JPH03183780A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH03183780A JPH03183780A JP32453489A JP32453489A JPH03183780A JP H03183780 A JPH03183780 A JP H03183780A JP 32453489 A JP32453489 A JP 32453489A JP 32453489 A JP32453489 A JP 32453489A JP H03183780 A JPH03183780 A JP H03183780A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- pipes
- trap
- piping
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体製造装置に係わｂｌ特にＣＶＤ装置に
釦ける配管系の構造に関するものである。
釦ける配管系の構造に関するものである。
第２図は従来のＣＶＤ装置における配管系の構成を示す
図である。同図にかいて、１は配管であう、この配管１
の途中にはトラップ３を有する配管部４が設けられて＞
、６、ポンプ側の配管６へ連結されている。
図である。同図にかいて、１は配管であう、この配管１
の途中にはトラップ３を有する配管部４が設けられて＞
、６、ポンプ側の配管６へ連結されている。
このような構成において、配管１を通過したガスや固体
状物質などのうち、爵体状物質は、配管部４を通過する
際にトラップ３に捕えられてこのトラップ３に溜る。こ
れによってポンプ内への固体状物質の流入を防止させて
いる。そして、配管６にはガス状物質のみが流れ、ポン
プを汚さないようになる。
状物質などのうち、爵体状物質は、配管部４を通過する
際にトラップ３に捕えられてこのトラップ３に溜る。こ
れによってポンプ内への固体状物質の流入を防止させて
いる。そして、配管６にはガス状物質のみが流れ、ポン
プを汚さないようになる。
しかしながら、従来の半導体製造装置は、トラップ３内
に固体状物質が溜すすぎると、配管部４を詰らせ配管前
での圧力が高く々つでしまうという問題があった。また
、この溜った固体状物質を取り除くためには半導体製造
装置の駆動を停止しなければならないという問題があっ
た。
に固体状物質が溜すすぎると、配管部４を詰らせ配管前
での圧力が高く々つでしまうという問題があった。また
、この溜った固体状物質を取り除くためには半導体製造
装置の駆動を停止しなければならないという問題があっ
た。
この発明は、上記従来の課題を解決するためになされた
ものであり１配管前の圧力の変化を防ぐとともに装置を
使用しながら、トラップの洗浄ができる半導体製造装置
を得ることを目的としている。
ものであり１配管前の圧力の変化を防ぐとともに装置を
使用しながら、トラップの洗浄ができる半導体製造装置
を得ることを目的としている。
この発明に係る半導体製造装置は、配管の一部を複数に
分岐させ、この複数本の配管生金てにトラップを設ける
とともにこの複数本のうちの１本を常に使用し、他の配
管との切シ換えが可能な切換手段を設けたものである。
分岐させ、この複数本の配管生金てにトラップを設ける
とともにこの複数本のうちの１本を常に使用し、他の配
管との切シ換えが可能な切換手段を設けたものである。
この発明における複数本に分かれた配管は、１本の配管
中のトラップの目詰シ前に切換手段によシ他方と切り換
えることによう、配管前の部分での急な圧力上昇を防ぎ
、筐九−本の配管を使用中に他方の配管のネットに溜っ
たものを取り除けるので、半導体製造装置を止める必要
がなくなる。
中のトラップの目詰シ前に切換手段によシ他方と切り換
えることによう、配管前の部分での急な圧力上昇を防ぎ
、筐九−本の配管を使用中に他方の配管のネットに溜っ
たものを取り除けるので、半導体製造装置を止める必要
がなくなる。
以下、この発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する
。
。
第１図はこの発明による半導体製造装置の一実施例を示
す要部構成図であシ、上述の図と同一部分には同一符号
を付しである。同図において、配管１は、その一部が分
岐点２から二叉に分岐されこの分岐された各配管１１．
１ｚにはそれぞれトラップ３が配管部４内に収容されて
結合されるとともに配管６も同様に一部が分岐点５から
二叉に分岐され、この分岐された各配管６１，６ｚにそ
れぞれ連結されている。また、配管１０分岐点２および
配管６０分岐点５には流路を切シ換えるそれぞれパルプ
７１および７雪が設けられ、これらのバルブ？ｒ 、７
２の一方向、他方向への切シ換えによ多分岐された配管
のうち、いずれか一方を使用する。
す要部構成図であシ、上述の図と同一部分には同一符号
を付しである。同図において、配管１は、その一部が分
岐点２から二叉に分岐されこの分岐された各配管１１．
１ｚにはそれぞれトラップ３が配管部４内に収容されて
結合されるとともに配管６も同様に一部が分岐点５から
二叉に分岐され、この分岐された各配管６１，６ｚにそ
れぞれ連結されている。また、配管１０分岐点２および
配管６０分岐点５には流路を切シ換えるそれぞれパルプ
７１および７雪が設けられ、これらのバルブ？ｒ 、７
２の一方向、他方向への切シ換えによ多分岐された配管
