JPH03184950A - 新規な有機硫黄化合物及びその製造法並びに光学用樹脂 - Google Patents
新規な有機硫黄化合物及びその製造法並びに光学用樹脂Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、新規な有機硫黄化合物に関し、より詳細には
両末端にビニルベンジル基を有し、ラジカル単独もしく
は共重合性を有する新規な有機硫黄化合物すなわちビス
(ビニルベンジル)スルフィド及び該化合物の製造法な
らびにこれらを重合あるいは共重合して得られるプラス
チックレンズなどに有用な光学用樹脂に関する。
両末端にビニルベンジル基を有し、ラジカル単独もしく
は共重合性を有する新規な有機硫黄化合物すなわちビス
(ビニルベンジル)スルフィド及び該化合物の製造法な
らびにこれらを重合あるいは共重合して得られるプラス
チックレンズなどに有用な光学用樹脂に関する。
〈従来の技術〉
有機硫黄化合物は自然界に多数存在し、特に生体内にお
ける有機硫黄化合物は、生体の構成要素として多量に含
まれるだけでなく、その生理作用は重要で、硫黄原子の
関与する各種の酸素反応や生理作用が多数知られている
。
ける有機硫黄化合物は、生体の構成要素として多量に含
まれるだけでなく、その生理作用は重要で、硫黄原子の
関与する各種の酸素反応や生理作用が多数知られている
。
一方石炭あるいは石油中にも多量の有機硫黄化合物が含
まれているが、これらの物質は工業的に利用する場合、
公害の発生源となる恐れがある。
まれているが、これらの物質は工業的に利用する場合、
公害の発生源となる恐れがある。
近年、各種の高性能プラスチックス、いわゆるエンジニ
アリングプラスチックスの構成成分として硫黄化合物が
注目され、例えばポリスルホン、ポリエーテルスルホン
、ボリフェニレンスルフイド等の硫黄原子の特性を十分
に利用した高性能高分子物質を得るための重合性含硫黄
化合物が注目されている。
アリングプラスチックスの構成成分として硫黄化合物が
注目され、例えばポリスルホン、ポリエーテルスルホン
、ボリフェニレンスルフイド等の硫黄原子の特性を十分
に利用した高性能高分子物質を得るための重合性含硫黄
化合物が注目されている。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、機能性化合物の中間原料として利用可
能な有機硫黄化合物及びその製造法を提供することにあ
る。
能な有機硫黄化合物及びその製造法を提供することにあ
る。
本発明の別の目的は、プラスチックレンズ等に有用な光
学用樹脂を提供することにある。
学用樹脂を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉
本発明によれば、下記構造式
で表わされるビス(ビニルベンジル)スルフィドが提供
される。
される。
また本発明によれば、クロロメチルスチレンと、硫化ナ
トリウムあるいは硫化カリウムとを反応させることを特
徴とするビス(ビニルベンジル)スルフィドの製造法が
提供される。
トリウムあるいは硫化カリウムとを反応させることを特
徴とするビス(ビニルベンジル)スルフィドの製造法が
提供される。
更に本発明によれば、クロロメチルスチレンと、ビニル
ベンジルメルカプタンとを反応させることを特徴とする
ビス(ビニルベンジル)スルフィドの製造法が提供され
る。
ベンジルメルカプタンとを反応させることを特徴とする
ビス(ビニルベンジル)スルフィドの製造法が提供され
る。
更にまた本発明によれば、ビス(ビニルベンジル)スル
フィドの1種又は2種以上を重合又は他のビニルモノマ
ーと共重合して得られる光学用樹脂が提供される。
フィドの1種又は2種以上を重合又は他のビニルモノマ
ーと共重合して得られる光学用樹脂が提供される。
以下本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の有機硫黄化合物は、ビス(ビニルベンジル)ス
ルフィドであり下記構造式で表わすことができる。
ルフィドであり下記構造式で表わすことができる。
より詳細には、ビス(p−ビニルベンジル)スルフィド
、ビス(m−ビニルベンジル)スルフィド。
、ビス(m−ビニルベンジル)スルフィド。
(p−ビニルベンジル)−(m−ビニルベンジル)スル
フィドである。これらの有機硫黄化合物は、低比重であ
り、又、ラジカル重合性を有する無色透明の物質である
。
フィドである。これらの有機硫黄化合物は、低比重であ
り、又、ラジカル重合性を有する無色透明の物質である
。
