JPH03184981A - ハロゲン化有機ケイ素の還元方法 - Google Patents
ハロゲン化有機ケイ素の還元方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ヒドロカルビル基の不均化の問題を回避しな
がらの、また、ケイ素−炭素結合の開裂を回避しながら
の、ハロゲン化有機ケイ素の水素化有機ケイ素への選択
的還元方法を提供するものである。
がらの、また、ケイ素−炭素結合の開裂を回避しながら
の、ハロゲン化有機ケイ素の水素化有機ケイ素への選択
的還元方法を提供するものである。
本発明を要約すれば、他のハロゲン化有機ケイ素の還元
方法に伴うヒドロカルビル基の不均化の問題を回避しな
がらの、また、ケイ素炭素結合の開裂を回避しながらの
、アミンアランを用いるハロゲン化有機ケイ素の水素化
有機ケイ素への還元方法である。
方法に伴うヒドロカルビル基の不均化の問題を回避しな
がらの、また、ケイ素炭素結合の開裂を回避しながらの
、アミンアランを用いるハロゲン化有機ケイ素の水素化
有機ケイ素への還元方法である。
L iA IH、、AIHsおよびN a A I H
4は、多くの有機化合物用の効率的な還元剤であること
が知られている。たとえばU 、S 、 4,006,
095およびu 、 s 、 3,926,833を参
照されたい。しかし、有機化合物がハロゲン化有機ケイ
素化合物であるならば、ここで生成する副生酸物のA
IC1,が生成した水素化物の不均化(Si−C開裂)
を触媒することがあり得る。加えて、AlCl3は、ア
ルケニルクロロシランを還元する場合に、重合または異
性化を誘起することがあり得る。したがって、所望の生
成物を得るためには、分別の前に、反応混合物を加水分
解しなければならないか、または水素化物を反応溶液か
ら石油エーテルで抽出しなければならないことがあり得
る。
4は、多くの有機化合物用の効率的な還元剤であること
が知られている。たとえばU 、S 、 4,006,
095およびu 、 s 、 3,926,833を参
照されたい。しかし、有機化合物がハロゲン化有機ケイ
素化合物であるならば、ここで生成する副生酸物のA
IC1,が生成した水素化物の不均化(Si−C開裂)
を触媒することがあり得る。加えて、AlCl3は、ア
ルケニルクロロシランを還元する場合に、重合または異
性化を誘起することがあり得る。したがって、所望の生
成物を得るためには、分別の前に、反応混合物を加水分
解しなければならないか、または水素化物を反応溶液か
ら石油エーテルで抽出しなければならないことがあり得
る。
オルガノシランはテトラアルキルシランの製造に有用で
あり、ひいては、高温で安定な水圧流体および潤滑剤の
調合における使用に適している。
あり、ひいては、高温で安定な水圧流体および潤滑剤の
調合における使用に適している。
高温で安定な水圧流体および潤滑剤の調合における使用
に適した、オルガノシランをテトラアルキルシランに転
化させる一つの手段は、米国特許第4.595,777
号に記載されている。オルガノシランはまた、ポリメチ
ルヒドロシロキサンの形成に有用であり、ひいては、織
物工業において防水性を与えるのに、また織物の耐摩耗
性を改良するのに有用である。
に適した、オルガノシランをテトラアルキルシランに転
化させる一つの手段は、米国特許第4.595,777
号に記載されている。オルガノシランはまた、ポリメチ
ルヒドロシロキサンの形成に有用であり、ひいては、織
物工業において防水性を与えるのに、また織物の耐摩耗
性を改良するのに有用である。
オルガノハロシランと金属水素化物、たとえばL i
A I H4およびNaAIHtとの反応は、金属水素
化物の液体炭化水素媒体中での溶解性が低いために、通
常は無水溶媒、たとえばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジグライムまたはジオキサン中で行われる。
A I H4およびNaAIHtとの反応は、金属水素
化物の液体炭化水素媒体中での溶解性が低いために、通
常は無水溶媒、たとえばジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジグライムまたはジオキサン中で行われる。
この反応の範囲および効率は反応剤の緊密な接触に依存
し、したがって還元剤の溶解性は重要な考慮事項である
。
し、したがって還元剤の溶解性は重要な考慮事項である
。
還元剤の中でも AIH,は種々の有機反応の選択的水
素化剤および還元剤として知られている。
素化剤および還元剤として知られている。
AIH,を製造する一つの方法は、LiHから出発し、
これをある種のエーテル、特にジエチルエーテルの存在
下にA IChと緊密に反応させてテトラヒドリドアル
ミン酸リチウムまたは水素化アルミニウムリチウム(L
iAlH4)を製造し、ついでこれをエーテル、通常は
