JPH034967B2 - - Google Patents
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- JPH034967B2 JPH034967B2 JP56187591A JP18759181A JPH034967B2 JP H034967 B2 JPH034967 B2 JP H034967B2 JP 56187591 A JP56187591 A JP 56187591A JP 18759181 A JP18759181 A JP 18759181A JP H034967 B2 JPH034967 B2 JP H034967B2
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- Japan
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- magnetic
- thickness
- protective
- tape
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は磁気テープ、デイスク、カード等の磁
気記録媒体およびその製造方法に係わり、とりわ
け、強磁性金属層を磁気記録層とする媒体の改良
とその媒体の製造方法の提供を目的とする。 一般に磁気記録の分野で、短波長記録に強磁性
金属薄膜を磁気記録層として用いることの有用性
は良く知られている。 しかし、かかる媒体を実用レベルで利用する時
に最も大きな問題は、腐蝕、摩耗からいかに、強
磁性層を保護するかである。 従来この種の問題は、湿式めつき法、蒸着法の
いずれの方法で得た、強磁性膜についても共通し
た課題で、各方面で工夫がなされてきている。 基本的には、強磁性層の耐性の向上と、保護層
による弱点の補強である。 そこでCo−Ｐ、Co−Ni−Ｐのめつき膜、Co、
Co−Ni、Co−Cr等の蒸着膜の保護層として多く
の種類の材料が提案されている。例えば、Ni・
Ｗ合金（特開昭51−43110号公報）、Ni・Ｂ合金
（特開昭52−2405号公報）、Ni合金層を熱処理に
より硬度をあげたもの（特開昭51−102605号公
報）、Ni・Cr合金（特開昭53−73108号公報）等
の合金薄膜を保護層とするもの、酸化物炭化物
（特開昭50−104602号公報）、Si−Si酸化物（特開
昭52−127203号公報）、磁性層との間にCrを介し
てのSi−Si酸化物（特開昭52−127204号公報）、
窒化ケイ素化合物（特開昭55−73931号公報）、
Laの硼化物層（特開昭56−11626号公報）、飽和
脂肪酸の単分子層（特開昭50−7500号公報）、滑
性液体層中に酸化防止剤を含有させたもの（特開
昭51−20805号公報）等が提案されているが、こ
れらに共通した難点は、短波長記録に於けるスペ
ーシングロスの制約から前記保護層に厚みの制限
がある点である。 又もう一つの離点は、短波長記録に適合する基
板の表面（これは、ひいては蒸気層表面の特性に
そのまゝ反映する）が極めて平滑になることから
くる摩擦係数の増大である。 この二つの離点を補うものとしての保護層は、
民生用のVTRシステムに適合化させることを前
提とした場合、前記提案では不充分であつた。そ
れは、相対速度３ｍ／sec〜５ｍ／sec程度の高速
で回転する磁気ヘツドとの摺動に各種の実使用環
境化で長時間耐えなくてはならないからである。 本発明はかかる点に鑑みなされたもので、磁気
記録媒体の形態を問わず、耐蝕性、耐久性に優れ
た特性を示す保護層を有する媒体を提供し、かつ
それを製造する方法を提供しようとするものであ
る。本発明による磁気記録媒体の最小限の構成要
素は、非磁性基板と、強磁性金属層とその表面に
配した金属を含有するフツ化カーボン系の重合体
から成る保護層である。その他、基板の背面に配
した、例えば走行性を補助する層や、基板と強磁
性層の中間に配した非磁性層等の有無は、本発明
と直接的な関係を有していないので、他の目的か
ら自由に選択できる。従つて、製造方法について
も、少なくとも強磁性金属層を蒸着で得る工程
と、フツ化カーボン系のモノマーから出発して
Mo、Ｗ、Cr、Co、Ni等の金属をターゲツトと
しプラズマ重合させる工程とを有することを特徴
とし、媒体の構成により他の工程が付加されるこ
とは自由である。 以下に図面を用い本発明の実施例を説明する。 実施例 １ 基板としてのポリエチレンテエフタレートフイ
ルム（9.5μｍ厚、500mm幅）上にあらかじめ１×
10-5Torrまで排気した真空槽内に５×10-5Torr
になるように槽外部より強制的に酸素を導入し、
平均蒸着速度1300Å／secで、入射角40゜以上の蒸
気流でCo90％Ni10％の磁性層を0.13μｍの厚さに
形成し、磁気テープ原反を作成した。この原反を
別の真空槽で処理し、前記磁性槽上に金属を含有
するフツ化カーボン系の重合層を形成した。即