本発明の有機硫黄化合物を製造するには、クロ3−
ロメチルスチレンと、硫化ナトリウムあるいは硫化カリ
ウムとを反応させる方法(以下第1の方法と略す)、又
はクロロメチルスチレンと、ビニルベンジルメルカプタ
ンとを反応させる方法(以下第2の方法と略す)により
得ることができる。前記第Iの方法又は第2の方法では
、例えば水、アセトニトリル、酢酸エチル、エタノール
、メタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、1−プロパツール、2−プ
ロパツール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン
及びトルエン等から成る群の1種又は2種以上より選択
される溶媒中で行うことができ、また二相系の混合溶媒
を用いる際には、ヘキサデシルトリブチルホスホニウム
ブロマイドのような相間移動触媒を用いて反応させるこ
とができる。
ウムとを反応させる方法(以下第1の方法と略す)、又
はクロロメチルスチレンと、ビニルベンジルメルカプタ
ンとを反応させる方法(以下第2の方法と略す)により
得ることができる。前記第Iの方法又は第2の方法では
、例えば水、アセトニトリル、酢酸エチル、エタノール
、メタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、1−プロパツール、2−プ
ロパツール、n−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン
及びトルエン等から成る群の1種又は2種以上より選択
される溶媒中で行うことができ、また二相系の混合溶媒
を用いる際には、ヘキサデシルトリブチルホスホニウム
ブロマイドのような相間移動触媒を用いて反応させるこ
とができる。
更にまた、反応させる際チオールの酸化を防止するため
に、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で反応を行
うことが好ましい。また第1の方法及び第2の方法にお
ける反応温度は、−60℃以上、特に好ましくは、20
〜40’Cであるのが望4 ましく1反応時間は30分以上、好ましくは6〜24時
間反応させるのが望ましい。前記第2の方法を用いる場
合、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリイソプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン
、トリエタノールアミン、トリベンジルアミン等の3級
アミン類を脱塩化水素剤として用いることができ、また
ビニルベンジルメルカプタンを水酸化ナトリウムあるい
は水酸化カリウム等によりアルカリ金属塩とした後、ク
ロロメチルスチレンと反応させることもできる。
に、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で反応を行
うことが好ましい。また第1の方法及び第2の方法にお
ける反応温度は、−60℃以上、特に好ましくは、20
〜40’Cであるのが望4 ましく1反応時間は30分以上、好ましくは6〜24時
間反応させるのが望ましい。前記第2の方法を用いる場
合、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリイソプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン
、トリエタノールアミン、トリベンジルアミン等の3級
アミン類を脱塩化水素剤として用いることができ、また
ビニルベンジルメルカプタンを水酸化ナトリウムあるい
は水酸化カリウム等によりアルカリ金属塩とした後、ク
ロロメチルスチレンと反応させることもできる。
本発明の製造法に用いるクロロメチルスチレンあるいは
ビニルベンジルメルカプタンは、パラ体のみ又はパラ体
とメタ体の混合物のいずれを用いても良い。
ビニルベンジルメルカプタンは、パラ体のみ又はパラ体
とメタ体の混合物のいずれを用いても良い。
本発明の製造法において、前記各成分を反応させる際の
仕込み割合は、経済性を鑑みて、クロロメチルスチレン
と、硫化ナトリウムあるいは硫化カリウム又はビニルベ
ンジルメルカプタンナトリウム塩とを、モル比で1:0
.5〜2の範囲とするのが好ましい。
仕込み割合は、経済性を鑑みて、クロロメチルスチレン
と、硫化ナトリウムあるいは硫化カリウム又はビニルベ
ンジルメルカプタンナトリウム塩とを、モル比で1:0
.5〜2の範囲とするのが好ましい。