ジエチルエーテルの存在下に A ICI3と反応させ
る2段階法である。不幸なことに、AIH,の溶液をエ
ーテル中で全く不安定である。たとえばU、S。
これをある種のエーテル、特にジエチルエーテルの存在
下にA IChと緊密に反応させてテトラヒドリドアル
ミン酸リチウムまたは水素化アルミニウムリチウム(L
iAlH4)を製造し、ついでこれをエーテル、通常は
ジエチルエーテルの存在下に A ICI3と反応させ
る2段階法である。不幸なことに、AIH,の溶液をエ
ーテル中で全く不安定である。たとえばU、S。
4.006,095を参照されたい。
アルカリ金属水素化物、たとえばNaHまたはLiHも
、ハロゲン有機ケイ素を水素化物に還元するのに使用さ
れているが、通常は高温(たとえば200−300°C
)が必要であり、水素化物はしばしば低収率で生成する
。アルカリ金属水素化物の場合には、極性溶媒、たとえ
ばヘキサメチルリン酸トリアミドまたはテトラメチル尿
素が必要である。
、ハロゲン有機ケイ素を水素化物に還元するのに使用さ
れているが、通常は高温(たとえば200−300°C
)が必要であり、水素化物はしばしば低収率で生成する
。アルカリ金属水素化物の場合には、極性溶媒、たとえ
ばヘキサメチルリン酸トリアミドまたはテトラメチル尿
素が必要である。
全てのクロロシランがエーテル溶媒中でNaHを用いて
効果的に還元し得るわけではない。ジメチル(ジクロロ
シラン)は、ジオキサン中で長期間還流させても Na
Hによっては還元されない。
効果的に還元し得るわけではない。ジメチル(ジクロロ
シラン)は、ジオキサン中で長期間還流させても Na
Hによっては還元されない。
ファンダイク(Charles H,Van Dyke
)、“ハロゲンおよびハロゲノイドへの結合(The
Bond t。
)、“ハロゲンおよびハロゲノイドへの結合(The
Bond t。
Halogens and Halogenoids)
”、マーセル・デツカー社(Marcel Deckk
er Inc、 New York) 、 1972゜
234−240ページを参照されたい。また、アルカリ
金属水素化物の使用によっては、従来から注意されてき
た不利益を有する A IC1,の生成は回避されない
。
”、マーセル・デツカー社(Marcel Deckk
er Inc、 New York) 、 1972゜
234−240ページを参照されたい。また、アルカリ
金属水素化物の使用によっては、従来から注意されてき
た不利益を有する A IC1,の生成は回避されない
。
本発明は、アミンアランを使用すれば室温でもハロゲン
化有機ケイ素を水素化有機ケイ素に還元し得るという新
規な発見を包含する。驚くべきことには、アミンアラン
を使用することにより、水素化ヒドロカルビルケイ素の
ヒドロカルビル基の再分配(不均化)を回避し得ること
が見いだされたのである。加えて、この方法の生成物は
蒸留技術により、より容易に反応剤から分離することが
できる。蒸留による生成物の分離は一般に、生成物から
溶媒を分離するために通常は余分の工程段階を必要とす
る抽出技術による分離よりも効率的で容易である。この
方法の他の利点は、今後の記述により明らかになるであ
ろう。
化有機ケイ素を水素化有機ケイ素に還元し得るという新
規な発見を包含する。驚くべきことには、アミンアラン
を使用することにより、水素化ヒドロカルビルケイ素の
ヒドロカルビル基の再分配(不均化)を回避し得ること
が見いだされたのである。加えて、この方法の生成物は
蒸留技術により、より容易に反応剤から分離することが
できる。蒸留による生成物の分離は一般に、生成物から
溶媒を分離するために通常は余分の工程段階を必要とす
る抽出技術による分離よりも効率的で容易である。この
方法の他の利点は、今後の記述により明らかになるであ
ろう。
本発明に従えば、ハロゲン化有機ケイ素とアミンアラン
との間の反応により水素化有機ケイ素および同時生成物
のハロゲン化アルミニウムとが生成する。このようにし
て生成したハロゲン化アルミニウムはアミンと錯体形成
、または弱く錯体形成することがあり、錯体の強さは使
用する反応剤に応じて変化する。本発明の方法に含まれ
る実際のメカニズムとは無関係に、アミンの不存在でハ
ロゲン化アルミニウムが存在する場合に通常経験するケ
イ素−炭素結合の開裂を、アミンの存在が遅延させるこ
とが、また、アルキル基の不均化も回避される観測され
ている。
との間の反応により水素化有機ケイ素および同時生成物
のハロゲン化アルミニウムとが生成する。このようにし
て生成したハロゲン化アルミニウムはアミンと錯体形成
、または弱く錯体形成することがあり、錯体の強さは使
用する反応剤に応じて変化する。本発明の方法に含まれ
る実際のメカニズムとは無関係に、アミンの不存在でハ
ロゲン化アルミニウムが存在する場合に通常経験するケ
イ素−炭素結合の開裂を、アミンの存在が遅延させるこ
