JPH03184980A - １Ｈ―ピラゾロ〔１，５―ｂ〕―１，２，４―トリアゾール系化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ハロゲン化銀カラー写真用カプラーとして有
用な１Ｈ ピラゾロ 〔１゜ ｂ〕 ■。

２゜ ４−トリアゾール系化合物の製造方法に関するものであ
る。

（従来技術） １Ｈ−ピラゾロ（１，５−ｂ）−１，２，４−トリアゾ
ール系化合物はハロゲン化銀カラー写真用カプラーとし
て有用な化合物である。一般式（Ｉ）で表わされるアミ
ドオキシム類を原料とする、１Ｈ−ピラゾロ（１，５−
ｂ：］　−１，２，４トリアゾール系化合物の合成法と
しては特開昭６０−１９７６８８号、同６１−２０９４
５７号等に記載の合成法が知られている。すなわち、以
下の反応スキームで示す様に 反応スキーム アミドオキシム体（ＩＩＩ） を脱水環化縮合するこ とにより１Ｈ−ピラゾロ （１，５−ｂ）−１，２ ４−トリアゾール化合物を製造する方法である。

上記の合成法に用いられている脱水縮合剤としては、メ
タンスルホニルクロライド、ｐ−トルエンスルホニルク
ロライド、塩化チオニル、オキシ塩化リン等が知られて
いる。しかしながら、特に前記アミドオキシム体（ＤＩ
）において置換基Ｒ１が、アルコキシ基、又はアリール
オキシ基の場合、上記の脱水環化縮合剤を用いた台底で
は収率が低いといった問題点を有していた。又、置換基
Ｒ２がアリール基又はヘテロ環基の場合においても同様
な問題を有していた。

（発明が解決しようとする課題） 先に述べた様にアミドオキシム類に脱水剤を作用させて
１Ｈ−ピラゾロ（１，５−ｂ）　−１，２゜４−トリア
ゾール系化合物を台底する方法においでは、従来、脱水
剤としてｐ−）ルエンスルホン酸クロライド等が優れて
いることが知られている。

この合成法において、一部のアミドオキシム類に対して
は、トシレート化工程に用いる反応溶媒と、次の閉環工
程に用いる反応溶媒は、その収率の関係から異なった溶
媒を用いなければならず、その操作性が繁雑であった。

また特に一般式（１））で表わされる化合物の置換基Ｒ
２がアリール基及びヘテロ環基の化合物の台底において
は、従来の合成法においては低収率であった。又、置換
基Ｒ１がアルコキシ基又はアリールオキシ基の場合にお
いても収率は低く更に改良が望まれた。

我々の目的は、前記一般式（Ｉ［Ｉ）で表わされるアミ
ドオキシム類を原料にして、より簡便な方法でしかも収
率良く、１Ｈ−ピラゾロ（１，５−ｂ）１．２．４−ト
リアゾール化合物を製造する方法を提供することである
。

（課題を解決する為の手段） 本発明の前記目的は下記一般式（１）で表わされる三級
ホスフィン類を用いる工程を含むことを特徴とする、下
記一般式（ＩＩ）で表わされる、１Ｈ−ピラゾロＣＩ、
５−ｂ）−１，，２，４−トリアゾール系化合物の製造
方法によって遠戚された。

一般式（＋）　　　　（ｙ）、ｌｐ 一般式（ＩＩ） 以下、本発明の詳細な説明する。本発明の具体的な製造
方法としては、前記一般式（１）で表わされる三級ホス
フィン類と下記一般式（ｒＶ）で表わされ三級ホスフィ
ン類と下記一般式（Ｖ）又は一般式（ＶＩ）で表わされ
るホスホニウム塩類又はホスホラン類を、下記一般式（
ＩＩＩ）で表わされるアくドオキシム類又は一般式（Ｉ
ＩＩ−１）で表わされるｌ−アミノ−５−アシルアミノ
ピラゾール類に作用させて脱水縮合する工程を含む前記
一般式（ＩＩ）で表わされる１Ｈ−ピラゾロ〔１５−ｂ
）−１，２，４−トリアゾール系化合物の製造方法があ
げられる。