前記製造法により得られる反応物は、抽出、減圧濃縮、
蒸留、カラム等により精製し、目的物を得ることができ
る。
蒸留、カラム等により精製し、目的物を得ることができ
る。
本発明では、前記構造式で表わされるビス(ビニルベン
ジル)スルフィドの工種又は2種以上を重合又は共重合
させることにより光学用樹脂とすることができる。この
際前記ビス(ビニルベンジル)スルフィドのみを重合又
は共重合させる場合には、屈折率1.6以上の物性面に
も優れた高屈折率光学用樹脂を得ることができる。
ジル)スルフィドの工種又は2種以上を重合又は共重合
させることにより光学用樹脂とすることができる。この
際前記ビス(ビニルベンジル)スルフィドのみを重合又
は共重合させる場合には、屈折率1.6以上の物性面に
も優れた高屈折率光学用樹脂を得ることができる。
他方、屈折率を1.6以下に調整しようとする場合、あ
るいは、さらに高度な物性を発現させようとする場合に
は、前記ビス(ビニルベンジル)スルフィドとこれら以
外のビニル系モノマーとを共重合させることもできる。
るいは、さらに高度な物性を発現させようとする場合に
は、前記ビス(ビニルベンジル)スルフィドとこれら以
外のビニル系モノマーとを共重合させることもできる。
この際、本発明の光学用樹脂の必須の成分であるビス(
ビニルベンジル)スルフィドは、あらゆる混合比で用い
ることができるが、特に20重量%程度以下で用いる際
には、高屈折率ならびに高物性を付与する高性能な架橋
剤として考えることができる。前記ビニル系モノマーと
しては、例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−
クロルスチレン、0−クロルスチレン、P−ブロムスチ
レン、0−ブロムスチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート
、メチルアクリレート、エチルアクリレート、フェニル
メタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート、ブロムフェニルメ
タクリレート、アクリロニトリル、メタクリレートリル
、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシエトキシフ
ェニル)プロパン、2゜2−ビス(4−アクリロイルオ
キシエトキシフェニル)プロパン、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート、テトラクロルフタル酸ジア
リル、ジアリルフタレート、p−ジビニルベンゼン、m
−ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、エチレング
リコールビスメタクリレート、ジエチレングリコールビ
スメタクリレート、エチレングリコールビスアクリレー
ト、ジエチレンビスアクリレート、ジプロピレングリコ
ールビスメタクリレ−7− ト、トリエチレングリコールビスアクリレート、テトラ
エチレングリコールビスアクリレート、ビスフェノール
Aビスメタクリレート、テトラクロルフタル酸ジアリル
、ジアリルイソフタレート、アリルメタクリレート、プ
ロピレングリコールビスアクリレート、ヘキサエチレン
グリコールビスアクリレート、オクタエチレングリコー
ルビスアクリレート、デカンエチレングリコールビスア
クリレート等を好ましく挙げることができる。
ビニルベンジル)スルフィドは、あらゆる混合比で用い
ることができるが、特に20重量%程度以下で用いる際
には、高屈折率ならびに高物性を付与する高性能な架橋
剤として考えることができる。前記ビニル系モノマーと
しては、例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−
クロルスチレン、0−クロルスチレン、P−ブロムスチ
レン、0−ブロムスチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート
、メチルアクリレート、エチルアクリレート、フェニル
メタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアク
リレート、ベンジルメタクリレート、ブロムフェニルメ
タクリレート、アクリロニトリル、メタクリレートリル
、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシエトキシフ
ェニル)プロパン、2゜2−ビス(4−アクリロイルオ