とが、また、アルキル基の不均化も回避される観測され
ている。
本発明記載の方法に使用し得るハロゲン化有機ケイ素は
一般に、式 %式%() 式中、 各Rは独立にヒドロカルビル基、たとえばアルキル、シ
クロアルキル、アリール、アラールキル、アルケニル、
アルキニル、または置換ヒドロカルビル基、たとえばハ
ロアルキル、ハロシクロアルキル、ハロアリール、ハロ
アラールキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル等であ
り、 p は工ないし3の整数であり、 Xは塩素、臭素、フッ素またはヨウ素である により表すことができる。加えて、1個または2個以上
のヒドロカルビル基が不活性置換基、たとえばアルコキ
シ、シクロアルコキシ、アリールオキシ等を含有してい
てもよい。この種のヒドロカルビル基の各々が約24個
までの、またはそれ以上の炭素原子を含有していてもよ
いが、好ましくは約18個までの炭素原子を含有し、最
も好ましくは約12個の炭素原子を含有する。ヒドロカ
ルビル基におけるハロゲン置換基は、ケイ素原子に結合
しているハロゲンと同一のものであっても、異なってい
てもよい。また、ケイ素に結合しているヒドロカルビル
基は相互に異なっていてもよいが、好ましくは相互に同
一である。
一般に、式 %式%() 式中、 各Rは独立にヒドロカルビル基、たとえばアルキル、シ
クロアルキル、アリール、アラールキル、アルケニル、
アルキニル、または置換ヒドロカルビル基、たとえばハ
ロアルキル、ハロシクロアルキル、ハロアリール、ハロ
アラールキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル等であ
り、 p は工ないし3の整数であり、 Xは塩素、臭素、フッ素またはヨウ素である により表すことができる。加えて、1個または2個以上
のヒドロカルビル基が不活性置換基、たとえばアルコキ
シ、シクロアルコキシ、アリールオキシ等を含有してい
てもよい。この種のヒドロカルビル基の各々が約24個
までの、またはそれ以上の炭素原子を含有していてもよ
いが、好ましくは約18個までの炭素原子を含有し、最
も好ましくは約12個の炭素原子を含有する。ヒドロカ
ルビル基におけるハロゲン置換基は、ケイ素原子に結合
しているハロゲンと同一のものであっても、異なってい
てもよい。また、ケイ素に結合しているヒドロカルビル
基は相互に異なっていてもよいが、好ましくは相互に同
一である。
この反応の工程に使用し得る典型的なハロゲン化有機ケ
イ素には、以下のものが含まれるニジメチルジクロロシ
ラン、 トリメチルブロモシラン、 トリメチルクロロシラン、 トリメチルヨードシラン、 トリエチルクロロシラン、 トリへキシルクロロシラン、 エチルトリクロロシラン、 メチルトリクロロシラン、 メチルプロピルジクロロシラン、 エチルメチルジクロロシラン、 n−プロピルトリクロロシラン、 3−クロロプロピルトリクロロシラン、t−ブチルジメ
チルクロロシラン、 n−ブチルトリクロロシラン、 n−ヘキシルメチルジクロロシラン、 ヘキシルトリクロロシラン、 オクチルトリクロロシラン、 n−デシルトリクロロシラン、 n−ドデシルトリクロロシラン、 オクタデシルトリクロロシラン、 n−デコシルメチルジクロロシラン、 テトラデシルトリクロロシラン、 シクロへキシルジメチルクロロシラン、2−(ビシクロ
へブチル)ジメチルクロロシラン、(クロロヘキシルメ
チル)トリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、 アリルトリクロロシラン、 アリルメチルジクロロシラン、 メチルビニルジクロロシラン、 6−ヘキザーl−エニルジメチルクロロシラン、2−プ
ロビルトリフルオロシラン、 2−ヘンチルトリクロロシラン、 ベンジルジメチルクロロシラン、 t−ブチルフェニルクロロシラン、 (p−t−ブチル7エネチル)ジメチルクロロシラン、 フェニルトリクロロシラン、 メチルフエニルジクロロシラン、 ジメチルフェニルクロロシラン、 ジフェニルジクロロシラン、 ジフェニルジフルオロシラン、 トリフェニルクロロシラン、 2−フェニルエチルトリクロロシラン、p−トリルトリ
クロロシラン、 8−ブロモオクチルトリクロロシラン、σ−ブロモビニ
ルトリクロロシラン、 (クロロメチル)(ジメチル)クロロシラン、p−(ク
ロロメチル)フェニルトリクロロシラン、3.3.3−
トリフルオロプロピルトリクロロシラン、p−(ブロ
モフェニル)トリクロロシラン、ペンタフルオロフエニ
ルジメチルクロロシラン、塩素化ジフェニルジクロロシ
ラン、 t−ブチルペンタフルオロフェニルメチルクロロシラン
、 3−アセトキシプロピルトリクロロシラン、(4−メト
キシフェニル)−ジメチルクロロシラン、C2,4,6
−トリーt−ブチルフェノキシ)ジメチルクロロシラン 等。
イ素には、以下のものが含まれるニジメチルジクロロシ