一般式（Ｉ［Ｉ）　　　　　　　一般式（ＩＩＩ−１）
ＮＨ。

（式中、Ｒ Ｒ２及びＸは一般式（［） ） 一般式（ＩＶ） ａｎ 一般式（Ｖ） 〔 （Ｙ）３Ｐ−Ｈａ　Ｉ！、〕” （ある これらの製造方法は以下に示す反応スキーム（Ａ）によ
り進行すると考えられる。

／ １０ 本発明において原料として用いられる、一般式（Ｉｆｆ
）で表わされるアミドオキシ類のＲ１は水素原子又は置
換基を表わす。その置換基としてはアルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ
基、ウレイド基、ウレタン基、アルコキシカルボニル基
、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホニル基
、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、等を表わす。

置換基について更に詳しく説明すると、アルキル基とは
炭素数１〜５０の直鎖又は分岐鎖の置換又は無置換のア
ルキル基を表わし、置換アルキル基の置換基としては、
ハロゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素）、シアノ基
、ニトロ基、アリール基（例えばフェニル、ナフチル）
、ヘテロ環基（例えば、フリル、■−ピラゾリル）、ア
ルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、イソプロピル
オキシ、ブトキシ、ドデシルオキシ）、アリールオキシ
基（例えばフェノキシ、２−４−ジｔ−ア逅ルフェノキ
シ、３−メタンスルホンアミドフェノキシ）、アルキル
チオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ
、ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニ
ルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ
、４−ドデシルオキシフェニルチオ、２−ピバロイルア
ミノフェニルチオ）、アミノ基（例えば、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、ジフェニルアミ
ノ）、アシルアミノ基（例えば、Ｎ−メチルアセチルア
ミノ、Ｎ−プチルテトラデカノイルア珈））、ウレイド
基（例えばＮ、　　ＮＮ′−トリエチルウレイド）、ウ
レタン基（例えばＮ−ブチル−フェニルウレタン、Ｎ−
オクチルエチルウレタン）、アルコキシカルボニル基（
例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ドデ
シルオキシカルボニル）、スルホンアもド基（例えばメ
チルスルホニルくド、エタンスルホンアミド、ヘキサデ
カンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド）、
スルファモイルＩｇ　（例工ば、Ｎ−メチルスルファモ
イル、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ、Ｎ−ジオクチル
スルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスル
ホニル、エチルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、
フェニルスルホニル）等を表わし、２個以上の置換基を
有していてもよい。又２個以上の置換基を有す場合には
、同じであっても異なっていてもよい。

アリール基は前記置換アルキル基で説明した置換基を有
していてもよい（例えば、フェニル、ジクロロフェニル
、２−メトキシフェニル、２，４ジメトキシフエニル、
４−ｔ−ブチルフェニル）、ヘテロ環基（例えば３−ピ
リジル、４−ピリジル）、アルコキシ基のアルキル基は
前記置換アルキル基の置換基を有していてもよい（例え
ば、メトシキ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキ
シ、イソプロピルオキシ、ｔ−ブトキシ、２フエノキシ
エトキシ、ｌ−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシエ
トキシ）、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリール
オキシ基〈例えばフェノキシ、２−メトキシフェノキシ
、２，４−ジメトキシフェノキシ、２．６−ジメトキシ
フェノキシ、＝１３ ２．４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、２−エトキシカル
ボニルフェノキシ）、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ
基（例えばメチルチオ、エチルチオ、ヘキサデシルチオ
）、了り−ルチオ基（例えばフェニルチオ、２−エトキ
シカルボニルフェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オ
クチルフェニルチオ、２−ピバロイルアミドフェニルチ
オ）、ヘテロ環チオ基、アミノ基（例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアξ）、ジブチル
アミノ）、アニリノ基（例えば２，５−ジクロロアニリ
ノ、２−エトキシカルボニルアニリノ）、アシルアミノ
基（例えば、Ｎ−メチルアセチルアξ）、Ｎ−フェニル
アセチルアミノ、Ｎ−ブチルピバロイルアミノ、Ｎ−メ
チルテトラデカノイルアミノ）、ウレイド基（例えば、
Ｎ、Ｎ、Ｎ’トリエチルウレイド）、ウレタン基（例え
ばＮメチルフェニルウレタン）、アルコキシカルボニル
（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ド
デシルオキシカルボニル）、スルホンアミド基（例えば
、メタンスルホンアミド、エタン４ スルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアくド、Ｎ−メ
チルオクタンスルホンアミド、１）−）ルエンスルホン
アミド）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−ブチルスル
ファモイル、メチルスルファモイル、エチルスルファモ
イル、フェニルスルファモイル）、シアノ基、ニトロ基
、ヒドロキシル基等を表わす。Ｒ１がアルコキシ基、ア
リールオキシ基の場合、本発明の効果が大きい。