のうち、いずれか一方を使用する。
このよう碌構成において、配管１を通過したガスや固体
状物質は、分岐点２で配ｖ４に流れ込む。
状物質は、分岐点２で配ｖ４に流れ込む。
このとき、バルブ７１は一箇所のみが開いているので、
ガスや固体状物質はパルプＴＩの開いている配管４０１
本へのみ流れ込む。そして、配管４内にあるトラップ３
によって固体状物質は捕えられ、配管の分岐点５を通っ
て配管６を流れる際にはガスのみと女ｂ１その後のポン
プへのダメージを軽減させている。この際、トラップ３
へは次第に固体状物質が溜ｂ１最後には配管を詰らせ、
配管前での圧力が漸次高くなってし筐うが、トラップ３
が詰る前にバルブ７ｔ 、 ７ｚを切シ換え・その間に
溜った固体状物質を除去することができるので、トラッ
プ３を詰らせることがなく、圧力の変化を防ぐことがで
きる。筐た、一方の配管を使用中に他方の配管を洗浄で
きるので、炉を使用しながら、配管を洗浄できる。
ガスや固体状物質はパルプＴＩの開いている配管４０１
本へのみ流れ込む。そして、配管４内にあるトラップ３
によって固体状物質は捕えられ、配管の分岐点５を通っ
て配管６を流れる際にはガスのみと女ｂ１その後のポン
プへのダメージを軽減させている。この際、トラップ３
へは次第に固体状物質が溜ｂ１最後には配管を詰らせ、
配管前での圧力が漸次高くなってし筐うが、トラップ３
が詰る前にバルブ７ｔ 、 ７ｚを切シ換え・その間に
溜った固体状物質を除去することができるので、トラッ
プ３を詰らせることがなく、圧力の変化を防ぐことがで
きる。筐た、一方の配管を使用中に他方の配管を洗浄で
きるので、炉を使用しながら、配管を洗浄できる。
なお、上述した実施例にかいては、分岐される配管を２
本としｆｃ場合について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、２本以上伺本でも良いことは言
う１でもない。
本としｆｃ場合について説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、２本以上伺本でも良いことは言
う１でもない。
以上説明したようにこの発明によれば、配管を複数にし
たので、配管の詰りによる圧力変動を起こすこともなく
、炉を使用しながら、配管を洗浄することが可能となる
という効果がある。
たので、配管の詰りによる圧力変動を起こすこともなく
、炉を使用しながら、配管を洗浄することが可能となる
という効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による半導体製造装置を示
す断面図、第２図は従来の半導体製造装置を示す断面図
である。 １．１１，１２ ・Ｏ＃・配管、２・・・・分岐点、３
１１＠１１１１）ラップ、４・・・・配管、５・・・・
パルプ。 代 理 人 大 岩 増 雄
す断面図、第２図は従来の半導体製造装置を示す断面図
である。 １．１１，１２ ・Ｏ＃・配管、２・・・・分岐点、３
１１＠１１１１）ラップ、４・・・・配管、５・・・・
パルプ。 代 理 人 大 岩 増 雄
Claims (1)
- 配管の一部を複数に分けて分岐させ、該分岐させた複数
の配管内にトラツプを設けるとともに該分岐点に流路の
切り換え手段を設けたことを特徴とする半導体製造装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32453489A JPH03183780A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32453489A JPH03183780A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03183780A true JPH03183780A (ja) | 1991-08-09 |
Family
ID=18166875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32453489A Pending JPH03183780A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03183780A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09187612A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-07-22 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | ガス状不純物処理システム及び粒子除去フィルタ |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP32453489A patent/JPH03183780A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09187612A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-07-22 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | ガス状不純物処理システム及び粒子除去フィルタ |
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