JPH1067736A - チオール化合物、含硫ｏ−（メタ）アクリレート化合物およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 下記式（１）で表される新規な含硫Ｏ−
（メタ）アクリレート化合物、その製造方法、該化合物
を含有する光学樹脂用組成物、該組成物から得られる光
学用樹脂およびレンズ。 【効果】 本発明の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合
物を含有する光学樹脂用組成物は、短時間重合が可能で
あり、良好な光学物性を示し、特に、高い屈折率、優れ
た耐衝撃性をもち、加工時に臭気が少ない光学用樹脂を
与える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な含硫Ｏ−
（メタ）アクリレート化合物、および新規なチオール化
合物を、ジチオアセタール化、チオエステル化またはチ
オウレタン化した後、脱ハロゲン化水素化する含硫Ｏ−
（メタ）アクリレート化合物の製造方法、該化合物を含
有する光学樹脂用組成物、該組成物を重合させて得られ
る光学用樹脂および、に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラスチックレンズは、無機レンズに比
べ軽量で割れ難く、染色が可能なため近年、眼鏡レン
ズ、カメラレンズ等の光学素子に急速に普及してきてい
る。現在、これらの目的に広く用いられる樹脂として
は、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）
（以下、D.A.C と称す）をラジカル重合させたものがあ
る。この樹脂は、耐衝撃性に優れていること、軽量であ
ること、染色性に優れていること、切削性および研磨性
等の加工性が良好であること等、種々の特徴を有してい
る。しかしながら、この樹脂は、屈折率ｎ_d が１．５０
前後と低く、レンズの中心厚やコバ厚が厚くなってしま
い、より屈折率の高いレンズ用樹脂が望まれていた。

【０００３】D.A.C 樹脂よりも屈折率を高くしたものと
して、樹脂中に硫黄原子を導入した、ポリチオウレタン
樹脂（特開昭６３−４６２１３等）や含硫Ｏ−（メタ）
アクリレート樹脂（特開平１−１２８９６６、特開平３
−２１７４１２、特開平４−１６１４１０等）やチオ
（メタ）アクリレート樹脂（特開昭６３−１８８６６
０、特公平３−５９０６０等）が知られている。ポリチ
オウレタン樹脂は、高屈折率で耐衝撃性が良好である
等、バランスの優れた樹脂であるものの、短時間で重合
させようとすると、重合が不均一になりやすく、光学的
に均質なレンズを得るには重合時間を長くする必要があ
った。さらに、樹脂を切削研磨して加工する際には、作
業時に硫黄臭がすることもあった。

【０００４】含硫Ｏ−（メタ）アクリレート樹脂やチオ
（メタ）アクリレート樹脂は、紫外線等で短時間で重合
させることも可能であるが、一般に、得られる樹脂の強
度、耐衝撃性が充分なものとはいえず、脆くて割れやす
い樹脂になることがあった。特に近年では、眼鏡レンズ
に広く利用されているツーポイント加工に適した加工強
度を有することがもとめられ、また眼鏡レンズの中心厚
は小さくなる傾向にあり、より大きな強度、耐衝撃性を
有する樹脂が望まれていた。さらに、チオ（メタ）アク
リレート化合物の安定性が低く、ゲル化が起こったり、
また重合が暴走しやすく、制御しにくい等、作業性が煩
雑になることがあった。このため、これらの問題点を解
決すべくさらなる改良が望まれていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、短時
間重合が可能で、良好な光学物性、特に高い屈折率をも
ち、耐衝撃性に非常に優れ、かつ、加工時に臭気の少な
い光学用樹脂を与え、ハンドリング性に優れた光学樹脂
用組成物を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述の課
題を解決するために、鋭意検討した結果、ある種の含硫
Ｏ−（メタ）アクリレート化合物が有効であることを見
出し、本発明を完成するに至ったものである。即ち、本
発明は、下記式（１）（化１１）で表される含硫Ｏ−
（メタ）アクリレート化合物に関するものである。

【０００７】

【化１１】 〔式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｌは１〜
３の整数を示し、Ｂはメチン基、−Ｃ（＝Ｏ）−基また
は−ＮＨＣ（＝Ｏ）−基を表し、Ｂがメチン基の場合
は、ｎは２であり、ｍは１又は２であり、Ａは下記式
（化１２）で表されるいずれかの基を表し、

【０００８】

【化１２】 （上式中、ｍは１又は２を示し、各環は１個以上の炭素
数１又は２のアルキル基、アルキルチオ基またはアルコ
キシ基で置換されていてもよく、ｐ、ｑは０又は１を表
す。但し、ｐが１の時、ｍは１である。） Ｂが−Ｃ（＝Ｏ）−基の場合、ｎは１であり、ｍは２ま
たは３であり、Ａは下記式（化１３）で表されるいずれ
かの基を表し、

【０００９】

【化１３】 （式中、ｒ、ｓは１〜３の整数を表す） Ｂが−ＮＨＣ（＝Ｏ）−基の場合、ｎは１であり、ｍは
２であり、Ａは下記式（化１４）で表されるいずれかの
基

【００１０】

【化１４】 （式中、ｒ、ｓは１〜３の整数を表す）を表す。〕 また、本発明は、下記式（２）（化１５）で表されるチ
オール化合物を、分子内に少なくとも１つのアルデヒド
基を有する化合物を用いてジチオアセタール化した後、
分子内に少なくとも２つのカルボキシル基を有する化合
物を用いてチオエステル化した後、または、分子内に２
つのイソシアナート基を有する化合物を用いてチオウレ
タン化した後、脱ハロゲン化水素化することを特徴とす
る前記式（１）の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物
の製造方法に関するものである。