又、一般式（ＩＩＩ−１）で表わされる１−アミノ５−
アジルアごノピラール類のＲ，、Ｒ，、Ｘは、前記一般
式（Ｉｌｌ）で説明したのと同しである。

Ｘで表わされる置換基は水素原子又は置換基を表わし、
その置換基としては、ハロゲン原子、又はＣ，Ｎ、　○
、　　Ｓ、　　Ｐ及びＨよりなる群より選ばれた少なく
とも２つの原子を有す１価の基である。

好ましくは、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、
ニトロ基、ヘテロ原子として○、Ｎ又はＳを含有する３
ないし１０員環のへテロ環基、アルコキシカルボニル基
、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基
、アルキルチオ基、アリールチオ基、等を表わす。更に
詳しくは、Ｘは水素原子、ハロゲン原子（例えばフン素
、塩素、臭素）、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基（例
えば、ピラゾリル、イミダゾリル）、アルコキシカルボ
ニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ）
、アリールオキシ基（例えばフェノキシ、４−メチルフ
ェノキシ、４−エトキシカルボニルフェノキシ、２−エ
トキシカルボニルフェノキシ、４−シアノフヱノキシ、
４−メチルスルホニルフェノキシ）、ヘテロ環オキシ基
、アルキルチオ基（例えばメチルチオ、ドデシルチオ、
１−エトキシカルボニルドデシルチオ）、アリールチオ
基（例えば、フェニルチオ、２−エトキシカルボニルフ
ェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔオクチルフェニルチ
オ）、等を表わす。

Ｒ２は水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ
環基を表わす。更に詳しく説明すると、Ｒ２のアルキル
基とは、炭素原子数１〜５０の直鎖又は分岐鎖の置換又
は無置換のアルキル基を表わし、置換アルキル基の置換
基としては、前記置換基Ｒ１で説明した置換アルキル基
の置換基と同義であり、２個以上の置換基を有していて
もよく、その場合には、それらの置換基は同一であって
も異なっていてもよい。Ｒ２のアリール基とは、置換又
は無置換のアリール基を表わし、無置換了り−ル基（例
えばフェニル、ナフチル）、置換アリール基の置換基と
しては、前記Ｒ１の置換アルキル基で説明した置換基と
同義である（例えば、３４−ジクロロフェニル、３．５
−）ｌロロフェニル、２−ニトロフェニル、３−ニトロ
フェニル、２−メトキシフェニル、２．４−ジメトキシ
フェニル）を表わす。

Ｒ２のへテロ環基とは、例えば３−ピリジル、４−ピリ
ジルを表わす。本発明においてＲ２がアリール基、ヘテ
ロ環基のとき本発明の効果が大きい。特にアリール基の
とき効果が大きい。

