JPH03181903A - カラーフイルタの製造方法 - Google Patents
カラーフイルタの製造方法Info
- Publication number
- JPH03181903A JPH03181903A JP1321893A JP32189389A JPH03181903A JP H03181903 A JPH03181903 A JP H03181903A JP 1321893 A JP1321893 A JP 1321893A JP 32189389 A JP32189389 A JP 32189389A JP H03181903 A JPH03181903 A JP H03181903A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light shielding
- shielding films
- patterns
- layer
- photosensitive resin
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は固体撮像素子に用いられるカラーフィルタの
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
第２図は例えば特開昭５７−１４８３６６号公報や特開
昭５７−１１７２７７号公報に開示されている従来のカ
ラーフィルタの構成を示すカラーフィルタ付固体撮像素
子の断面図である。同図に訃いて、１は表面部に固体撮
像素子が形成された半導体基板、２は黒色染色層、３は
カラーフィルタ層、１１は受光素子（画素）、１２はＡ
ｔなどからなる不透明遮光膜、３１，３２．３３は透明
樹脂層、３４は第１色目の染色層、３５は第２色目の染
色層である。
昭５７−１１７２７７号公報に開示されている従来のカ
ラーフィルタの構成を示すカラーフィルタ付固体撮像素
子の断面図である。同図に訃いて、１は表面部に固体撮
像素子が形成された半導体基板、２は黒色染色層、３は
カラーフィルタ層、１１は受光素子（画素）、１２はＡ
ｔなどからなる不透明遮光膜、３１，３２．３３は透明
樹脂層、３４は第１色目の染色層、３５は第２色目の染
色層である。
このように構成されるカラーフィルタは次のようにして
形成される。すなわち、筐ず、固体撮像素子が形成され
た半導体基板１上にセラチン等に重クロム酸アンモニウ
ム等の感光剤を添加した混合液を塗布し、写真製版技術
を用いて画素１１以外の遮光膜１２上にバターニングす
る。さらにこれを黒色染料に浸漬することによシ黒色染
色層２を形成する。次に透明樹脂層３１を塗布した後に
セラチン等に重クロム酸アンモニウム等の感光剤を添加
した混合液を塗布し、写真製版技術を用いて所望の位置
にパターニングする。さらにこれを所望の染料に浸漬す
ることによう第１色目の染色層３４を形成する。次に透
明樹脂層３２を塗布した後、第１色目と同様の手順を用
いて第２色目の染色層３５を形成する。最後に保護膜と
して透明樹脂層３３を塗布して完成される。
形成される。すなわち、筐ず、固体撮像素子が形成され
た半導体基板１上にセラチン等に重クロム酸アンモニウ
ム等の感光剤を添加した混合液を塗布し、写真製版技術
を用いて画素１１以外の遮光膜１２上にバターニングす
る。さらにこれを黒色染料に浸漬することによシ黒色染
色層２を形成する。次に透明樹脂層３１を塗布した後に
セラチン等に重クロム酸アンモニウム等の感光剤を添加
した混合液を塗布し、写真製版技術を用いて所望の位置
にパターニングする。さらにこれを所望の染料に浸漬す
ることによう第１色目の染色層３４を形成する。次に透
明樹脂層３２を塗布した後、第１色目と同様の手順を用
いて第２色目の染色層３５を形成する。最後に保護膜と
して透明樹脂層３３を塗布して完成される。
しかしながら、従来のカラーフィルタの製造方法による
と、黒色染色層２を形成する際、セラチン等に重クロム
酸アンモニウムを添加した混合液がネガ型感光性樹脂層
となっているため、Ａｔ等の高反射率の遮光膜１２上を
露光しなければならず、そのため、実際には露光した光
量ようもかなう多量の光をセラチン等が受けることにな
少、所望のパターンが得られないなどの問題があった。
と、黒色染色層２を形成する際、セラチン等に重クロム
酸アンモニウムを添加した混合液がネガ型感光性樹脂層
となっているため、Ａｔ等の高反射率の遮光膜１２上を