【００１１】

【化１５】 （式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を表し、Ｒは水素
原子またはメチル基を表し、ｌは１〜３の整数を表す） さらにまた、本発明は、前記の含硫Ｏ−（メタ）アクリ
レート化合物を含有する光学樹脂用組成物、該組成物を
重合させて得られる含硫樹脂、および、該樹脂からなる
レンズに関するものである。また、前記式（２）の化合
物も新規なものであり、前記式（１）の含硫Ｏ−（メ
タ）アクリレート化合物の中間体として本発明に包含さ
れる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の式（１）で表される含硫Ｏ−（メタ）アクリレ
ート化合物は、前記式（２）で表されるチオール化合物
を用いて製造することができる。すなわち、メルカプト
基と反応しうる官能基を有する化合物、例えば、アルデ
ヒド類、カルボン酸類、イソシアネート類と、ジチオア
セタール化、チオエステル化またはチオウレタン化した
後、さらに脱ハロゲン化水素化して得ることができる。

【００１３】本発明の式（２）で表されるチオール化合
物は、以下の方法によって得ることができる。すなわ
ち、２−メルカプトエタノール、３−メルカプトプロパ
ノール等と、３−クロロプロピオン酸、３−ブロモプロ
ピオン酸、または３−クロロ−２−メチルプロピオン
酸、３−ブロモ−２−メチルプロピオン酸等から、溶媒
中で、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等の触媒の
存在下で、１０〜２００℃に加熱し、生成する水を除去
しながら脱水エステル化させて得ることができる。ま
た、原料となる２−メルカプトエタノール、３−メルカ
プトプロパノール等の安定性を考慮し、反応系内をあま
り加熱しないで、２０〜４００mmＨｇの減圧下で脱水エ
ステル化を行うことによっても得ることができる。

【００１４】本発明のチオール化合物を利用することに
より、容易に分子内に硫黄原子を導入することができ、
得られる化合物の屈折率をさらに向上させることが可能
となる。また、本発明のチオール化合物は、有するメル
カプト基を反応させた後には、脱ハロゲン化水素化する
事により、Ｏ−（メタ）アクリレート化合物へ誘導で
き、メルカプト基と反応しうる官能基を有する化合物、
例えば、アルデヒド類、カルボン酸類、イソシアネート
類から、容易に、しかも高純度で、所望の含硫Ｏ−（メ
タ）アクリレート化合物へと導くことが可能である。

【００１５】本発明の式（１）で表される含硫Ｏ−（メ
タ）アクリレート化合物の内、Ｂがメチン基の場合は、
分子内に少なくとも１つのアルデヒド基を有する化合物
と、上記式（２）のチオール化合物とから次の２段階の
方法で製造できる。まず、少なくとも１つのアルデヒド
基を有する化合物と上記のチオール化合物とを、溶媒中
で、ｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸等の触媒の存
在下で、１０〜２００℃に加熱し、生成する水を除去し
ながら、脱水ジチオアセタール化させる。ついで、塩基
を、−２０℃〜６０℃で反応させ、脱ハロゲン化水素に
より（メタ）アクリル化する方法によって製造される。
この後段の（メタ）アクリル化反応で用いるハロゲン水
素補足剤としての塩基は特に限定されないが、一般に使
用される塩基として、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン等のトリアルキルアミンや、ピリジン、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等が挙げられる。

【００１６】分子内に少なくとも１つのアルデヒド基を
有する化合物は、容易に入手可能なアルデヒド化合物、
以下の構造を有する化合物（化１６）が挙げられる。

【００１７】

【化１６】 （上式中、ｍは１又は２を示し、各環は１個以上の炭素
数１又は２のアルキル基またはアルコキシ基で置換され
ていてもよく、ｐ、ｑは０又は１を表す。但し、ｐが１
の時、ｍは１である。）

【００１８】具体的には、ベンズアルデヒド、２−メチ
ルベンズアルデヒド、３−メチルベンズアルデヒド、４
−エチルベンズアルデヒド、２，４−ジメチルベンズア
ルデヒド、２，５−ジメチルベンズアルデヒド、３，４
−ジメチルベンズアルデヒド、２，４，５−トリメチル
ベンズアルデヒド、２，４，６−トリメチルベンズアル
デヒド、２−メトキシベンズアルデヒド、３−メトキシ
ベンズアルデヒド、４−メトキシベンズアルデヒド、
２，３−ジメトキシベンズアルデヒド、２，４−ジメト
キシベンズアルデヒド、２，５−ジメトキシベンズアル
デヒド、３，４−ジメトキシベンズアルデヒド、３，５
−ジメトキシベンズアルデヒド、２−エトキシベンズア
ルデヒド、３−エトキシベンズアルデヒド、４−エトキ
シベンズアルデヒド、フタルアルデヒド、イソフタルア
ルデヒド、テレフタルアルデヒド、２−メチルチオベン
ズアルデヒド、４−メチルチオベンズアルデヒド、４−
メチルチオメチルベンズアルデヒド、フェニルアセトア
ルデヒド、２−チオフェンアルデヒド、３−チオフェン
アルデヒド、３−メチル−２−チオフェンアルデヒド、
４−メチル−２−チオフェンアルデヒド、５−メチル−
２−チオフェンアルデヒド、５−エチル−２−チオフェ
ンアルデヒド、５−メチルチオチオフェン−２−アルデ
ヒド、２，３−チオフェンジアルデヒド、２，５−チオ
フェンジアルデヒド、１−ナフトアルデヒド、２−ナフ
トアルデヒド、１，２−ナフタレンジアルデヒド、２，
３−ナフタレンジアルデヒド等を使用することができ
る。本発明の式（１）で表される含硫Ｏ−（メタ）アク
リレート化合物は、主鎖の構造が同一になるため、分子
内の架橋点間距離がほぼ同じであり、得られる樹脂の熱
物性、機械物性などを余り変化させずに、母骨格となる
アルデヒド化合物を変えることにより、光学物性の異な
る樹脂を選択することが可能となる。