前記一般式（ＩＩＩ）で表わされる化合物の代表的具体
例を以下に示すが、本発明はこれらによって限定される
ものではない。

７ ８ ■ ９ ■ ３ ■ ４ ■ １）　　ゝＣ８゜ ／Ｎ ０ ■０ １ ■ ６ ■ ７ ＣＩ２）１２５ ■ ８ ２ ■ １９ ■ ０ ■ ２ ■ ３ ＮＯ□ ５ １ ０ ２ ６ ■ ３９ ９− ■ ２ ■ ３ ０ ■ ４６ ■ ７ ■ ８ しに 本発明に用いられる原料、すなわち、一般式（Ｉ［［）
で表わされるアミドオキシム類は特開昭６１−１４５１
６３号に記載の方法、すなわち、以下に記載の反応スキ
ームに従って容易に台底することができる。

３ 一般式（１）で表わされる三級ホスフィン類のＹはアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、またはアミノ基を表わし、更に詳しく説明すると、ア
ルキル基は炭素数１ないし１０の直鎖又は分岐鎖の置換
又は無置換のアルキル基を表わし、置換アルキル基の置
換基としては、前記一般式（ＩＩＩ）で表わされるアも
ドオキシム体のＲ１で示した置換アルキル基の置換基と
同義であり、それらの置換基は２個以上有していてもよ
い。２個以上の置換基を有す場合は同一であっても異な
っていてもよい。アリール基は置換又は無置換のアリー
ル基を表わし、置換アリール基の置換基としては、前記
置換アルキル基の置換基と同義である。アルコキシ基は
（例えばメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチル
オキシ、イソプロピルオキシ）、了り−ルオキシ基（例
えばフェノキシ、ナフチルオキシ）、アミノ基（例えば
ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、
ジブチルアミノ、ジイソプロピルアミノ）を表わす。好
ましくはＹはアリール基又はジアルキ４ ルアミノ基であり、特に好ましくはフェニル基である。

以下に一般式（１）で表わされる三級ホスフィン類の具
体例を示すが、本発明は、これらによって限定されない
。

■ （ＣＨ，ＩｈＰ ■ （ＣＪ５＋ｒＰ ■ （ＣＨ３０−）丁Ｐ ■ （Ｃ，０５＃ｒＰ （Ｃ４Ｈ１０＋ｒＰ Ｉ　　　９　　　　　（ＣｔＨｑ＋−ｒＰ般式（ＩＶ）
で表わされるハロゲン化剤のＨａｌはハロゲン原子（例
えば塩素、臭素〉を表わし、Ｑは置換基を表わす。その
置換基としては、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素）、
イミド基（例えばコハク酸イミド、フタル酸イミド）、
ハロゲン化アルキル基（例えばトリクロロメチル、トリ
ブロモメチル、ペンタクロロエチル、ペンタブロモエチ
ル〉を表わす。

以下に一般式（ＴＶ）で表わされるハロゲン化剤の好ま
しい具体例を示すが、本発明はこれらによって限定され
るものではない。

ＩＶ−１ｃｚ。

ＩＶ２　　　　Ｂｒｚ ■ Ｃ１４ ■ ＣＢ　ｒ　ａ 一般式（Ｖ）で表わされるホスホニウム塩類及び一般式
（ＶＩ）で表わされるホスボラン類は、それぞれ一般弐
〇）で表わされる三級ホスフィン類と一般式（ＩＶ）で
表わされるハロゲン化剤から導かれる。それらのＹ、Ｈ
ａｌ、及びＱはそれぞ　７− れ、前記一般式（１）及び一般式（ＩＶ）で述べたと同
義である。

本発明の方法によって、下記一般式（ＩＩ）で表わされ
る１Ｈ−ピラゾロ（１，５−ｂ）　−１，２゜４−トリ
アゾール系化合物が得られる。

２ （Ｒ，、Ｘ及びＲ２は先に一般式（ＩＩＩ）で述べたと
同義である。） 一般式（ｎ）で表わされる化合物の代表的具体例を以下
に示すが、本発明はこれらによって限定されるものでは
ない。