露光しなければならず、そのため、実際には露光した光
量ようもかなう多量の光をセラチン等が受けることにな
少、所望のパターンが得られないなどの問題があった。
このような課題を解決するためにこの発明は、遮光膜上
にポジ型感光性樹脂パターンを形成した後に所望のカラ
ーフィルタを形成するものである。
にポジ型感光性樹脂パターンを形成した後に所望のカラ
ーフィルタを形成するものである。
この発明におけるポジ型感光性樹脂はポジ型であるため
、遮光膜上にパターンを残す場合、遮光膜上を露光する
必要がないため、所望のパターンが得られる。また、黒
色染色層形成時には遮光膜からの反射光をポジ型感光性
樹脂層で吸収する。
、遮光膜上にパターンを残す場合、遮光膜上を露光する
必要がないため、所望のパターンが得られる。また、黒
色染色層形成時には遮光膜からの反射光をポジ型感光性
樹脂層で吸収する。
以下、図面を用いてこの発明の実施例を詳細に（３）
説明する。
第１図はこの発明によるカラーフィルタの製造方法の一
実施例を説明するためのカラーフィルタ付固体撮像素子
の断面図であシ、前述の図と同一部分には同一符号を付
しである。同図において、まず、表面に固体撮像素子と
しての画素１１およ゛び遮光膜１２が形成された半導体
基板１上に黒色染色層２のパターニング時に使用する光
の波長に吸収性を有するポジ型感光性樹脂を塗布した後
、遮光膜１２上以外の部分を露光し、除去することによ
シ、遮光膜１２上にポジ型感光性樹脂パターン２１を形
成する。次にセラチン、カゼインもしくはポリビニルア
ルコール等に重クロム酸アンモニウム等を添加して感光
性を付与した感光性混合溶液を塗布し、遮光膜１２上を
露光し、遮光膜１２上にパターンを形成し、さらにこの
パターンを黒色染料に浸漬することによυ、黒色染色層
２を形成する。次に透明樹脂層３１を塗布した後、セラ
チン、カゼインもしくはポリビニルアルコール等に重ク
ロム酸アンモニウム等を添加して感光性を（４） 付与した感光性混合溶液を塗布し、写真製版技術を用い
て所望の位置にバターニングし、さらにこれを所望の染
料に浸漬することにより第１色目の染色層３４を形成す
る。次に透明樹脂層３２を塗布した後、第１色目と同様
の手順を用いて第２色目の染色層３５を形成して完成す
る。
実施例を説明するためのカラーフィルタ付固体撮像素子
の断面図であシ、前述の図と同一部分には同一符号を付
しである。同図において、まず、表面に固体撮像素子と
しての画素１１およ゛び遮光膜１２が形成された半導体
基板１上に黒色染色層２のパターニング時に使用する光
の波長に吸収性を有するポジ型感光性樹脂を塗布した後
、遮光膜１２上以外の部分を露光し、除去することによ
シ、遮光膜１２上にポジ型感光性樹脂パターン２１を形
成する。次にセラチン、カゼインもしくはポリビニルア
ルコール等に重クロム酸アンモニウム等を添加して感光
性を付与した感光性混合溶液を塗布し、遮光膜１２上を
露光し、遮光膜１２上にパターンを形成し、さらにこの
パターンを黒色染料に浸漬することによυ、黒色染色層
２を形成する。次に透明樹脂層３１を塗布した後、セラ
チン、カゼインもしくはポリビニルアルコール等に重ク
ロム酸アンモニウム等を添加して感光性を（４） 付与した感光性混合溶液を塗布し、写真製版技術を用い
て所望の位置にバターニングし、さらにこれを所望の染
料に浸漬することにより第１色目の染色層３４を形成す
る。次に透明樹脂層３２を塗布した後、第１色目と同様
の手順を用いて第２色目の染色層３５を形成して完成す
る。
なお、前述した実施例では、ポジ型感光性樹脂パターン
２１上に黒色染色層２を形成した場合について説明した
が、黒色染色層２がなく、ポジ型感光性樹脂パターン２
１上に直接カラーフィルタ層３′を形成しても良い。こ
の場合は、第１色目の染色Ｍ３４および第２色目の染色
Ｊ１３５のパターン形状が遮光Ｊｉ１２からの反射光に
よって劣化するのを防ぐことができる。
２１上に黒色染色層２を形成した場合について説明した
が、黒色染色層２がなく、ポジ型感光性樹脂パターン２
１上に直接カラーフィルタ層３′を形成しても良い。こ
の場合は、第１色目の染色Ｍ３４および第２色目の染色
Ｊ１３５のパターン形状が遮光Ｊｉ１２からの反射光に
よって劣化するのを防ぐことができる。
また、ポジ型感光性樹脂パターン２１に所望の波長で吸
収性を有する吸収剤を添加することによって黒色染色層
２を形成しなくても同様の効果を得ることができる。
