JPH03183010A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とするディジタル
記録あるいは高密度記録に適する磁気記録媒体に関する
ものである。

［従来の技術］ 磁気記録媒体は、磁気テープや磁気ディスクなどの記録
媒体として広く使用されている。

ところで、金属薄膜を記録層とする磁気記録媒体におい
ては、様々な方法によりスチル耐久性、耐蝕性の向上が
続けられてきた。たとえば下記の手段が種々提案されて
いる。

■　磁性層上にカルボン酸系、リン系の潤滑層を設ける
。

■　非磁性金属の保護膜を設ける。

■　ＳｉＯ２膜を設ける。

■　磁性層に微細な突起を均一に設ける。

等を上げることができる。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、これら従来技術の方法でも今−歩スチル耐久性
、耐蝕性が改善されないのが現状であり、ディジタル記
録あるいは高密度記録において、今まで以上にスチル耐
久性、耐蝕性が要求されてきている。

本発明は上記課題を解決するため、強磁性金属薄膜上に
特定の含有比率を有する弗化炭素化合物を含有したダイ
ヤモンド状硬質炭素膜を設けることにより、スチル耐久
性、耐蝕性の優れた磁気記録媒体を提供するものである
。

［課題を解決するための手段］ 上記課題を解決するために本発明は下記の構成からなる
。すなわち本発明は、基板上に強磁性金属薄膜を設けた
磁気記録媒体において、前記強磁性金属薄膜上に弗化炭
素化合物を含有したダイヤモンド状硬質炭素膜を設け、
該ダイヤモンド状硬質炭素膜の弗化物の含有比率が成膜
始めを最大含有率αＭｗｔ％（ただしαＭは１０〜３０
の範囲）とし、成膜綿りを０ｗｔ％とする含有率分布を
もつ膜であることを特徴とする磁気記録媒体である。

［作用］ 上記構成を有する本発明によれば、強磁性金属薄膜上に
弗化炭素化合物を含有したダイヤモンド状硬質炭素膜（
以下ＤＬＣ膜という。）を設け、該ダイヤモンド状硬質
炭素膜の弗化物の含有比率が成膜始めを最大含有率αＭ
ｗｔ％（ただしαＭは１０〜３０の範囲）とし、成膜綿
りを０ｗｔ％とする含有率分布をもつ膜としたことによ
り、ビデオデツキ等のヘッドとの摺動に於いて実効的な
硬さが大きくなり、従来技術の磁気記録媒体に比べ、耐
久性、耐蝕性が向上する。

［実施例］ 以下本発明の実施例の磁気記録媒体について図面を参照
しながら説明する。

第１図は、本発明の磁気記録媒体の実施例の構成図を示
すものである。第１図に示すように４は、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェ
ニレンサルファイド、ポリイミド等からなるフィルム基
板である。そして、この基板上に、強磁性金属薄膜３を
形成し、この強磁性金属薄膜３上に、弗化炭素化合物を
含有したダイヤモンド状硬質炭素膜２を設け、該ダイヤ
モンド状硬質炭素膜２の弗化物の含有比率が成膜始めを
最大含有率αＭ（ただしαＭは１０〜３０ｗｔ％の範囲
）とし、成膜綿りをＯｗ　ｔ％とする含有率分布をもつ
膜である。前記弗化炭素化合物を含有したダイヤモンド
状硬質炭素膜２は、グラファイトをターゲットにして、
スパッタリングで膜を形成するか、弗素化合物を含む炭
化水素系気体の放電分離を利用して形成する。弗素化合
物を含有したＤＬＣ膜２を形成した後、潤滑層１を塗布
する一方、前記基板４の下面にはバックコート層５を形
成して、磁気記録媒体を構成したものである。

上記構成により、求められるスチル耐久性、耐蝕性の十
分な改善向上に有効である。

以下、更に具体的に本発明の実施例について説明する。

厚み１０μｍの平滑なポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に直径１５０ＡのＳｉｏ２微粒子を２０ケ／μポ
配し、その上に真空蒸着法により酸素を導入しながらＣ
ｏ　（８０）−Ｎｉ　　（２０）の強磁性金属薄膜を２
０００人の厚さに形成した後、カーボンブラックを周知
のコーティング法によりバックコート層を塗布したもの
を準備し、それぞれの実施例に用いた。

実施例１〜２ 第１図に示すように強磁性金属薄膜３上に、グラファイ
トをターゲットにし、ＡｒとＨ２の混合ガス（Ａ　ｒ　
：　Ｈ２＝１　：　３）　、真空度０．１〜１０（Ｔｏ
ｒｒ）、周波数１３．５６　（ＭＨｚ）、電力１．ＩＫ
Ｗのグロー放電中に、Ｃ２Ｆ４ガスを注入できる装置を
２〜５ケ用いて、ＤＬＣ膜中の弗化炭素化合物の含有比
率を、表面層は０ｗｔ％とし、膜中で含有比率を変化さ
せ、成膜初め部分の含有比率が最大αＭｗｔ％＝２０ｗ
ｔ％になるように形成した。ＤＬＣ膜２を５ＯＡ、１０
０人、１５０人の厚さにそれぞれ形威し、その上に潤滑
層１としてパーフロロカーボンを１００Ａの厚さに塗布
し、８ｍｍの幅に裁断した。