ち、99.99％純度のMoをターゲツトとし13.56M
Hzの高周波を前記ターゲツトに印加して、グロー
放電を発生させる。放電維持ガスはC2F4ガスで
圧力を検出して導入量を制御した。 第１図は本発明による磁気テープを示す。図に
おいて１は基板２上に形成された磁性層でその上
に重合層３が形成されている。 なお重合層の厚みは正確に測定することが困難
であるため、テープ出力により管理した。 実験結果を後出の第１表、第２表に示す。なお
ここで、第１表、第２表におけるテープＡは、
13.56MHz、350W、0.1TorrのC2F4プラズマに2.0
秒間さらした場合の重合層厚みをtoとすると、テ
ープＢは４秒間、テープＣは6.0秒間それぞれさ
らしたもので（プラズマの安定性と他の較正実験
より、時間比例した厚みを確認している）、この
場合、それぞれの重合層の厚みは2to、3toで、記
録波長0.8μｍでの再生出力は重合層なしのものに
くらべて、Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれで±0.3dB、±
0.3dB、±0.4dBでありスペース損失は無視できる
ものである。しかしこの程度の厚みであつても、
この保護層の保護効果は目をみはるものがあり第
１表、第２表に示すような有意差を確認できた。
なお従来例として、飽和脂肪酸の単分子層を形成
した場合、スパツタ法で窒化けい素膜を270Å形
成した場合とMoを含有しない重合膜（フツ素系
樹脂）の三例を採用した。前記各テープについて
以下のように２つの試験を行つた。 （試験１） 1/2テープをオープンリールに100ｍ巻き込み記
録波長0.8μの正弦波を記録し60℃90％RHの環境
に１、５、10の各週間放置後再生することで出力
減少と、目づまり頻度を比較した。なおテープ送
り速度は2.4cm／sec、相対速度は4.2ｍ／secであ
る。 試験結果を第１表に示す。
気記録媒体およびその製造方法に係わり、とりわ
け、強磁性金属層を磁気記録層とする媒体の改良
とその媒体の製造方法の提供を目的とする。 一般に磁気記録の分野で、短波長記録に強磁性
金属薄膜を磁気記録層として用いることの有用性
は良く知られている。 しかし、かかる媒体を実用レベルで利用する時
に最も大きな問題は、腐蝕、摩耗からいかに、強
磁性層を保護するかである。 従来この種の問題は、湿式めつき法、蒸着法の
いずれの方法で得た、強磁性膜についても共通し
た課題で、各方面で工夫がなされてきている。 基本的には、強磁性層の耐性の向上と、保護層
による弱点の補強である。 そこでCo−Ｐ、Co−Ni−Ｐのめつき膜、Co、
Co−Ni、Co−Cr等の蒸着膜の保護層として多く
の種類の材料が提案されている。例えば、Ni・
Ｗ合金（特開昭51−43110号公報）、Ni・Ｂ合金
（特開昭52−2405号公報）、Ni合金層を熱処理に
より硬度をあげたもの（特開昭51−102605号公
報）、Ni・Cr合金（特開昭53−73108号公報）等
の合金薄膜を保護層とするもの、酸化物炭化物
（特開昭50−104602号公報）、Si−Si酸化物（特開
昭52−127203号公報）、磁性層との間にCrを介し
てのSi−Si酸化物（特開昭52−127204号公報）、
窒化ケイ素化合物（特開昭55−73931号公報）、
Laの硼化物層（特開昭56−11626号公報）、飽和
脂肪酸の単分子層（特開昭50−7500号公報）、滑
性液体層中に酸化防止剤を含有させたもの（特開
昭51−20805号公報）等が提案されているが、こ
れらに共通した難点は、短波長記録に於けるスペ
ーシングロスの制約から前記保護層に厚みの制限
がある点である。 又もう一つの離点は、短波長記録に適合する基
板の表面（これは、ひいては蒸気層表面の特性に
そのまゝ反映する）が極めて平滑になることから
くる摩擦係数の増大である。 この二つの離点を補うものとしての保護層は、
民生用のVTRシステムに適合化させることを前
提とした場合、前記提案では不充分であつた。そ
れは、相対速度３ｍ／sec〜５ｍ／sec程度の高速
で回転する磁気ヘツドとの摺動に各種の実使用環
境化で長時間耐えなくてはならないからである。 本発明はかかる点に鑑みなされたもので、磁気
記録媒体の形態を問わず、耐蝕性、耐久性に優れ
た特性を示す保護層を有する媒体を提供し、かつ
それを製造する方法を提供しようとするものであ
る。本発明による磁気記録媒体の最小限の構成要
素は、非磁性基板と、強磁性金属層とその表面に
配した金属を含有するフツ化カーボン系の重合体
から成る保護層である。その他、基板の背面に配
した、例えば走行性を補助する層や、基板と強磁
性層の中間に配した非磁性層等の有無は、本発明
と直接的な関係を有していないので、他の目的か
ら自由に選択できる。従つて、製造方法について
も、少なくとも強磁性金属層を蒸着で得る工程
と、フツ化カーボン系のモノマーから出発して
Mo、Ｗ、Cr、Co、Ni等の金属をターゲツトと