ラン、 トリメチルブロモシラン、 トリメチルクロロシラン、 トリメチルヨードシラン、 トリエチルクロロシラン、 トリへキシルクロロシラン、 エチルトリクロロシラン、 メチルトリクロロシラン、 メチルプロピルジクロロシラン、 エチルメチルジクロロシラン、 n−プロピルトリクロロシラン、 3−クロロプロピルトリクロロシラン、t−ブチルジメ
チルクロロシラン、 n−ブチルトリクロロシラン、 n−ヘキシルメチルジクロロシラン、 ヘキシルトリクロロシラン、 オクチルトリクロロシラン、 n−デシルトリクロロシラン、 n−ドデシルトリクロロシラン、 オクタデシルトリクロロシラン、 n−デコシルメチルジクロロシラン、 テトラデシルトリクロロシラン、 シクロへキシルジメチルクロロシラン、2−(ビシクロ
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チル)トリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、 アリルトリクロロシラン、 アリルメチルジクロロシラン、 メチルビニルジクロロシラン、 6−ヘキザーl−エニルジメチルクロロシラン、2−プ
ロビルトリフルオロシラン、 2−ヘンチルトリクロロシラン、 ベンジルジメチルクロロシラン、 t−ブチルフェニルクロロシラン、 (p−t−ブチル7エネチル)ジメチルクロロシラン、 フェニルトリクロロシラン、 メチルフエニルジクロロシラン、 ジメチルフェニルクロロシラン、 ジフェニルジクロロシラン、 ジフェニルジフルオロシラン、 トリフェニルクロロシラン、 2−フェニルエチルトリクロロシラン、p−トリルトリ
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ルトリクロロシラン、 (クロロメチル)(ジメチル)クロロシラン、p−(ク
ロロメチル)フェニルトリクロロシラン、3.3.3−
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モフェニル)トリクロロシラン、ペンタフルオロフエニ
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ラン、 t−ブチルペンタフルオロフェニルメチルクロロシラン
、 3−アセトキシプロピルトリクロロシラン、(4−メト
キシフェニル)−ジメチルクロロシラン、C2,4,6
−トリーt−ブチルフェノキシ)ジメチルクロロシラン 等。
この方法はまた、−数式
%式%()
のビス−(ハロゲン化有機ケイ素)化合物の還元に使用
することもできる。式(I+)において、R基は2ない
し24個の炭素原子を、より好ましくは約6個の炭素原
子を有するアルキル、シクロアルキルまたはアリール基
であり;R′は工ないし24個の炭素原子を、より好ま
しくは約4個の炭素原子を有するヒドロカルビル基、た
とえばアルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラ
ールキルであり;p は0ないし2の整数であり:Xは
塩素、臭素、フッ素またはヨウ素である。
することもできる。式(I+)において、R基は2ない
し24個の炭素原子を、より好ましくは約6個の炭素原
子を有するアルキル、シクロアルキルまたはアリール基
であり;R′は工ないし24個の炭素原子を、より好ま
しくは約4個の炭素原子を有するヒドロカルビル基、た
とえばアルキル、シクロアルキル、アリールまたはアラ
ールキルであり;p は0ないし2の整数であり:Xは
塩素、臭素、フッ素またはヨウ素である。
本発明記載の方法に使用し得る典型的なビス−(ハロゲ
ン化有機ケイ素)には、以下のものが含まれる: 1.2−ヒス−(クロロジメチルシリル)−エタン、1
.6−ビス−(クロロジメチルシリル)−ヘキサン、1
.8−ビス−(クロロジメチルシリル)−オクタン、1
.4−ビス−[2−(クロロジメチルシリル)−エチル
]ベンゼン、 等。
ン化有機ケイ素)には、以下のものが含まれる: 1.2−ヒス−(クロロジメチルシリル)−エタン、1
.6−ビス−(クロロジメチルシリル)−ヘキサン、1
.8−ビス−(クロロジメチルシリル)−オクタン、1
.4−ビス−[2−(クロロジメチルシリル)−エチル
]ベンゼン、 等。
本発明記載の方法は、アミンアランを共反応剤として使
用する場合に高い収率が得られるために、特に重要であ
る。ハロゲン化有機ケイ素と共反応性であれば、いかな
る第3級アミンアランも使用することができる。したが
って、錯体の第3級アミン部分には芳香族、異部環状、
脂肪族または環状脂肪族のものが可能である。好ましい
ものはトリアルキルアミンアラン錯体、たとえばトリメ
チルアミンアラン、トリプロピルアミンアラン、トリブ
チルアミンアランおよび、その各アルキル基が約12個
までの炭素原子を有していてもよいが、好ましぐは1な