【００１９】同様にして、本発明の式（１）で表される
含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物の内、Ｂが−Ｃ
（＝Ｏ）−基である場合は、分子内に少なくとも２つの
カルボキシル基を有する含硫カルボン酸化合物と、上記
式（２）のチオール化合物とから、チオエステル化、脱
ハロゲン化水素化の２段階の方法で製造できる。さら
に、本発明の式（１）で表される含硫Ｏ−（メタ）アク
リレート化合物の内、Ｂが−ＮＨＣ（＝Ｏ）−基である
場合は、分子内に２つのイソシアネート基を有する化合
物と、上記式（２）のチオール化合物とから、チオウレ
タン化、脱ハロゲン化水素化の２段階の方法で製造でき
る。

【００２０】Ｂが−Ｃ（＝Ｏ）−基であるとき、含硫Ｏ
−（メタ）アクリレート化合物を得るための、母骨格と
なる含硫カルボン酸は、容易に入手可能な含硫カルボン
酸であり、下記構造式（化１７）で表される化合物であ
る。

【００２１】

【化１７】 （上式中、ｒ、ｓはそれぞれ１〜３の整数を表す。）

【００２２】具体的には、チオジグリコール酸、チオジ
プロピオン酸、４，４−チオジブタン酸、ジチオジグリ
コール酸、ジチオジプロピオン酸、４，４−ジチオジブ
タン酸、メチレンビス（チオグリコール酸）、メチレン
ビス（チオプロピオン酸）、メチレンビス（チオブタン
酸）、エチレンビス（チオグリコール酸）、エチレンビ
ス（チオプロピオン酸）、エチレンビス（チオブタン
酸）、メチントリス（チオグリコール酸）、メチントリ
ス（チオプロピオン酸）、メチントリス（チオブタン
酸）等を使用することができる。これらの含硫Ｏ−（メ
タ）アクリレート化合物は、分子内にエステル結合を多
く含んでいるため、親水性が増し、レンズにした場合に
は、染色性の向上が期待できる。

【００２３】また、Ｂが−ＮＨＣ（＝Ｏ）−基であると
き、含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物を得るため
の、母骨格となるイソシアネート化合物は、下記式（化
１８）で表される化合物である。

【００２４】

【化１８】 （上式中、ｒ、ｓはそれぞれ１〜３の整数を表す。）

【００２５】具体的には、ジイソシアネートメチルスル
フィド、ジイソシアネートエチルスルフィド、ジイソシ
アネートプロピルスルフィド、ジイソシアネートメチル
ジスルフィド、ジイソシアネートエチルジスルフィド、
ジイソシアネートプロピルジスルフィド、ビス（イソシ
アネートメチルチオ）メタン、ビス（イソシアネートエ
チルチオ）メタン、ビス（イソシアネートプロピルルチ
オ）メタン等が挙げられる。これらの含硫Ｏ−（メタ）
アクリレート化合物は、分子内にチオウレタン結合を有
し、屈折率の向上、耐衝撃性などの樹脂強度のさらなる
向上が期待できる。

【００２６】これらの反応においては、必要に応じて、
有機溶媒を用いてもよい。使用される有機溶媒は、特に
限定されないが、反応に必要な原料類との反応性を有し
ていないものが使用できる。有機溶媒としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタ
ン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化
エチレン等の脂肪族または芳香族炭化水素類、あるいは
ハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等が挙げられる。使用する有機溶媒の種類は、
使用する原料、反応の種類等により、適宜決められる。
これらのチオール化合物、アルデヒド化合物、含硫カル
ボン酸化合物およびイソシアネート化合物は、必要に応
じて蒸留などの精製処理を行うこともできる。

【００２７】これらの方法によって得られる本発明の含
硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物は、チオ（メタ）ア
クリレート化合物と比べると、モノマーとしての安定性
が向上しており、ゲル化などが比較的起こりにくく、そ
の取り扱いが容易である。

【００２８】本発明の光学樹脂用組成物は、本発明の含
硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物を含有するものであ
り、また、本発明の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合
物、および、これと共重合可能な単量体あるいはポリチ
オール化合物の少なくとも１種とを含有するものであ
る。他の単量体あるいはポリチオール化合物を含有する
組成物の場合、本発明の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート
化合物は、含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物と、他
の単量体あるいはポリチオール化合物の全量に対し、２
０重量％以上、好ましくは４０重量％以上、より好まし
くは６０重量％以上である。