しプラズマ重合させる工程とを有することを特徴
とし、媒体の構成により他の工程が付加されるこ
とは自由である。 以下に図面を用い本発明の実施例を説明する。 実施例 １ 基板としてのポリエチレンテエフタレートフイ
ルム（9.5μｍ厚、500mm幅）上にあらかじめ１×
10-5Torrまで排気した真空槽内に５×10-5Torr
になるように槽外部より強制的に酸素を導入し、
平均蒸着速度1300Å／secで、入射角40゜以上の蒸
気流でCo90％Ni10％の磁性層を0.13μｍの厚さに
形成し、磁気テープ原反を作成した。この原反を
別の真空槽で処理し、前記磁性槽上に金属を含有
するフツ化カーボン系の重合層を形成した。即
ち、99.99％純度のMoをターゲツトとし13.56M
Hzの高周波を前記ターゲツトに印加して、グロー
放電を発生させる。放電維持ガスはC2F4ガスで
圧力を検出して導入量を制御した。 第１図は本発明による磁気テープを示す。図に
おいて１は基板２上に形成された磁性層でその上
に重合層３が形成されている。 なお重合層の厚みは正確に測定することが困難
であるため、テープ出力により管理した。 実験結果を後出の第１表、第２表に示す。なお
ここで、第１表、第２表におけるテープＡは、
13.56MHz、350W、0.1TorrのC2F4プラズマに2.0
秒間さらした場合の重合層厚みをtoとすると、テ
ープＢは４秒間、テープＣは6.0秒間それぞれさ
らしたもので（プラズマの安定性と他の較正実験
より、時間比例した厚みを確認している）、この
場合、それぞれの重合層の厚みは2to、3toで、記
録波長0.8μｍでの再生出力は重合層なしのものに
くらべて、Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれで±0.3dB、±
0.3dB、±0.4dBでありスペース損失は無視できる
ものである。しかしこの程度の厚みであつても、
この保護層の保護効果は目をみはるものがあり第
１表、第２表に示すような有意差を確認できた。
なお従来例として、飽和脂肪酸の単分子層を形成
した場合、スパツタ法で窒化けい素膜を270Å形
成した場合とMoを含有しない重合膜（フツ素系
樹脂）の三例を採用した。前記各テープについて
以下のように２つの試験を行つた。 （試験１） 1/2テープをオープンリールに100ｍ巻き込み記
録波長0.8μの正弦波を記録し60℃90％RHの環境
に１、５、10の各週間放置後再生することで出力
減少と、目づまり頻度を比較した。なおテープ送
り速度は2.4cm／sec、相対速度は4.2ｍ／secであ
る。 試験結果を第１表に示す。
【表】
【表】
（試験２）
同じテープを35℃85％RHの環境下でSUS304
からなる0.1Sの表面性を有するポスト（直径10
mm）に180゜まきつけ、2.4cm／ｓでくり返し走行
せしめ、摩擦係数の変化を調べた結果を第２表に
示す。
からなる0.1Sの表面性を有するポスト（直径10
mm）に180゜まきつけ、2.4cm／ｓでくり返し走行
せしめ、摩擦係数の変化を調べた結果を第２表に
示す。
【表】
以上の２つの試験結果から明らかなように、本
発明によるテープの耐久性、安定性は、従来のテ
ープになかつたものであることが理解されるが、
更に45℃10％RHの極めて摩擦に不利な乾燥条件
下でもはつきりとした差が認められる点も注目す
べき点である。 実施例 ２ ポリエチレンテレフタレートフイルム（11.5μ
ｍ厚、500mm幅）上に１×10-5Torrの真空度で、
鉄を65゜以上の入射角で0.15μｍの厚さに形成した
のち、0.08Torrの酸素グロー放電（500V1.3A）
に２秒間さらした。次にC2F6ガスを0.33N／
min導入し圧力を0.06Torrに維持し、13.56MHz
の高周波をCo（99.99％純度）をターゲツトとした
ターゲツトホルダーに印加し、高周波プラズマを
発生させ、Coを含有するフツ化カーボン重合膜
を前記鉄からなる磁性層上に形成し、保護膜とし
た。推定厚み範囲は60〜130Åで３水準調べた。
この範囲では、0.8μｍの記録波長では前記保護膜
の有無による再生出力変化はみられず、保護性能
は、実施例１の場合と同一の試験により、従来例
に比べてほとんど同じ改善効果が得られることが
確かめられた。 以上により、磁性層によらず、保護膜の有無性
が良く理解される。 実施例 ３ ポリエチレンテレフタレートフイルム（10.5μ
ｍ厚、500mm幅）上にあらかじめ5.5×10-6Torrま
で排気したのち外部より酸素を1.0N／min導入
し、2.5×10-5Torrの真空度としたなかで入射角
46゜以上でCo80％Ni20％を蒸着して0.13μｍ厚の
磁性層を形成し、つづいて、あらかじめ6.5×
10-5Torrまで排気して、外部よりC3F8を
0.055Torr分導入し、酸素を0.015Torr分導入し
た0.07Torrの真空度の混合ガス系で13.56MHzの
高周波をＷ（99.99％純度）ターゲツトに印加し