いし6個の炭素原子を有する直鎖の、または枝分かれの
ある同様のトリアルキルアミンアラン錯体である。しか
し、1種または2種以上の等価のアランが第3級ジアミ
ンと錯体形成している化合物、たとえばトリエチレンジ
アミンおよびN、N、N’、N’−テトラメチルエチレ
ンジアミン錯体も使用することができる。
用する場合に高い収率が得られるために、特に重要であ
る。ハロゲン化有機ケイ素と共反応性であれば、いかな
る第3級アミンアランも使用することができる。したが
って、錯体の第3級アミン部分には芳香族、異部環状、
脂肪族または環状脂肪族のものが可能である。好ましい
ものはトリアルキルアミンアラン錯体、たとえばトリメ
チルアミンアラン、トリプロピルアミンアラン、トリブ
チルアミンアランおよび、その各アルキル基が約12個
までの炭素原子を有していてもよいが、好ましぐは1な
いし6個の炭素原子を有する直鎖の、または枝分かれの
ある同様のトリアルキルアミンアラン錯体である。しか
し、1種または2種以上の等価のアランが第3級ジアミ
ンと錯体形成している化合物、たとえばトリエチレンジ
アミンおよびN、N、N’、N’−テトラメチルエチレ
ンジアミン錯体も使用することができる。
本件方法に使用し得る第3級アミンアランのその他の例
には、ドリンク口へキシルアミンアラン、N、N−ジメ
チルエチルアミンアラン、N、Nジエチルメチルアミン
アラン、N−メチルモルホリンアラン、キヌクリジンア
ラン等が含まれる。
には、ドリンク口へキシルアミンアラン、N、N−ジメ
チルエチルアミンアラン、N、Nジエチルメチルアミン
アラン、N−メチルモルホリンアラン、キヌクリジンア
ラン等が含まれる。
本件方法に有用であることが見いだされたアミンアラン
の製造は、1987午5月 ■2日付で付与されたマー
レッ) (lJarletL)の米国特許第4.665
,207号に見ることができる。
の製造は、1987午5月 ■2日付で付与されたマー
レッ) (lJarletL)の米国特許第4.665
,207号に見ることができる。
本発明記載の方法に有用であることが見いだされたアミ
ンアランの中でも、トリ低級アルキルアミンアランが特
に好ましい。トリ低級アルキルとは、アルキル基のそれ
ぞれが6個またはそれ以下の炭素原子を含有することを
意味する。共反応剤として使用し得るトリ低級アルキル
アミンアランの中では、トリメチルアミンアランおよび
トリエチルアミンアランが最も好ましい。
ンアランの中でも、トリ低級アルキルアミンアランが特
に好ましい。トリ低級アルキルとは、アルキル基のそれ
ぞれが6個またはそれ以下の炭素原子を含有することを
意味する。共反応剤として使用し得るトリ低級アルキル
アミンアランの中では、トリメチルアミンアランおよび
トリエチルアミンアランが最も好ましい。
本発明記載の方法は環境温度で迅速に進行することが見
いだされているが、本件反応は一20°Cの低温でも
1.50°Cの高温でも進行する。温度のし限は高温に
おけるアミンアランの安定性により制限される。本発明
の好ましい具体例においては、工程をほぼ室温(たとえ
ば約25℃)で開始して完了まで進行させる。上に注意
したように、還元剤としてアルカリ金属水素化物を使用
する場合には、ハロゲン化有機ケイ素の水素化物への還
元を開始し、実行するには高温(たとえば200−30
0’c)が必要である。したがって、室温で反応を開始
して良好な収率を得る可能性は、本発明記載の方法を特
に有利なものにする。
いだされているが、本件反応は一20°Cの低温でも
1.50°Cの高温でも進行する。温度のし限は高温に
おけるアミンアランの安定性により制限される。本発明
の好ましい具体例においては、工程をほぼ室温(たとえ
ば約25℃)で開始して完了まで進行させる。上に注意
したように、還元剤としてアルカリ金属水素化物を使用
する場合には、ハロゲン化有機ケイ素の水素化物への還
元を開始し、実行するには高温(たとえば200−30
0’c)が必要である。したがって、室温で反応を開始
して良好な収率を得る可能性は、本発明記載の方法を特
に有利なものにする。
本件方法はまた、大気圧以下の圧力でも大気圧以上の圧
力でも実施することができる。しかし、反応容器の経費
を最小限に止どめるには、1気圧ないし2気圧の範囲で
反応を実施するのがより望ましい。
力でも実施することができる。しかし、反応容器の経費
を最小限に止どめるには、1気圧ないし2気圧の範囲で
反応を実施するのがより望ましい。
蒸気相の反応も容易であるので、反応を液相で実施する
ことは必要ではない。蒸気相の反応を実施する際には、
反応剤の効率的な接触が保証されなければならない。反
応を液相で実施するのがより好ましく、適当な溶媒の存
在下に実施するのが最も好ましい。
ことは必要ではない。蒸気相の反応を実施する際には、
反応剤の効率的な接触が保証されなければならない。反
応を液相で実施するのがより好ましく、適当な溶媒の存