キシエトキシフェニル)プロパン、ジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート、テトラクロルフタル酸ジア
リル、ジアリルフタレート、p−ジビニルベンゼン、m
−ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、エチレング
リコールビスメタクリレート、ジエチレングリコールビ
スメタクリレート、エチレングリコールビスアクリレー
ト、ジエチレンビスアクリレート、ジプロピレングリコ
ールビスメタクリレ−7− ト、トリエチレングリコールビスアクリレート、テトラ
エチレングリコールビスアクリレート、ビスフェノール
Aビスメタクリレート、テトラクロルフタル酸ジアリル
、ジアリルイソフタレート、アリルメタクリレート、プ
ロピレングリコールビスアクリレート、ヘキサエチレン
グリコールビスアクリレート、オクタエチレングリコー
ルビスアクリレート、デカンエチレングリコールビスア
クリレート等を好ましく挙げることができる。
本発明の高屈折率光学用樹脂を調製するには、例えば前
記各モノマーをラジカル重合開始剤の存在下、加熱重合
又は共重合させることにより得ることができる。前記ラ
ジカル重合開始剤は、10時間半減期温度が160℃以
下の有機過酸化物又はアゾ化合物等を用いることができ
、具体的には例えば、ジイソプロオイルオキシジカーボ
ネート、ターシャリブチルペルオキシ−2−エチルヘキ
サノエート、ターシャリブチルペルオキシピバレート、
ターシャリブチルペルオキシジイソブチレート、過酸化
ラウロイル、t−ブチルペルオキシド8− アセテート、ターシャリペルオキシオクトエイト、ター
シャリブチルペルオキシベンゾエイト、アゾビスイソブ
チロニトリル及びこれらの混合物等からなる群より選択
される重合開始剤を挙げることができる。前記ラジカル
重合開始剤の使用量は全仕込みモノマー100重量部に
対して、10重量部以下、特に1重量部以下であるのが
好ましい。
記各モノマーをラジカル重合開始剤の存在下、加熱重合
又は共重合させることにより得ることができる。前記ラ
ジカル重合開始剤は、10時間半減期温度が160℃以
下の有機過酸化物又はアゾ化合物等を用いることができ
、具体的には例えば、ジイソプロオイルオキシジカーボ
ネート、ターシャリブチルペルオキシ−2−エチルヘキ
サノエート、ターシャリブチルペルオキシピバレート、
ターシャリブチルペルオキシジイソブチレート、過酸化
ラウロイル、t−ブチルペルオキシド8− アセテート、ターシャリペルオキシオクトエイト、ター
シャリブチルペルオキシベンゾエイト、アゾビスイソブ
チロニトリル及びこれらの混合物等からなる群より選択
される重合開始剤を挙げることができる。前記ラジカル
重合開始剤の使用量は全仕込みモノマー100重量部に
対して、10重量部以下、特に1重量部以下であるのが
好ましい。
前記加熱重合又は共重合を行うには、例えば前記各モノ
マーと、必要に応じてラジカル重合開始剤とを直接所望
の型枠内に仕込み、好ましくは0〜200℃、l〜48
時間加熱することにより重合又は共重合させることがで
きる。この際重合系は、例えば窒素、二酸化炭素、ヘリ
ウムなど不活性ガス置換又は雰囲気下にするのが望まし
い。又、前記重合又は共重合させる前に、原料モノマー
を例えば0〜200℃、0.5〜48時間予備重合させ
たのち、所望の型枠内に仕込み、後重合させることもで
きる。
マーと、必要に応じてラジカル重合開始剤とを直接所望
の型枠内に仕込み、好ましくは0〜200℃、l〜48
時間加熱することにより重合又は共重合させることがで
きる。この際重合系は、例えば窒素、二酸化炭素、ヘリ
ウムなど不活性ガス置換又は雰囲気下にするのが望まし
い。又、前記重合又は共重合させる前に、原料モノマー
を例えば0〜200℃、0.5〜48時間予備重合させ
たのち、所望の型枠内に仕込み、後重合させることもで
きる。
〈発明の効果〉
本発明の有機硫黄化合物は、重合性の新規な化音物であ
り、高性能高分子の原料として利用できる。また、本発
明の製造法により該有機硫黄化合物を高収率で容易に合
成することができる。さらにこの化合物を重合あるいは
共重合させることにより高屈折率など光学特性に優れた
プラスチックレンズなどに有用な光学用樹脂を提供する
ことができる。
り、高性能高分子の原料として利用できる。また、本発
明の製造法により該有機硫黄化合物を高収率で容易に合
成することができる。さらにこの化合物を重合あるいは
共重合させることにより高屈折率など光学特性に優れた
プラスチックレンズなどに有用な光学用樹脂を提供する
ことができる。