【００２９】本発明の含硫（メタ）アクリレート化合物
と共重合可能な単量体あるいはポリチオール化合物は、
屈折率等の光学物性の調整や、耐衝撃性、比重等の諸物
性を調整するためや、モノマーの粘度、その他の取扱い
を調整するためなど、目的に応じて選択され、特に限定
はされない。また、これらの共重合可能な単量体あるい
はポリチオール化合物は、単独で使用することも、また
は、２種以上を混合して使用する事もできる。

【００３０】共重合可能な単量体としては、例えば、ベ
ンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブチキ
シエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルア
クリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニ
ルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレン
グリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメ
タクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラ
エチレングリコールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、エチレングリコール
ビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビス
グリシジルメタクリレート、ビスフェノールＡジアクリ
レート、ビスフェノールＡジメタクリレート、２，２−
ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキ
シジエトキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＦジ
アクリレート、ビスフェノールＦジメタクリレート、
１，１−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）メ
タン、１，１−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェ
ニル）メタン、１，１−ビス（４−アクリロキシジエト
キシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−メタクリロ
キシジエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−
アクリロキシエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビ
ス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）スルホン、
１，１−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）
スルホン、１，１−ビス（４−メタクリロキシジエトキ
シフェニル）スルホン、ジメチロールトリシクロデカン
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グ
リセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、
メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレー
ト、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオー
ルジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレ
ート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メ
ルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の（メ
タ）アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、
ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリ
ルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、
スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモス
チレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、３，９
−ジビニルスピロビ（ｍ−ジオキサン）等のビニル化合
物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられる。

【００３１】ポリチオール化合物としては、１，２−エ
タンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，
２，３−プロパントリチオール、２，３−ジメルカプト
−１−プロパノール、ジエチレングリコールビス（２−
メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス
（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプ
ロパンビス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロ
ールプロパンビス（３−メルカプトプロピオネート）、
ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセ
テート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メル
カプトプロピオネート）、１，２−ジメルカプトベンゼ
ン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカ
プトベンゼン、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベン
ゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，
３−トリメルカプトベンゼン、１，２，４−トリメルカ
プトベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、
１，２，３−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，２，４−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、
１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、
４，４’−チオビスベンゼンチオール、ビス（２−メル
カプトエチル）スルフィド、ビス（２−メルカプトエチ
ルチオ）メタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチル
チオ）エタン、１，３−ビス（２−メルカプトエチルチ
オ）プロパン、１，２，３−トリス（２−メルカプトエ
チルチオ）プロパン、テトラキス（２−メルカプトエチ
ルチオメチル）メタン、１，２−ビス（２−メルカプト
エチルチオ）−３−メルカプトプロパン、４，８−ビス
（メルカプトメチル）−３，６，９−トリチア−１，１
１−ウンデカンジチオール、２，５−ジメルカプト−
１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−１，
４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−２，５−
ジメチル−１，４−ジチアン等が挙げられる。共重合可
能な単量体として、式（３）（化１９）で表される化合
物が好ましく用いられる。

【００３２】

【化１９】 〔式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｔ、ｕは
０〜４の整数を表し、Ｅは、−ＣＨ₂ −、−Ｃ（Ｃ
Ｈ₃ ）₂ −、−Ｓ−、−ＳＯ₂ −を表す。〕

【００３３】本発明の光学用樹脂は、本願の光学樹脂用
組成物を重合させて得られるものであり、本発明の含硫
Ｏ−（メタ）アクリレート化合物を単独で重合させたも
の、あるいは、含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物を
他の共重合可能な単量体、あるいはポリチオール化合物
と共重合させたものである。本発明の光学用樹脂を得る
ための重合方法としては、特に限定されることはなく、
公知のラジカル重合方法をとることができる。この場合
の重合開始手段としては、種々の過酸化物やアゾ化合物
等のラジカル開始剤の使用、あるいは、紫外線、可視光
線、α線、β線、γ線、電子線等の照射、あるいはこれ
らの併用が挙げられる。

【００３４】ラジカル開始剤としては、公知のものが使
用でき、代表的なものとしては、ベンゾイルパーオキサ
イド、ジクミルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサ
イド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシアゼレート、ｔ−ブチ
ルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチル
パーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエ
ート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチル
ヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ビ
ス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカー
ボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネ
ート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のア
ゾ化合物等が挙げられ、これらは単独、または２種以上
混合して使用することもできる。

【００３５】紫外線等を照射して重合を開始させる場合
には、公知の光開始剤等を使用することもできる。光開
始剤の代表的なものとしては、ベンゾフェノン、４，４
−ジエチルアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−
フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベン
ゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香
酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビスアシルフォ
スフィンオキサイド等が挙げられ、これらは単独、また
は２種以上混合して、さらに上述のラジカル開始剤と併
用して使用することもできる。

【００３６】本発明の光学用樹脂（例えば、プラスチッ
クレンズ）を得る際の代表的な重合方法としては、注型
重合が挙げられる。即ち、ガスケットまたはテープ等で
保持されたモールド間に、ラジカル開始剤または光開始
剤、あるいはこの両方を含む本発明の光学樹脂用組成物
（モノマー混合物ともいう）を注入する。この時、必要
に応じて、脱泡等の処理を行っても何ら差し支えはな
い。次いで、紫外線等を照射するか、または、オーブン
中で加熱するか、あるいは、これらを併用して硬化さ
せ、重合物を取り出すことができる。