８ ７ １ ２ １２ ３ ５ ５ ６ ９ ０ ０ ５０ 次に本発明の実施態様について説明する。

前記一般式（Ｉ［［）で表わされるアミドオキシム類の
、前記一般式（Ｉ）で表わされる三級ホスフィン類と前
記一般式（ＩＶ）で表わされるハロゲン化剤を用いる脱
水縮合反応においては、無溶媒で行なってもよいし、適
当な溶媒に溶解又は分散して行なってもよい。本発明に
用いることのできる代表的な溶媒としては、アセトニト
リル、ジメチルスルホキサイド、スルホラン、ジメチル
アセトアミド、ジメチルイミダゾリトン、テトラヒドロ
フラン、酢酸エチル、１，２−ジメトキシエタン、ヘン
ゼン、トルエン等の溶媒が挙げられる。これ３− らの溶媒は単一で使用してもよいし、２種以上を混合し
て使用してもよい。

溶媒の使用量は一般式（Ｉｌｌ）又は（Ｉ［＋−１）で
表わされるアミドオキシム類の１重量部当り１〜１００
０重量部、好ましくは１〜３０重量部の割合で使用され
る。

一般式（Ｉｌｌ）又は（Ｉ［１−１）で表わされるアミ
ドオキシム類と一般式（１）で表わされる化合物は１：
０．５〜１：２０のモル比で用いられ、好ましくは１：
１〜１：１０のモル比で使用される。

一般式（１）で表わされる化合物と、一般式（ＩＶ）で
表わされるハロゲン化剤は１：１〜１：１００のモル比
で用いられ、好ましくは１：１〜１：１０のモル比で使
用される。

反応温度は一２０℃〜１５０℃で行えるが、２０°Ｃ〜
８０°Ｃが好ましく、−２０℃〜５０℃が特に好ましい
。

反応時間は、反応温度が一２０℃〜１５０℃の場合には
３０分間〜４８時間で反応が終結する。

４ （実施例） 以下に本発明の具体的実施例の一部を示すが、本発明は
これらによって限定されるものではない。

実施例１　（例示化合物　Ｍ−２１） アミドオキシム体（Ｉ［Ｉａ）９２．３ｇ　（０，２５
モル）、四塩化炭素５０１ｎ１にアセトニトリル５００
−を加えて５℃〜１０℃に冷却し攪拌した。

これにトリフェニルホスフィン３４．０ｇ　（０゜１３
モル）を添加し、５〜１０℃で３時間攪拌した後、更に
３４．０ｇ　（０，１３モル）のトリフェニルホスフィ
ンを添加した。添加終了後、５〜１０℃で５時間攪拌を
続けた。反応終了後、この反応液に攪拌しながら水５０
０−を滴下した。析出した結晶を炉取し、メタノール−
水（１：、１）の混合溶媒で洗浄した後、乾燥した。６
１．７ｇ（７０，３％）の例示化合物Ｍ−２１を得た。

融点は２１６〜２１８℃であった。この化合物は特開昭
６３−３０７４５３の実施例−３に記載の例示化合物と
ＮＭＲが一致し、同一物と確認した。

７ アミドオキシム体（Ｉ［［ｂ）４４．８ｇ　（０，１モ
ル）、四塩化炭素３０−にアセトニトリル３００−を加
えて室温で攪拌した。これにトリフェニルホスフィン３
１．０ｇ　（０，１２モル）を添加し、室温で５時間攪
拌し続けた後、更に２０ｇ（０，０７６モル）のトリフ
ェニルホスフィンを添加し３時間攪拌を行なった。反応
終了後、水３００−を攪拌下で滴下した。析出した結晶
を炉取し、メタノール−水（１：　１）の混合溶媒で洗
浄し乾燥した。３１．２ｇ　（７２，６％）の例示化合
物Ｍ−４４を得た。融点は２０１〜２０５℃であった。