〈実施例〉
以下実施例により本発明を具体的に説明するが、これら
は本発明の範囲を限定するものではない。
は本発明の範囲を限定するものではない。
失鳳班よ
滴下ロート、窒素導入管及び撹拌機を付した1リツトル
の3つロフラスコに、窒素気流下で硫化カリウム220
.54g (2moQ)、蒸留水500mQ及びヘキサ
デシルトリブチルホスホニウムブロマイドLogを加え
溶解させた後、滴下ロートよりクロロメチルスチレン(
pym一体温合物)305.24g (2molを徐々
に加え、室温で6時間撹拌した。これをlリットルの分
液ロートに移し替え、有機層を5重量%水酸化ナトリウ
ム溶液300mQで3回、蒸留水300mQで3回洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた
残渣を、n−ヘキサンに加熱溶解させた後、商品名「ワ
コーゲル’C−100J(和光純薬株式会社製)50g
を加え50℃で30分間撹拌し、これを濾過した後、室
温まで冷却し析出した結晶をn−ヘキサンより再結晶し
目的物を得た。
の3つロフラスコに、窒素気流下で硫化カリウム220
.54g (2moQ)、蒸留水500mQ及びヘキサ
デシルトリブチルホスホニウムブロマイドLogを加え
溶解させた後、滴下ロートよりクロロメチルスチレン(
pym一体温合物)305.24g (2molを徐々
に加え、室温で6時間撹拌した。これをlリットルの分
液ロートに移し替え、有機層を5重量%水酸化ナトリウ
ム溶液300mQで3回、蒸留水300mQで3回洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた
残渣を、n−ヘキサンに加熱溶解させた後、商品名「ワ
コーゲル’C−100J(和光純薬株式会社製)50g
を加え50℃で30分間撹拌し、これを濾過した後、室
温まで冷却し析出した結晶をn−ヘキサンより再結晶し
目的物を得た。
・収量 234.4g (収率88%)、白色
ワセリン状物質・IR(cn−”);2900,142
0.980 (−CH=CH2)−NMR(δ; PP
m) : 7.1〜7.4 (m、 8H) 、 6.
4−6、8 (q、 2H) 、 5.1〜5.8 (
m。
ワセリン状物質・IR(cn−”);2900,142
0.980 (−CH=CH2)−NMR(δ; PP
m) : 7.1〜7.4 (m、 8H) 、 6.
4−6、8 (q、 2H) 、 5.1〜5.8 (
m。
4H) 、 3.7 (s、 4H)
・元素分析(C□aH1sS)
計算値 C;8115. H;6.81. S;
12.04測定値 C;81.23. H;6.7
8. 5i11.99去迩044 滴下ロート、窒素導入管及び撹拌機を付した111− リットルの3つロフラスコに窒素気流下で、トルエン5
00mQ、ビニルベンジルメルカプタン(P、m一体温
合物) 94 、20 g (1m o Q )、脱ハ
ロゲン化水素剤としてトリエチルアミン202g(2m
on)を加え、一方、滴下ロートよりp−クロロメチル
スチレン152.62g(1mon)を徐々に加え、室
温で12時間撹拌した。生成したトリエチルアミン塩酸
塩を濾過した後、濾液を1リツトルの分液ロートに移し
替え、5重量%水酸化ナトリウム溶液300mQで3回
、蒸留水300mQで3回洗浄し、有機層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣を、n−ヘ
キサンより再結晶し、目的物を得た。
12.04測定値 C;81.23. H;6.7
8. 5i11.99去迩044 滴下ロート、窒素導入管及び撹拌機を付した111− リットルの3つロフラスコに窒素気流下で、トルエン5
00mQ、ビニルベンジルメルカプタン(P、m一体温
合物) 94 、20 g (1m o Q )、脱ハ
ロゲン化水素剤としてトリエチルアミン202g(2m
on)を加え、一方、滴下ロートよりp−クロロメチル
スチレン152.62g(1mon)を徐々に加え、室
温で12時間撹拌した。生成したトリエチルアミン塩酸
塩を濾過した後、濾液を1リツトルの分液ロートに移し
替え、5重量%水酸化ナトリウム溶液300mQで3回
、蒸留水300mQで3回洗浄し、有機層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣を、n−ヘ
キサンより再結晶し、目的物を得た。
・収量 218.4g (収率82%)、白色ワセリ
ン状物質 去1目4走 ビス(p−ビニルベンジル)スルフィド、ビス(m−ビ
