパノー
ル20gおよび水30gの混合溶液で洗浄した。
4−クロロベンゼンスルホニルクロリドの湿ケーキ11
3.59をトルエン259および濃塩酸3349(3,
2モル)中に添加し、亜鉛98.NF(1,5モル)を
、20℃から80°Cに昇温しながら30分で添加した
。85℃で1時間30分保持した後、トルエン1009
を添加し、30℃に冷却し、ついで、分液した。
トルエン層を10%塩酸509で洗浄し、さらに水50
gで洗浄して有機層186.79を得た。
4−クロロチオフェノールの生成率は88.3%であり
、2−クロロチオフェノールの含量は0.11%であっ
た。有機層を実施例1と同様に蒸留し、純度99.8%
の4−クロロチオフェノール62.09を得た。クロロ
ベンゼンに対する収率は858%であり、0.11%の
2−クロロチオフェノールを含んでいた。
実施例3 製造例1で得た4−クロロベンゼンスルホニルクロリド
を含む反応1ff1267.49をn−ヘキサン200
gおよび水2009の混合溶液中に30分で滴下した。
この間、温度を100cに保った。同温度で1時間30
分撹拌した後、減圧濾過し、n −ヘキサン50gおよ
び水509で洗浄し、湿ケーキ177.0gを得た。以
下、実施例1と同様にトルエンおよび濃塩酸中に添加し
、還元反応を行った。
4−クロロチオフェノールの生成率は86.9%で、2
−クロロチオフェノールの含量は0.04%であった。
実施例1と同様に蒸留し、純度99.8%の4−クロロ
チオフェノール122.6gを得た。クロロベンゼンに
対する収率は84.8%であり、0.04%の2−クロ
ロチオフェノールを含んでいた。
実施例4 製造例1で得た4−クロロベンゼンスルホニルクロリド
を含む反応液133.79をジオキサン809および水
120gの混合溶液中に15分で滴下した。この間、温
度を5℃に保った。同温度で1時間45分撹拌した後、
減圧濾過し、ジオキサン259および水259で洗浄し
、湿ケーキ93.99を得た。
以下、実施例2と同様にトルエンおよび譜塩酸中に添加
し、還元反応を行った。
4−クロロチオフェノールの生成率は87.5%で、2
−クロロチオフェノールの含量は0.18%であった。
実施例2と同様に蒸留し、純度99.6%の4−クロロ
チオフェノール61.59を得た。
クロロベンゼンに対する収率は85.1%であり、0.
18%の2−クロロチオフェノールを含んでいた。
比較例1 製造例1において0.5モルに相当する4−クロロベン
ゼンスルホニルクロリドを含む反応液133.79を水
2009中に20分で滴下した。
この間、温度を15℃に保った。同温度で1時間45分
間撹拌し、減圧濾過し、水50gで洗浄した。得られた
湿ケーキI 18.2gをトルエン25V、濃塩酸31
3g(3,0モル)中に添加し、亜鉛98.19(1,
5モル)を20℃から80℃に昇温しながら、1時間で
添加した。85℃で2時間保持した後、トルエン100
9を添加し、30℃に冷却し、ついで、分液した。トル
エン層を10%塩酸50gで洗浄した後、水50gで水
洗して有機層188.59を得た。4−クロロチオフェ
ノールの生成収率は88.1%で、2−クロロチオフェ
ノールの含量は0.92%であった。実施例2と同様に
蒸留し4−クロロチオフェノール61.4gを得た。有
姿収率は84.9%(対モノクロロベンゼン)、純度は
98.9%で、2−クロロチオフェノールを0.93%
含んでいた。
製造例2 クロルスルホン酸326.3y(2,8モル)に無水硫
酸ナトリウム16.49を添加し、50℃に昇温した。
これにモツプロムベンゼン314.0g(2,0モル)
を3時間かけて滴下した。同温度で30分保持した後8
0℃に昇温し、塩化チオニル249.89(2,1モル
)を3時間で滴下した。滴下後、同温度で1時間保持し
、4−ブロムベンゼンスルホニルクロリドを含む反応液
622.09を得た。この反応液を分割して以下の実施
例5および比較例2の原料液に供した。
実施例5 製造例2の反応液において1.0モルに相当する4−ブ
ロムベンゼンスルホニルクロリドを含む反応液311.