【００３７】本発明の光学用樹脂を得るための重合法、
重合条件等は、用いる開始剤等の種類や量、単量体の種
類や割合によって、一概に限定する事はできない。例え
ば、紫外線等を照射する場合、モノマー混合物の過熱を
防ぐために冷却等の処理を行うこともあり、また、重合
に必要な波長域のみを照射させるため、特定波長以下を
カットできる波長カットフィルター等も使用することも
できる。また、オーブン中で加熱する場合には、最適な
温度条件を選択するため、温度制御することもある。オ
ーブン中で加熱する場合、一般的には、低温から徐々に
加熱し、高温で保持して重合を完結させる方法が採用さ
れる。また、重合の時間についても、使用する開始剤等
の種類や量、単量体の種類や割合により影響を受けるた
め、一概には限定することはできない。一般的には、紫
外線等の照射により重合時間の短縮を図ることは可能で
ある。

【００３８】本発明の樹脂の成形の際には、目的に応じ
て公知の成形法におけると同様に、鎖延長剤、架橋剤、
光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色防止剤、染
料、香料、充填剤などの種々の物質を添加してもよい。
また、取り出した樹脂成形体については、必要に応じ
て、アニール等の処理を行ってもよい。

【００３９】本発明の含硫Ｏ−（メタ）アクリレートを
用いて得られた光学用樹脂は、高屈折率で、低分散であ
り、耐熱性、耐候性に優れ、特に耐衝撃性に非常に優れ
た特徴を有し、また、加工時に発生する臭気が少ないと
いう特徴を有している。さらに、本発明の樹脂は、注型
重合時のモールドを変えることにより種々の形態の成形
体として得ることができ、眼鏡レンズ、カメラレンズ等
の光学素子素材、透明樹脂としての各種の用途に使用す
ることができる。特に、眼鏡レンズ、カメラレンズ等の
光学素子素材として好適である。さらに、本発明の光学
用樹脂を用いたレンズでは、必要に応じ、反射防止、高
硬度付与、耐摩耗性向上、耐薬品性向上、防曇性付与、
あるいは、ファッション性付与等の改良を行うため、表
面研磨、帯電防止処理、ハードコート処理、無反射コー
ト処理、染色処理等の物理的あるいは化学的処理を施す
ことができる。

【００４０】

【実施例】以下、本発を実施例により具体的に説明す
る。尚、得られた光学用樹脂の性能試験のうち、屈折
率、アッベ数、比重、耐衝撃性、研磨時の臭気、外観
は、以下の試験法により評価した。 ・屈折率、アッベ数：プルフリッヒ屈折計を用い２０℃
で測定した。 ・外 観：目視により観察した。 ・耐衝撃性：作製したレンズの中心部分に、高さ１２７
ｃｍから種々の重量の鉄球を落下させて耐衝撃性を評価
した。レンズが割れなかった最大の鉄球の重量を表し
た。 ・研磨時の臭気：レンズのコバ部分をエッジャーによっ
て切削、研磨したときに不快な硫黄臭があるか否かを次
のようにして評価した。 ○ ： 不快な硫黄臭が全くしなかったもの △ ： 硫黄臭が少しするもの × ： 不快な硫黄臭がするもの

【００４１】実施例１ 攪拌棒、温度計、コンデンサーを付けたディーンスター
ク管を備えた反応フラスコに、３−クロロプロピオン酸
６５．１ｇ（０．６０モル）、２−メルカプトエタノー
ル５６．３ｇ（０．７２モル）、トルエン４００ｍｌ、
ｐ−トルエンスルホン酸３．０ｇを仕込み、４０〜７０
ｍｍＨｇの減圧下で、４０℃で還流するように圧力を調
整して、９時間、脱水エステル化反応を行った。次に、
５％重炭酸ソーダ水溶液で有機層を洗浄したのち、更に
水で数回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥したのち、トルエンを減圧下に留去して、無色の液体
の下記式（化２０）で表される３−クロロプロピオン酸
（２−メルカプトエチルエステル）９７．７ｇ（０．５
８モル）を得た。

【００４２】

【化２０】 このものの元素分析値を次に示した。 組成：Ｃ₅ Ｈ₉ ＣｌＯ₂ Ｓ Ｃ Ｈ Ｓ Ｃｌ 分析値（％） ３５．４ ５．３ １９．３ ２１．１ 計算値（％） ３５．６ ５．４ １９．０ ２１．０ また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図１）に示した。

【００４３】実施例２ 攪拌棒、温度計、コンデンサーを付けたディーンスター
ク管を備えた反応フラスコに、ベンズアルデヒド２１．
２ｇ（０．２０モル）、３−クロロプロピオン酸（２−
メルカプトエチルエステル）７０．８ｇ（０．４２モ
ル）、ｐ−トルエンスルホン酸０．３ｇ、トルエン３０
０ｍｌを仕込み、８０〜１１０ｍｍＨｇの減圧下で、５
０℃で還流するように圧力を調整して、２時間、ジチオ
アセタール化反応を行った。冷却後、水で洗浄し、次い
で５％重炭酸ソーダ水溶液で有機層を洗浄したのち、更
に水で数回洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥したのち、トルエンを減圧下に留去して、無色の液
体８２．１ｇ（０．１９モル）を得た。これをアセトン
２００ｍｌに溶解して、攪拌棒、温度計、滴下ロートを
付けた反応フラスコに仕込み、１０℃以下に冷却して攪
拌しながら、トリエチルアミン４３．０ｇ（０．４２モ
ル）を徐々に滴下した。滴下終了後、さらに２５℃で、
１０時間攪拌した。その後、トルエン２００ｍｌと水２
００ｍｌを加えて、反応生成物を有機層に抽出して分液
した後、有機層を希塩酸、希重炭酸ソーダ水溶液、水で
洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、トル
エンを減圧留去して、目的の無色透明の下記式（化２
１）で表される含硫Ｏ−アクリレート化合物、ビス（２
−アクリロイルオキシエチル）ジチオアセタールベンゼ
ン６６．９ｇ（０．１９０モル）を得た。