ニルベンジル)スルフィド、(p−ビニルベンジル)−
(m−ビニルベンジル)スルフィドの混合物6g及びス
チレン6gからなる原料モー12= ツマ−に、ターシャリブチルペルオキシベンゾエートを
0.05g混合し、モノマー組成物を得た。
ン状物質 去1目4走 ビス(p−ビニルベンジル)スルフィド、ビス(m−ビ
ニルベンジル)スルフィド、(p−ビニルベンジル)−
(m−ビニルベンジル)スルフィドの混合物6g及びス
チレン6gからなる原料モー12= ツマ−に、ターシャリブチルペルオキシベンゾエートを
0.05g混合し、モノマー組成物を得た。
ついで2枚のガラス型中に該モノマー組成物を仕込み、
80℃の恒温槽中に入れ、硬化温度80℃にて6時間加
熱し、さらに3時間で100℃まで昇温し、最後に10
0℃で2時間アニーリング処理を行い透明な硬化樹脂を
得た。この樹脂は光学用樹脂として下記のような優れた
特性を有していた。
80℃の恒温槽中に入れ、硬化温度80℃にて6時間加
熱し、さらに3時間で100℃まで昇温し、最後に10
0℃で2時間アニーリング処理を行い透明な硬化樹脂を
得た。この樹脂は光学用樹脂として下記のような優れた
特性を有していた。
・屈折率 no231.620
・アツベ数 ヤ34
失凰舊土
ビス(ビニルベンジル)スルスイド(パラ・メタ体混合
物)Logからなる原料モノマーを用いて、実施例3と
同様にして光学用樹脂を得た。得られた樹脂の屈折率及
びアツベ数を下記に示す。
物)Logからなる原料モノマーを用いて、実施例3と
同様にして光学用樹脂を得た。得られた樹脂の屈折率及
びアツベ数を下記に示す。
・屈折率 n。”1.655
・アツベ数 ヤ31
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるビス(ビニルベンジル)スルフィド。 2)クロロメチルスチレンと、硫化ナトリウムあるいは
硫化カリウムとを反応させることを特徴とする請求項1
記載の化合物の製造法。 3)クロロメチルスチレンと、ビニルベンジルメルカプ
タンとを反応させることを特徴とする請求項1記載の化
合物の製造法。 4)請求項1記載の化合物の1種又は2種以上を重合又
は他のビニルモノマーと共重合して得られる光学用樹脂
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32268189A JPH03184950A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 新規な有機硫黄化合物及びその製造法並びに光学用樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32268189A JPH03184950A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 新規な有機硫黄化合物及びその製造法並びに光学用樹脂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03184950A true JPH03184950A (ja) | 1991-08-12 |
Family
ID=18146431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32268189A Pending JPH03184950A (ja) | 1989-12-14 | 1989-12-14 | 新規な有機硫黄化合物及びその製造法並びに光学用樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03184950A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002114760A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビス(ビニルベンジル)スルフィドおよびその製造方法 |
-
1989
- 1989-12-14 JP JP32268189A patent/JPH03184950A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002114760A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビス(ビニルベンジル)スルフィドおよびその製造方法 |
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