収性を有する吸収剤を添加することによって黒色染色層
２を形成しなくても同様の効果を得ることができる。
さらに、前述した実施例では、３層の染色Ｍ２゜３４．
３５と３眉の透明樹脂ＩｆｌＩ３１．３２．３３とを積
層させることによってカラーフィルタ層３′を構成した
場合について説明したが、カラーフィルタ層３／の構成
には粋に限定されることはない。
３５と３眉の透明樹脂ＩｆｌＩ３１．３２．３３とを積
層させることによってカラーフィルタ層３′を構成した
場合について説明したが、カラーフィルタ層３／の構成
には粋に限定されることはない。
また、ポジ型感光性樹脂パターン２１上に直接黒色染色
ＮＩ２を形成した場合について説明したが、ポジ型感光
性樹脂パターン２１上に透明樹脂層を形成した後、黒色
染色層２を形成しても良い。
ＮＩ２を形成した場合について説明したが、ポジ型感光
性樹脂パターン２１上に透明樹脂層を形成した後、黒色
染色層２を形成しても良い。
以上説明したように本発明によれば、遮光膜上に次層の
露光波長に吸収性を有するポジ型感光性樹脂パターンを
形成したので、次層の露光時に遮光膜からの反射光をポ
ジ型感光性樹脂パターンで吸収するため、遮光膜上でも
容易に所望のパターン形成ができるという極めて優れた
効果が得られる。
露光波長に吸収性を有するポジ型感光性樹脂パターンを
形成したので、次層の露光時に遮光膜からの反射光をポ
ジ型感光性樹脂パターンで吸収するため、遮光膜上でも
容易に所望のパターン形成ができるという極めて優れた
効果が得られる。
第１図はこの発明によるカラーフィルタの製造方法の一
実施例を説明するためのカラーフィルタ付固体撮像素子
の断面図、第２図は従来のカラーフィルタ付固体撮像素
子の断面図である。 １・・・・半導体基板、１１・・・・画素、１２・・・
・遮光膜、２・・・・黒色染色層、２１・・・・ポジ型
感光性樹脂パターン、３′・・・・カラーフィルタ層、
３１．３２，３３・・・・透明樹脂層、３４・・・・第
１色目の染色層、３５・・・・第２色目の染色層。
実施例を説明するためのカラーフィルタ付固体撮像素子
の断面図、第２図は従来のカラーフィルタ付固体撮像素
子の断面図である。 １・・・・半導体基板、１１・・・・画素、１２・・・
・遮光膜、２・・・・黒色染色層、２１・・・・ポジ型
感光性樹脂パターン、３′・・・・カラーフィルタ層、
３１．３２，３３・・・・透明樹脂層、３４・・・・第
１色目の染色層、３５・・・・第２色目の染色層。
Claims (1)
- 表面に画素および遮光膜を有する半導体基板の該遮光膜
上にポジ型感光性樹脂パターンを形成した後に所望のカ
ラーフィルタを形成することを特徴としたカラーフィル
タの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1321893A JPH03181903A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | カラーフイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1321893A JPH03181903A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | カラーフイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03181903A true JPH03181903A (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=18137579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1321893A Pending JPH03181903A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | カラーフイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03181903A (ja) |
-
1989
- 1989-12-12 JP JP1321893A patent/JPH03181903A/ja active Pending
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