【００４４】

【化２１】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図２）に示した。

【００４５】実施例３ 実施例２のベンズアルデヒド２１．２ｇ（０．２０モ
ル）を４−メチルチオベンズアルデヒド３０．４ｇ
（０．２０モル）に変えた以外は、実施例２と同様にし
て、ジチオアセタール化反応、アクリル化反応を行い、
下記構造式（化２２）で表される無色透明の含硫Ｏ−ア
クリレート化合物、４−メチルチオベンズアルデヒドビ
ス（２−アクリロイルオキシエチル）ジチオアセタール
７６．４ｇ（０．１９２モル）を得た。

【００４６】

【化２２】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図３）に示した。

【００４７】実施例４ 実施例２のベンズアルデヒド２１．２ｇ（０．２０モ
ル）を１−ナフトアルデヒド３１．２ｇ（０．２０モ
ル）に変えた以外は、実施例２と同様にして、ジチオア
セタール化反応、アクリル化反応を行い下記構造式（化
２３）で表される無色透明の含硫Ｏ−アクリレート化合
物、１−ナフトアルデヒドビス（２−アクリロイルオキ
シエチル）ジチオアセタール７８．３ｇ（０．１９５モ
ル）を得た。

【００４８】

【化２３】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図４）に示した。

【００４９】実施例５ 実施例２のベンズアルデヒド２１．２ｇ（０．２０モ
ル）を２−チオフェンアルデヒド２２．４ｇ（０．２０
モル）に変えた以外は、実施例２と同様にして、ジチオ
アセタール化反応、アクリル化反応を行い、下記構造式
（化２４）で表される無色透明の含硫Ｏ−アクリレート
化合物、２−ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ジ
チオアセタールチオフェン５４．１ｇ（０．１５１モ
ル）を得た。

【００５０】

【化２４】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図５）に示した。

【００５１】実施例６ 実施例２のベンズアルデヒド２１．２ｇ（０．２０モ
ル）をフェニルアセトアルデヒド２４．０ｇ（０．２０
モル）に変えた以外は、実施例２と同様にして、ジチオ
アセタール化反応、アクリル化反応を行い下記構造式
（化２５）で表される無色透明の含硫Ｏ−アクリレート
化合物、フェニルメチレンビス（２−アクリロイルオキ
シエチル）ジチオアセタール６５．２ｇ（０．１７８モ
ル）を得た。

【００５２】

【化２５】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図６）に示した。

【００５３】実施例７ 攪拌棒、温度計、滴下ロートを備えた反応フラスコに、
メチレンビス（チオグリコール酸）３９．３ｇ（０．２
０モル）、３−クロロプロピオン酸（２−メルカプトエ
チルエステル）８１．０ｇ（０．４８モル）、ジメチル
アミノピリジン０．１ｇ、クロロホルム４００ｍｌを仕
込み、水浴下で攪拌しながら、クロロホルム１００ｍｌ
に溶解したジシクロヘキシルカルボジイミド９０．８ｇ
（０．４４モル）をゆっくりと滴下した。滴下終了後、
さらに２５℃で、１５時間攪拌した。過剰のジシクロヘ
キシルカルボジイミドを酢酸で潰した後に、生成したウ
レアを吸引濾過で除いた。クロロホルムを減圧下に留去
した後に、トルエン３００ｍｌに溶解した。５％重炭酸
ソーダ水溶液で有機層を洗浄したのち、更に水で洗浄
し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、ト
ルエンを減圧下に留去して、無色の液体８８．６ｇ
（０．１８モル）を得た。これをアセトン３００ｍｌに
溶解して、攪拌棒、温度計、滴下ロートを付けた反応フ
ラスコに仕込み、１０℃以下に冷却して攪拌しながら、
トリエチルアミン３７．８ｇ（０．３７モル）を徐々に
滴下した。滴下終了後、さらに２５℃で、１０時間攪拌
した。その後、トルエン４００ｍｌと水３００ｍｌを加
えて、反応生成物を有機層に抽出して分液した後、有機
層を希塩酸、希重炭酸ソーダ水溶液、水で洗浄した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、トルエンを減圧留
去して、目的の下記構造式（化２６）で表される無色透
明の含硫Ｏ−アクリレート化合物、メチレンビス（チオ
グリコール酸アクリロイルオキシエチルチオエステル）
５９．２ｇ（０．１４モル）を得た。

【００５４】

【化２６】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図７）に示した。

【００５５】実施例８ 実施例７のメチレンビス（チオグリコール酸）３９．３
ｇ（０．２０モル）をチオジグリコール酸３０．０ｇ
（０．２０モル）に変えた以外は、実施例１と同様にし
て、脱水エステル化反応、アクリル化反応を行い、無色
透明の含硫Ｏ−アクリレート化合物、チオジグリコール
酸ビス（アクリロイルオキシエチルチオエステル）（化
２７）５２．７ｇ（０．１４モル）を得た。