在下に実施するのが最も好ましい。
広範囲の炭化水素を、反応を実施するための媒体として
使用することができるが、上記のように、溶媒は必要で
はない。反応剤用の溶媒を用いて反応を液相で実施する
ならば、蒸留による生成物よりの溶媒の分離がより容易
に実行できるように、有機ケイ素生成物とは十分に異な
る沸点を有する溶媒を使用するのが好ましい。適当な溶
媒を選択する場合には、溶媒の沸点は水素化有機ケイ素
より少なくとも5℃高いか、または低いものであるべき
である。好ましくは、溶媒と水素化有機ケイ素との間の
沸点の差は5°Cないし25°Cの範囲、最も好ましく
は7℃ないし20°Cの範囲であるべきである。しかし
、有機ケイ素生成物と比較して5℃以下の、または25
℃以上の沸点差を有する溶媒も使用することができる。
使用することができるが、上記のように、溶媒は必要で
はない。反応剤用の溶媒を用いて反応を液相で実施する
ならば、蒸留による生成物よりの溶媒の分離がより容易
に実行できるように、有機ケイ素生成物とは十分に異な
る沸点を有する溶媒を使用するのが好ましい。適当な溶
媒を選択する場合には、溶媒の沸点は水素化有機ケイ素
より少なくとも5℃高いか、または低いものであるべき
である。好ましくは、溶媒と水素化有機ケイ素との間の
沸点の差は5°Cないし25°Cの範囲、最も好ましく
は7℃ないし20°Cの範囲であるべきである。しかし
、有機ケイ素生成物と比較して5℃以下の、または25
℃以上の沸点差を有する溶媒も使用することができる。
本発明記載の方法に適した溶媒には、使用するために選
択した反応条件下で液体状態であるパラフィン系炭化水
素、環状パラフィン系炭化水素、芳香族炭化水素、ジア
ルキルエーテル、環状エーテル、第3級アミン、第3級
(アルコキシアルキル)アミン、および同等の物質(こ
の種の物質の2種または3種以上の混合物を含めて)が
含まれる。液体芳香族炭化水素溶媒の中でより好ましい
ものは、同種の物質の2種または3種以上の混合物を含
むベンゼン、トルエン、0−キシレン、m−キシレン、
p−キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、
1.2−ジエチルベンゼン% ll3−ジエチルベンゼ
ン、1.4−ジエチルベンゼン、3゜5−ジエチルトル
エン、n−ブチルベンゼン、3−プロピルトルエン、4
−プロピルトルエン、テトラヒドロナフタレン、1.2
,3.4−テトラメチルベンゼン、1.2,3.5−テ
トラメチルベンゼン等である。異なる型の溶媒の2種ま
たは3種以上の混合物、たとえばパラフィン系炭化水素
と芳香族炭化水素との混合物、または1種もしくは2種
以上の炭化水素と1種もしくは2種以上の第3級アミン
との混合物も使用することができる。
択した反応条件下で液体状態であるパラフィン系炭化水
素、環状パラフィン系炭化水素、芳香族炭化水素、ジア
ルキルエーテル、環状エーテル、第3級アミン、第3級
(アルコキシアルキル)アミン、および同等の物質(こ
の種の物質の2種または3種以上の混合物を含めて)が
含まれる。液体芳香族炭化水素溶媒の中でより好ましい
ものは、同種の物質の2種または3種以上の混合物を含
むベンゼン、トルエン、0−キシレン、m−キシレン、
p−キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、
1.2−ジエチルベンゼン% ll3−ジエチルベンゼ
ン、1.4−ジエチルベンゼン、3゜5−ジエチルトル
エン、n−ブチルベンゼン、3−プロピルトルエン、4
−プロピルトルエン、テトラヒドロナフタレン、1.2
,3.4−テトラメチルベンゼン、1.2,3.5−テ
トラメチルベンゼン等である。異なる型の溶媒の2種ま
たは3種以上の混合物、たとえばパラフィン系炭化水素
と芳香族炭化水素との混合物、または1種もしくは2種
以上の炭化水素と1種もしくは2種以上の第3級アミン
との混合物も使用することができる。
反応剤を化学量論的量で使用する場合にも反応は迅速に
進行するが、アミンアランがモル的過剰で存在するのが
より好ましい。アミンアランのモル的過剰は0ないし2
5%の範囲が可能である。
進行するが、アミンアランがモル的過剰で存在するのが
より好ましい。アミンアランのモル的過剰は0ないし2
5%の範囲が可能である。
本件方法の最も好ましい具体例においては、アミンアラ
ンは2ないし10%のモル的過剰で存在する。
ンは2ないし10%のモル的過剰で存在する。
ハロゲン化有機ケイ素とアミンアランとの反応は、ハロ
ゲン化有機ケイ素をアミンアランに添加するか、もしく
はアミンアランをハロゲン化有機ケイ素に添加すること
により、または、両反応剤を容器に基本的に同時に添加
することにより迅速に進行する。好ましい具体例におい
ては、この工程に適合する溶媒中で工程内で形成させた
アミンアランにハロゲン化有機ケイ素を添加する。した