て、Ｗを含有するプラズマ重合膜を前記磁性層上
に形成した。酸素を介在させた効果は、より短時
間でほぼ同じ重合膜ができたことから、重合膜の
形成速度を早める作用があつたことがわかる。 以上のようにして形成したＷを含むフツ化カー
ボン保護層につき推定厚み70Å、140Å、310Åの
３水準について選んで、保護性能を調べた。その
結果は、実施例１の場合と同一であつた。 なお前記保護層の厚み310Åを得た条件より規
格化を時間で行うことにより推定される、30Å、
10Å厚みの保護層についても同様に調べた。その
結果厚みが10Åと推定された場合、試験１では、
１週間、５週間の各放置後で出力減少が−
0.6dB、−1.2dBと従来品における保護膜と殆んど
同じ程度ではあつたが、目づまりが１週間、５週
間の各放置後で、0.3／min、0.4／minとすぐれ
ており、一方試験２で50パス、500パス後の摩擦
係数変化率が＋16％、＋28％と、実用可能な値に
保持される作用を有しており、金属を含有するフ
ツ化カーボン系の重合膜の保護効果の優秀さを示
しているといえる。 本発明はCF4を出発モノマーとした場合につい
ても同様の効果を確かめられ、さらには基板と垂
直方向に磁化容易軸を有しリングヘツドで記録再
生する磁性層を有する場合や、又、磁気テープに
限らず、ポリアミド、ポリイミドを基板としての
シート、デイスク、或いはアルミ等の金属基板の
デイスク等についても同様の効果がみられるもの
であり、このように、磁性層の種類、形成法によ
らず有効である。又、ターゲツトとして、Cr、
Ti、Niを選んだ場合も同様な効果を確認した。 さらに本発明の他の効果として、金属を含有す
るフツ化カーボン系重合膜は金属磁性層との接着
強度向上が期待され、その結果、30℃80％RH下
での耐摩耗性（ヘドはフエライト使用）の改良が
顕著であることも確認された。 以上のように本発明によると、耐蝕性ならびに
走行性にすぐれた磁気記録媒体を容易に得ること
ができる。
発明によるテープの耐久性、安定性は、従来のテ
ープになかつたものであることが理解されるが、
更に45℃10％RHの極めて摩擦に不利な乾燥条件
下でもはつきりとした差が認められる点も注目す
べき点である。 実施例 ２ ポリエチレンテレフタレートフイルム（11.5μ
ｍ厚、500mm幅）上に１×10-5Torrの真空度で、
鉄を65゜以上の入射角で0.15μｍの厚さに形成した
のち、0.08Torrの酸素グロー放電（500V1.3A）
に２秒間さらした。次にC2F6ガスを0.33N／
min導入し圧力を0.06Torrに維持し、13.56MHz
の高周波をCo（99.99％純度）をターゲツトとした
ターゲツトホルダーに印加し、高周波プラズマを
発生させ、Coを含有するフツ化カーボン重合膜
を前記鉄からなる磁性層上に形成し、保護膜とし
た。推定厚み範囲は60〜130Åで３水準調べた。
この範囲では、0.8μｍの記録波長では前記保護膜
の有無による再生出力変化はみられず、保護性能
は、実施例１の場合と同一の試験により、従来例
に比べてほとんど同じ改善効果が得られることが
確かめられた。 以上により、磁性層によらず、保護膜の有無性
が良く理解される。 実施例 ３ ポリエチレンテレフタレートフイルム（10.5μ
ｍ厚、500mm幅）上にあらかじめ5.5×10-6Torrま
で排気したのち外部より酸素を1.0N／min導入
し、2.5×10-5Torrの真空度としたなかで入射角
46゜以上でCo80％Ni20％を蒸着して0.13μｍ厚の
磁性層を形成し、つづいて、あらかじめ6.5×
10-5Torrまで排気して、外部よりC3F8を
0.055Torr分導入し、酸素を0.015Torr分導入し
た0.07Torrの真空度の混合ガス系で13.56MHzの
高周波をＷ（99.99％純度）ターゲツトに印加し
て、Ｗを含有するプラズマ重合膜を前記磁性層上
に形成した。酸素を介在させた効果は、より短時
間でほぼ同じ重合膜ができたことから、重合膜の
形成速度を早める作用があつたことがわかる。 以上のようにして形成したＷを含むフツ化カー
ボン保護層につき推定厚み70Å、140Å、310Åの
３水準について選んで、保護性能を調べた。その
結果は、実施例１の場合と同一であつた。 なお前記保護層の厚み310Åを得た条件より規
格化を時間で行うことにより推定される、30Å、
10Å厚みの保護層についても同様に調べた。その
結果厚みが10Åと推定された場合、試験１では、
１週間、５週間の各放置後で出力減少が−
0.6dB、−1.2dBと従来品における保護膜と殆んど
同じ程度ではあつたが、目づまりが１週間、５週
間の各放置後で、0.3／min、0.4／minとすぐれ
ており、一方試験２で50パス、500パス後の摩擦
係数変化率が＋16％、＋28％と、実用可能な値に
保持される作用を有しており、金属を含有するフ
ツ化カーボン系の重合膜の保護効果の優秀さを示