【００５６】

【化２７】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図８）に示した。

【００５７】実施例９ 実施例６のメチレンビス（チオグリコール酸）３９．３
ｇ（０．２０モル）をメチントリス（チオグリコール
酸）５７．３ｇ（０．２０モル）に変え、さらに使用し
た他の原料は、３−クロロプロピオン酸（２−メルカプ
トエチルエステル）を０．７２モル、ジシクロヘキシル
カルボジイミドを０．６６モル、トリエチルアミンを
０．５９モルに変えた以外は、実施例１と同様にして、
脱水エステル化反応、アクリル化反応を行い、無色透明
の含硫Ｏ−アクリレート化合物、メチントリス〔チオグ
リコール酸（アクリロイルオキシエチルチオエステ
ル）〕（化２８）１００．６ｇ（０．１６モル）を得
た。

【００５８】

【化２８】 このものの元素分析値を次に示した。 また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図９）に示した。

【００５９】実施例１０ 攪拌棒、温度計、滴下ロートを備えた反応フラスコに、
ビス（イソシアネートメチルチオ）メタン１９．０ｇ
（０．１０モル）、、ジメチルチンジクロライド１５ｍ
ｇ、トルエン１００ｍｌを仕込み、水浴下で攪拌しなが
ら、３−クロロプロピオン酸（２−メルカプトエチルエ
ステル）３３．７ｇ（０．２０モル）をゆっくりと滴下
した。滴下終了後、そのまま２時間攪拌し、さらに５０
℃で、２時間攪拌した。冷却した後、生成してきた結晶
物を濾過して洗浄した後に乾燥させた。白色の結晶４
２．５ｇ（０．０８モル）を得た。これをアセトン２０
０ｍｌに溶解して、攪拌棒、温度計、滴下ロートを付け
た反応フラスコに仕込み、１０℃以下に冷却して攪拌し
ながら、トリエチルアミン１７．１ｇ（０．１７モル）
を徐々に滴下した。滴下終了後、さらに２５℃で、１０
時間攪拌した。その後、トルエン２００ｍｌと水２００
ｍｌを加えて、反応生成物を有機層に抽出して分液した
後、有機層を希塩酸、希重炭酸ソーダ水溶液、水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、トルエン
を減圧留去して目的の白色結晶の含硫Ｏ−アクリレート
化合物（化２９）２９．７ｇ（０．０６５モル）を得
た。

【００６０】

【化２９】 このものの元素分析値を次に示した。 組成：Ｃ₁₅Ｈ₂₂Ｎ₂ Ｏ₆ Ｓ₄ Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 分析値（％） ３９．８ ５．１ ６．０ ２８．５ 計算値（％） ３９．６ ４．９ ６．２ ２８．２ また、 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 溶媒中、テトラメチル
シラン基準）チャートを（図１０）に示した。

【００６１】実施例１１〜１９ 実施例２〜１０で得られた化合物５０ｇに対して、光開
始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン５０〜１００ｍｇを添加してよく混
合した。これらを十分に脱泡した後、ガラスモールドと
ガスケットよりなるモールド型に注入した。紫外線を１
０〜６０秒照射した後１２０℃で一時間加熱して重合を
行った。重合終了後、徐々に冷却し、成型体をモールド
から取り出した。得られた成型体（レンズ）の物性を表
−１（表１）に示した。

【００６２】

【表１】

【００６３】実施例２０ 実施例２で得られたベンズアルデヒドビス（２−アクリ
ロイルオキシエチル）ジチオアセタール３５ｇに対し
て、ビス（４−アクロキシジエトキシフェニル）メタン
１５ｇと光開始剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン５０ｍｇを添加してよ
く混合した。これを十分に脱泡した後、ガラスモールド
とテープよりなるモールド型に注入した。紫外線を１０
秒間照射したのち、１２０℃で１時間加熱し、重合を行
った。重合終了後、徐々に冷却し、成形体をモールドよ
り取り出した。得られた成形体（レンズ）の評価結果
を、表−２（表２）に示した。

【００６４】実施例２１〜２６ 表−２に示したモノマー組成物を使用した以外は、実施
例２０と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得
た。これらのプラスチックレンズの評価結果を実施例２
０の評価結果とともに表−２に示した。表−２から、本
実施例２０〜２６のプラスチックレンズは、無色透明で
あり、屈折率、アッベ数、比重のバランスがよく、耐衝
撃性の非常に優れ、また、樹脂を研磨する際に不快な硫
黄臭が全くないものであった。

【００６５】比較例１〜３ 表−２に示したモノマー組成物を使用した以外は、実施
例２０と同様の操作を行い、プラスチックレンズを得
た。これらのプラスチックレンズの評価結果を実施例の
評価結果とともに表−２に示した。表−２から、比較例
のプラスチックレンズは、本実施例２０〜２６と比較す
ると、耐衝撃性は劣り、また、樹脂を研磨する際に硫黄
臭があるものであった。