がって、ハロゲン化有機ケイ素との反応に先立って溶媒
からアミンアランを分離することは必要でない。
ゲン化有機ケイ素をアミンアランに添加するか、もしく
はアミンアランをハロゲン化有機ケイ素に添加すること
により、または、両反応剤を容器に基本的に同時に添加
することにより迅速に進行する。好ましい具体例におい
ては、この工程に適合する溶媒中で工程内で形成させた
アミンアランにハロゲン化有機ケイ素を添加する。した
がって、ハロゲン化有機ケイ素との反応に先立って溶媒
からアミンアランを分離することは必要でない。
この反応を実行する手段は本発明記載の方法にとって決
定的なものではない。本発明記載の方法はバッチ反応系
でも、連続反応系でも、半連続反応系でも実施すること
ができる。また、反応時間は温度、反応剤の存在量、反
応剤の擾乱および反応を実行する手段に応じて数分から
1時間、またはそれ以上までの範囲で広範に変えること
ができる。
定的なものではない。本発明記載の方法はバッチ反応系
でも、連続反応系でも、半連続反応系でも実施すること
ができる。また、反応時間は温度、反応剤の存在量、反
応剤の擾乱および反応を実行する手段に応じて数分から
1時間、またはそれ以上までの範囲で広範に変えること
ができる。
本発明の基本的な概念は記述してきたので、ここで、本
発明の詳細な説明するものではあるが限定するものでは
ない、以下の特定の実施例を引用する。
発明の詳細な説明するものではあるが限定するものでは
ない、以下の特定の実施例を引用する。
実施例 1
n−ヘキシルメチルジクロロシランの還元この実施例に
使用するアミンアランは、約1グラムのA Ic 13
(99%)、20グラムのトルエンおよび約3グラム
のトリエチルアミン(99%)を50 mQの丸底フラ
スコに添加して製造した。
使用するアミンアランは、約1グラムのA Ic 13
(99%)、20グラムのトルエンおよび約3グラム
のトリエチルアミン(99%)を50 mQの丸底フラ
スコに添加して製造した。
A Ic +3を全量溶解させ、冷却したところで約1
.5グラムのNaAIH*(97%)を添加し、室温で
4時間撹拌した。ついで、得られたスラリーを濾過して
トリエチルアミンアランの水様の透明な(water−
white)溶液約22グラムを得た。
.5グラムのNaAIH*(97%)を添加し、室温で
4時間撹拌した。ついで、得られたスラリーを濾過して
トリエチルアミンアランの水様の透明な(water−
white)溶液約22グラムを得た。
22グラムのトリエチルアミンアラン溶液に9グラムの
n−ヘキシルメチルシクロロンランを添加し、この混
合物を室温(約25°C)で2時間撹拌し、ついで−晩
装置した。ついで、この反応混合物を100 mO,の
丸底フラスコに入れ、短絡(short pass)蒸
留ヘッドを受器および窒素バブラーとともに取り付けた
。このフラスコ全1500cノ油浴に浸漬し、上記の混
合物を大気圧で蒸留してトルエンおよび生成物を塩化ア
ルミニウムーアミン錯体から除去した。30分後、オー
バーヘッド温度を108ないし118℃の範囲に保ちな
がら、留出液の第1の留分(留分l)約20 gを回収
した。次に、フラスコ中に残留する物質を100°Cの
油浴中で15分間真空蒸留(10mmHg) L、留出
液の第2の留分(留分2)3グラムを回収した。留出液
の核磁気共鳴(NMR)分析により以下の結果を得た:
留分lは17重量%の n−ヘキシルメチルシラン、7
9重量%のトルエンおよび4重量%のトリエチルアミン
であった;留分2は53重量%の n−ヘキシルメチル
シラン、34重量%のトルエンおよび13重量%のトリ
エチルアミンであった。したがって、n−ヘキシルメチ
ルジクロロシランの約87%が n−ヘキシルメチルシ
ラン(n −HexMeS iH2)に転化したことに
なる。塩化アルミニウムートリエチルアミン錯体を蒸留
残留物から回収した。
n−ヘキシルメチルシクロロンランを添加し、この混
合物を室温(約25°C)で2時間撹拌し、ついで−晩
装置した。ついで、この反応混合物を100 mO,の
丸底フラスコに入れ、短絡(short pass)蒸
留ヘッドを受器および窒素バブラーとともに取り付けた
。このフラスコ全1500cノ油浴に浸漬し、上記の混
合物を大気圧で蒸留してトルエンおよび生成物を塩化ア
ルミニウムーアミン錯体から除去した。30分後、オー
バーヘッド温度を108ないし118℃の範囲に保ちな
がら、留出液の第1の留分(留分l)約20 gを回収
した。次に、フラスコ中に残留する物質を100°Cの
油浴中で15分間真空蒸留(10mmHg) L、留出
液の第2の留分(留分2)3グラムを回収した。留出液
の核磁気共鳴(NMR)分析により以下の結果を得た:
留分lは17重量%の n−ヘキシルメチルシラン、7
9重量%のトルエンおよび4重量%のトリエチルアミン
であった;留分2は53重量%の n−ヘキシルメチル