また、実施例の弗素化合物の含有比率のαＭｗｔ％＝２
０．３０ｗｔ％のものを実施例２とした。

比較例１ 強磁性金属薄膜層上に、グラファイトをターゲットにし
、ＡｒとＨ２の混合ガス（Ａ　ｒ　：　Ｈ２＝１＝３）
、真空度０．１〜１０（Ｔｏｒｒ）、周波数１３．５６
　（ＭＨｚ）　、電力１．　　ＩＫＷのグロー放電によ
り、弗化炭素化合物を含まないＤＬＣ膜を５ＯＡ、１０
０Ａ、１５０Ａの厚さにそれぞれ形成し、その上に潤滑
層としてパーフロロカ−ボンを１００Ａの厚さに塗布し
、８肛の幅に裁断した。

比較例２ 強磁性金属薄膜層上に、放電ガスとしてＣＨ４＋ＣＦ（
ＣＨ４：Ｃ２Ｆ４＝１０：１）、真８ 空席０．１　（Ｔｏｒｒ）　、周波数１３．５６（Ｍｉ
（ｚ）、電力２，２ＫＷのグロー放電により均一に弗素
化したＤＬＣ膜（弗素含有比率２０ｗｔ％）を５０Ａ、
１００人、１５０人の厚さにそれぞれ形成し、その上に
潤滑層としてパーフロロカーボンを１０ＯＡの厚さに塗
布し、８ｍｍの幅に裁断した。

比較例３ 強磁性金属薄膜層上に、潤滑層としてパーフロロカーボ
ンを１００人の厚さに塗布し、８ｍｍの幅に裁断した。

比較例４ 強磁性金属薄膜層上に、スパッタリング法を用いて、Ｓ
ｉＯ２膜を１５ＯＡの厚さに形成し、その上に潤滑層と
してパーフロロカーボンを１００人の厚さに塗布し、８
ｔＩｌＩ１１の幅に裁断した。

このようにして作成された実施例と比較例１゜２．３の
それぞれの８ミリビデオ用金属薄膜型テープを市販の８
ミリビデオ（ＡＶ−３００，ソニー■製）を用いて評価
した。なおスチル耐久性評価は加速するためテープテン
ションを２０ｇとし、温度２３℃、湿度１０％の特殊環
境でスチル再生を行ない、その時の再生出力が６ｄＢ低
下した時間を測定した。耐蝕性については、温度６０℃
、湿度８０％の環境で錆が発生するまでの時間を表現し
た。

その結果を第１表に示す。

第■表に示すように、スチル耐久性は比較例と比べ、実
施例は共に２〜１０倍以上の耐久性が得られた。

第１表に示す通り、実施例と比較例１，２と比較すると
、実施例１〜２は、３〜５倍以上の耐久性が得られた。

これは比較例１の場合では、表面の硬度は高いが全体に
硬度が高いため磁性層との付着強度が悪いため、又、比
較例２の場合では、表面の硬度が十分でないために、実
施例と比べ悪いことがわかる。比較例１，２の結果から
、表面層の硬度は同等でも最膜中の硬さと磁性層との付
着強度のバランスが必要であり、実施例の方が優れてい
る。

耐蝕性も比較例に比べ、実施例は１．１〜４倍以上の耐
蝕性が得られ、実施例の優れたスチル耐久性、耐蝕性を
確認し、今後の高記録密度に適することを確認した。

［発明の効果］ 以上のように本発明によって得られる磁気記録媒体は、
強磁性金属薄膜上にＤＬＣ膜を設け、該ダイヤモンド状
硬質炭素膜の弗化物の含有比率が戊膜始めを最大含有率
αＭｗｔ％（ただしαＭは１０〜３０の範囲）とし、成
膜終りを０ｗｔ％とする含有率分布をもつ膜としたので
、スチル耐久性を著しく向上させ、かつ耐蝕性も飛躍的
に伸ばすことができるという顕著な効果を達成すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気記録媒体の概略的な断面図で
ある。 １・・・潤滑層 ２・・・弗化物（０〜２０ｗｔ％）を含むＤＬＣ膜３・
・・強磁性金属薄膜層 ４・・・基板 ５・・・バックコート層 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に強磁性金属薄膜を設けた磁気記録媒体に
   おいて、前記強磁性金属薄膜上に弗化炭素化合物を含有
   したダイヤモンド状硬質炭素膜を設け、該ダイヤモンド
   状硬質炭素膜の弗化物の含有比率が成膜始めを最大含有
   率αＭ（ただしαＭは１０〜３０ｗｔ％の範囲）とし、
   成膜終りを０ｗｔ％とする含有率分布をもつ膜であるこ
   とを特徴とする磁気記録媒体。