【００６６】

【表２】 ＢＳＦＡ ；ビス（４−アクロキシジエトキシフェニ
ル）メタン ＴＥＧＤＭＡ；テトラエチレングリコールジメタクリレ
ート ＤＴＡＥＴ；２，５−ビス（アクリロキシエチルチオメ
チル）−１，４−ジチアン ＡＥＴＥ ；ビス（アクリロキシエチルチオ）エタン ＸＤＭＥＴ；ｐ−ビス（β−メタクリロキシエチルチ
オ）キシリレン ＢＳＡＭ ；２，２−ビス（４−メタクロキシジエトキ
シフェニル）プロパン ＤＣＰＡ ；ジメチロールトリシクロデカンジアクリレ
ート

【００６７】

【発明の効果】本発明の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート
化合物は新規な化合物であり、モノマーの安定性が向上
し、作業性に優れている。また、本発明の光学樹脂用組
成物は短時間重合が可能であり、良好な光学物性、特に
高い屈折率をもち、耐衝撃性に非常に優れ、かつ、加工
時に臭気の少ない光学用樹脂を与える。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図２】実施例２で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図３】実施例３で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図４】実施例４で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図５】実施例５で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図６】実施例６で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図７】実施例７で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図８】実施例８で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図９】実施例９で得られた含硫Ｏ−アクリレート化合
物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

【図１０】実施例１０で得られた含硫Ｏ−アクリレート
化合物の ¹Ｈ−ＮＭＲチャート。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｆ 20/38 Ｃ０８Ｆ 20/38 290/04 290/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 (72)発明者 今井 雅夫 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 藤井 謙一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（１）（化１）で表される含硫Ｏ
   −（メタ）アクリレート化合物。 【化１】 〔式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｌは１〜
   ３の整数を示し、Ｂはメチン基、−Ｃ（＝Ｏ）−基また
   は−ＮＨＣ（＝Ｏ）−基を表し、Ｂがメチン基の場合
   は、ｎは２であり、ｍは１又は２であり、Ａは下記式
   （化２）で表されるいずれかの基を表し、 【化２】 （上式中、ｍは１又は２を示し、各環は１個以上の炭素
   数１又は２のアルキル基、アルキルチオ基またはアルコ
   キシ基で置換されていてもよく、ｐ、ｑは０又は１を表
   す。但し、ｐが１の時、ｍは１である。） Ｂが−Ｃ（＝Ｏ）−基の場合は、ｎは１であり、ｍは２
   または３であり、Ａは下記式（化３）で表されるいずれ
   かの基を表し、 【化３】 （式中、ｒ、ｓは１〜３の整数を表す） Ｂが−ＮＨＣ（＝Ｏ）−基の場合は、ｎは１であり、ｍ
   は２であり、Ａは下記式（化４）で表されるいずれかの
   基 【化４】 （式中、ｒ、ｓは１〜３の整数を表す）を表す。〕
2. 【請求項２】 下記式（２）（化５）で表されるチオー
   ル化合物を、ジチオアセタール化 、チオエステル化ま
   たはチオウレタン化した後、脱ハロゲン化水素化するこ
   とを特徴とする請求項１記載の含硫Ｏ−（メタ）アクリ
   レート化合物の製造方法。 【化５】 （式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を表し、Ｒは水素
   原子またはメチル基を表し、ｌは１〜３の整数を表す）
3. 【請求項３】 下記式（化６）のいずれかで表される分
   子内に少なくとも１つのアルデヒド基を有する化合物を
   用いて、ジアセタール化することを特徴とする請求項２
   記載の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物の製造方
   法。 【化６】 （上式中、ｍは１又は２を示し、各環は１個以上の炭素
   数１又は２のアルキル基またはアルコキシ基で置換され
   ていてもよく、ｐ、ｑは０又は１を表す。但し、ｐが１
   の時、ｍは１である。）
4. 【請求項４】 下記式（化７）のいずれかで表される分
   子内に少なくとも２つのカルボキシル基を有する化合物
   を用いて、チオエステル化することを特徴とする請求項
   ２記載の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物の製造方
   法。 【化７】 （上式中、ｒ、ｓはそれぞれ１〜３の整数を表す。）
5. 【請求項５】 下記式（化８）のいずれかで表される分
   子内に２つのイソシアナート基を有する化合物を用い
   て、チオウレタン化することを特徴とする請求項２記載
   の含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物の製造方法。 【化８】 （上式中、ｒ、ｓはそれぞれ１〜３の整数を表す。）
6. 【請求項６】 請求項１記載の含硫Ｏ−（メタ）アクリ
   レート化合物を含有する光学樹脂用組成物。
7. 【請求項７】 含硫Ｏ−（メタ）アクリレート化合物と
   共重合可能な単量体あるいはポリチオール化合物の少な
   くとも１種を含有する請求項６記載の光学樹脂用組成
   物。
8. 【請求項８】 共重合可能な単量体が下記式（３）（化
   ９）で表される化合物を含有するものである請求項７記
   載の光学樹脂用組成物。 【化９】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｔ、ｕは
   ０〜４の整数を表し、Ｅは−ＣＨ₂ −、−Ｃ（ＣＨ₃ ）
   ₂ −、−Ｓ−または−ＳＯ₂ −を表す。）
9. 【請求項９】 請求項６〜８のいずれかに記載の組成物
   を重合して得られる光学用樹脂。
10. 【請求項１０】 請求項９記載の光学用樹脂からなるレ
    ンズ。
11. 【請求項１１】 下記式（２）（化１０）で表されるチ
    オール化合物。 【化１０】 （式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を表し、Ｒは水素
    原子またはメチル基を表し、ｌは１〜３の整数を表す）