しているといえる。 本発明はCF4を出発モノマーとした場合につい
ても同様の効果を確かめられ、さらには基板と垂
直方向に磁化容易軸を有しリングヘツドで記録再
生する磁性層を有する場合や、又、磁気テープに
限らず、ポリアミド、ポリイミドを基板としての
シート、デイスク、或いはアルミ等の金属基板の
デイスク等についても同様の効果がみられるもの
であり、このように、磁性層の種類、形成法によ
らず有効である。又、ターゲツトとして、Cr、
Ti、Niを選んだ場合も同様な効果を確認した。 さらに本発明の他の効果として、金属を含有す
るフツ化カーボン系重合膜は金属磁性層との接着
強度向上が期待され、その結果、30℃80％RH下
での耐摩耗性（ヘドはフエライト使用）の改良が
顕著であることも確認された。 以上のように本発明によると、耐蝕性ならびに
走行性にすぐれた磁気記録媒体を容易に得ること
ができる。
図は本発明による磁気記録媒体の断面図であ
る。 １……磁性層、２……基板、３……重合層。
る。 １……磁性層、２……基板、３……重合層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 非磁性基板上に強磁性金属層を有し、かつ前
記強磁性金属層上に金属を含有するフツ化カーボ
ン系の重合体からなる保護層を有することを特徴
とする磁気記録媒体。 ２ 非磁性基板上に蒸着法により強磁性金属層を
形成する工程と、金属をターゲツトとしてフツ化
カーボン系のモノマー蒸気をプラズマ重合し、前
記金属層上に金属を含有するフツ化カーボン系の
重合体からなる保護層を形成する工程とを有する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56187591A JPS5888829A (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56187591A JPS5888829A (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5888829A JPS5888829A (ja) | 1983-05-27 |
| JPH034967B2 true JPH034967B2 (ja) | 1991-01-24 |
Family
ID=16208784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56187591A Granted JPS5888829A (ja) | 1981-11-20 | 1981-11-20 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5888829A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61153821A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH0827931B2 (ja) * | 1986-06-27 | 1996-03-21 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6016005B2 (ja) * | 1977-04-23 | 1985-04-23 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS53137111A (en) * | 1977-05-06 | 1978-11-30 | Fujitsu Ltd | Coating method of lubricant |
| JPS53140004A (en) * | 1977-05-13 | 1978-12-06 | Fujitsu Ltd | Magnetic recording medium |
| US4188434A (en) * | 1978-05-15 | 1980-02-12 | Storage Technology Corporation | Lubricant for a magnetic member |
| JPS5647926A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57198542A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Sekisui Chem Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1981
- 1981-11-20 JP JP56187591A patent/JPS5888829A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5888829A (ja) | 1983-05-27 |
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