09をメタノール200gおよび水2009の混合溶液
に15分で滴下した。この間、温度を15°Cに保った
。同温度で、1時間45分撹拌した後、減圧濾過し、メ
タノール509および水50gの混合溶液で洗浄した。
4−ブロムベンゼンスルホニルクロリドの湿ケーキ26
3.09をトルエン509およびa塩酸6899(6,
6モル)中に添加し、亜鉛206.09(3,15モル
)を20℃から80℃に昇温しながら1時間で添加した
。85℃で1時間保持した後、トルエン4007を加え
、30℃に冷却し、ついで、分液した。トルエン層を1
0%塩酸1009で洗浄し、さらに水1009で洗浄し
て有機層618.4gを得た。4−ブロムチオフェノー
ルの生成収率は91.0%、2−ブロムチオフェノール
の含量は0.11%であった。有機層を蒸留A−一・ツ
’ml、−1−−j−q+ノー++、+QQQo九偵た
。有姿収率は88.1%(対ブロムベンゼン)、純度9
9.7%で、2−ブロムチオフェノールを0.11%含
んでいた。
比較例2 実施例5と同様に製造PJ2で得た4−ブロムベンゼン
スルホニルクロリドを含む反応液311.09をトルエ
ン50gおよび濃塩酸689g(6,6モル)中に添加
し、20℃から80℃に昇温しながら亜鉛235.4f
(3,6モル)を添加した。添加に要した時間は1時間
であった。85℃で1時間保持した後、トルエン400
gを加え、30’Cに冷却して分液した。トルエン層を
10%塩酸で洗浄した後、水!00?で洗浄し、有機層
612.62を得た。4−ブロムチオフェノールの生成
収率は88.1%、2−ブロムチオフェノールの含量は
0.76%であった。有機層を実施例5と同様に蒸留し
、4−ブロムチオフェノール163.79を有姿収率8
6.6%(対ブロムベンゼン)で得た。
純度は98.2%で0.96%の2−プロムチオフェ)
++Iえb!哨りふ、−−)イム− を除去するため同量のヘキサンを用いて再結晶を行った
ところ2−ブロムチオフェノールの含量は0.21%に
減少したが、回収率は82%であった。
(発明の効果) 本発明によれば、4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロ
リドを含む反応液を水および有機溶媒の混合溶液に添加
し、晶析させ、これを濾取することにより異性体の2−
ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドを除去することが
容易に出来、異性体をほとんど含まない4−ハロゲノベ
ンゼンスルホニルクロリドを得ることができる。ついで
、これを還元することにより、通常の方法では分離困難
な2−ハロゲノチオフェノールの含量が極めて少ない4
−ハロゲノチオフェノールをこれまでに無い高収率で得
ることができる。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ハロゲノベンゼンからスルホン化および塩素化に
    より誘導した4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリド
    を亜鉛および/または錫と鉱酸とで還元して4−ハロゲ
    ノチオフェノールを得るに際し、4−ハロゲノベンゼン
    スルホニルクロリドを含む反応液を水および有機溶剤の
    混合液中に添加し、晶析させ、濾取した後、亜鉛および
    /または錫と鉱酸とで還元することを特徴とする4−ハ
    ロゲノチオフェノールの製造方法。
  2. (2)水および有機溶剤の混合液における混合割合が水
    1重量部に対して有機溶剤が0.1〜3.0重量部であ
    る請求項(1)記載の方法。
  3. (3)有機溶剤がアルコール類である請求項(1)記載
    の方法。
  4. (4)アルコール類がメタノール、エタノール、プロパ
    ノールからなる群から選ばれたものである請求項(3)
    記載の方法。
  5. (5)有機溶剤が脂肪族炭化水素類である請求項(1)
    記載の方法。
  6. (6)脂肪族炭化水素類がヘキサンまたはヘプタンであ
    る請求項(5)記載の方法。
  7. (7)有機溶剤がエーテル類である請求項(1)記載の
    方法。
  8. (8)エーテル類がジオキサンである請求項(7)記載
    の方法。
  9. (9)ハロゲノベンゼンがモノクロロベンゼンである請
    求項(1)記載の方法。
  10. (10)ハロゲノベンゼンがモノブロムベンゼンである
    請求項(1)記載の方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2001070680A1 (en) * 2000-03-21 2001-09-27 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Process for producing 4-bromothioanisole

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001070680A1 (en) * 2000-03-21 2001-09-27 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Process for producing 4-bromothioanisole
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