実施例３　（例示化合物　Ｍ−４４） アミドオキシム体（Ｉｌ［ｂ）４４．８ｇ　（０，１モ
ル）、トリフェニルホスフィン３１．０ｇ　（０゜１２
モル）にテトラヒドロフラン２５０−を加えてＯ℃〜５
℃に冷却し攪拌した。これにＮ−クロルコハク酸イミド
１６．Ｏｇ　（０，１２モル）を数回に分けて、ゆっく
り添加した。添加終了後３時間０°Ｃ〜５℃で攪拌した
後、室温で更に４時間８ 攪拌を続けた。反応終了後、反応液を水１００〇−中に
攪拌下で注いだ。析出したガム状物を水洗した後、カラ
ムクロマト（クロロホルム／メタノール）で精製した。

アセトニトリルで晶析し２８゜６ｇ　（６６，６％）の
例示化合物Ｍ−４４を得た。

融点は実施例２で得たものと同しであった。

実施例４〜実施例１３及び実施例１５はアミドオキシム
体を変更した以外は実施例１と同し方法に従って行なっ
た。

実施例１４は実施例３と同じ方法に従って行なった。

以下に実施例１〜実施例１５の得られた化合物の収率と
融点を示す。

５９− （比較例−１） 実施例−１（例示化合物Ｍ−２１）で示した化合物の従
来の合成法は特開昭６３−３０７４５３に記載されてお
り例示化合物Ｍ−２１の収率は３５％であった。

（発明の効果） 本発明の合成法により、より簡便に、好収率で１Ｈ−ピ
ラゾロ（１，５，−ｂ）−１，２，４−トリアゾール系
化合物を台底することが可能となった。更に比較例で示
した様にＲ１がアリールオキシ基、アルコキシ基であり
、Ｒ２がアリール基の化合物の台底においては、大巾な
収率の向上が遠戚され、本発明が優れていることがわか
った。

又、比較例で示した様に特開昭６３−３０７４５３等に
記載されているトシル化及び閉環工程の操作性に関して
も本発明がより簡単であり優れていることがわかった。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式（ I ）で表わされる三級ホスフィン
   類を用いる工程を含むことを特徴とする、下記一般式（
   II）で表わされる、１Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ｂ〕−１
   ，２，４−トリアゾール系化合物の製造方法。 一般式（ I ）（Ｙ）＿３Ｐ 〔式中、Ｙはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
   アリールオキシ基、またはアミノ基を表わす。〕 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１は水素原子、又は置換基を表わし、Ｒ＿
   ２は水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環
   基を表わす。Ｘは水素原子又は置換基を表わす。〕
2. （２）請求項（１）記載の一般式（ I ）で表わされる
   三級ホスフィン類と下記一般式（IV）で表わされるハロ
   ゲン化剤から形成される下記一般式（Ｖ）又は一般式（
   VI）で表わされるホスホニウム塩類又はホスホラン類を
   、下記一般式（III）で表わされるアミドオキシム類又
   は一般式（III− I ）で表わされる１−アミノ−５−ア
   シルアミノピラゾール類に作用させて脱水縮合する工程
   を含むことを特徴とする請求項（１）記載の一般式（I
   I）で表わされる１Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ｂ〕−１，
   ２，４−トリアゾール系化合物の製造方法。 一般式（III）一般式（III− I ） ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
   等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＸは一般式（II）と同義で
   ある。） 一般式（IV） Ｈａｌ−Ｑ ［式中、Ｈａｌはハロゲン原子を表わし、Ｑは置換基を
   表す。］ 一般式（Ｖ） 〔（Ｙ）＿３Ｐ−Ｈａｌ〕＾＋Ｑ＾− ［式中、Ｙ、Ｈａｌ、及びＱはそれぞれ一般式（ I ）
   及び一般式（IV）と同義である。］一般式（VI） （Ｙ）＿３Ｐ（Ｈａｌ）＿２ ［式中、Ｙ及びＨａｌはそれぞれ一般式（ I ）及び一
   般式（IV）と同義である。］