シラン、34重量%のトルエンおよび13重量%のトリ
エチルアミンであった。したがって、n−ヘキシルメチ
ルジクロロシランの約87%が n−ヘキシルメチルシ
ラン(n −HexMeS iH2)に転化したことに
なる。塩化アルミニウムートリエチルアミン錯体を蒸留
残留物から回収した。
実施例 2
ジフェニルジフルオロシランの還元
上の実施例1と同様の手法でトリエチルアミンアランを
製造した。約23グラムのトリエチルアミンアラン溶液
を含有する50 mQの丸底フラスコににIOダラムの
ジフェニルジフルオロシランを全量−時に添加した。白
色沈澱が急速に生皮して濃厚な白色のスラリーが得られ
た。このスラリーを3時間磁気的に撹拌し、粗いガラス
フリットで濾過して約24グラムの濾液と約9グラムの
フィルターケーキとを回収した。この湿ったフィルター
ケーキを5 mQずつの乾燥トルエンで2回洗浄し、つ
いでこのケーキを部分真空下で乾燥した(l mmHg
; 80’0.2時間)。得られた乾燥フィルターケー
キの重量は約2グラムであった。
製造した。約23グラムのトリエチルアミンアラン溶液
を含有する50 mQの丸底フラスコににIOダラムの
ジフェニルジフルオロシランを全量−時に添加した。白
色沈澱が急速に生皮して濃厚な白色のスラリーが得られ
た。このスラリーを3時間磁気的に撹拌し、粗いガラス
フリットで濾過して約24グラムの濾液と約9グラムの
フィルターケーキとを回収した。この湿ったフィルター
ケーキを5 mQずつの乾燥トルエンで2回洗浄し、つ
いでこのケーキを部分真空下で乾燥した(l mmHg
; 80’0.2時間)。得られた乾燥フィルターケー
キの重量は約2グラムであった。
このフィルターケーキを短絡長蒸留ヘッドを取り付けた
50 mQの丸底フラスコに入れた。凝縮9 器を氷水で冷却し、受器をドライアイスで冷却した。こ
のフラスコを大気圧で20分間、油浴で加熱してフラス
コの内容物を140ないし160℃の範囲に加熱した。
50 mQの丸底フラスコに入れた。凝縮9 器を氷水で冷却し、受器をドライアイスで冷却した。こ
のフラスコを大気圧で20分間、油浴で加熱してフラス
コの内容物を140ないし160℃の範囲に加熱した。
オーバーヘッド温度ヲ98すいし112°Cの範囲に保
ちながら、留出液の第1の留分約14 gを回収した。
ちながら、留出液の第1の留分約14 gを回収した。
温度をオーバーヘッドで70°Cに低下させて、100
ないし105℃、圧力8mmHgで30分間真空蒸留し
て、留分2を得た。オーバーヘッド温度を65ないし6
8°Cに保って、留出液の留分2約6.7gを得た。留
分2をとった後の残留物は約0.8グラムであった。
ないし105℃、圧力8mmHgで30分間真空蒸留し
て、留分2を得た。オーバーヘッド温度を65ないし6
8°Cに保って、留出液の留分2約6.7gを得た。留
分2をとった後の残留物は約0.8グラムであった。
ヘリウム中、600ないし650°Cで30分間が焼し
たのちのフィルターケーキのX線回折分析はAlF2(
大量成分)と A IF +、 *60 H1,0G
(少量成分)とを示した。留分2と残留物とをガスクロ
マトグラフィー/質量スペクトル(GC/MS)分析に
より分析して約78%のジフェニルシラン、約20%の
トルエンおよび約0.3%のトリエチルアミンの結果を
得た。したがって、ジフェニルジフルオロシランの68
%がジフェニルシラ0 ン(P has IH2)に約78%の純度で転化した
のである。
たのちのフィルターケーキのX線回折分析はAlF2(
大量成分)と A IF +、 *60 H1,0G
(少量成分)とを示した。留分2と残留物とをガスクロ
マトグラフィー/質量スペクトル(GC/MS)分析に
より分析して約78%のジフェニルシラン、約20%の
トルエンおよび約0.3%のトリエチルアミンの結果を
得た。したがって、ジフェニルジフルオロシランの68
%がジフェニルシラ0 ン(P has IH2)に約78%の純度で転化した
のである。
同様の方法をモノヒドロカルビルシランおよびトリヒド
ロカルビルシランの製造にも使用することができる。本
件明細書に開示したように、ハロゲン化有機ケイ素を対
応する水素化有機ケイ素に還元する際のアミンアラン等
の安定性は2,3の簡単な試験により測定することがで
きる。本発明記載の方法に使用する各反応剤および諸条
件がかなりの変更を受容し得ることが認められ、かつ評
価されるであろう。本発明の真の精神および範囲から外
れることなく、上に記述した本発明の多くの態様を変更
することが可能である。
ロカルビルシランの製造にも使用することができる。本
件明細書に開示したように、ハロゲン化有機ケイ素を対
応する水素化有機ケイ素に還元する際のアミンアラン等
の安定性は2,3の簡単な試験により測定することがで
きる。本発明記載の方法に使用する各反応剤および諸条
件がかなりの変更を受容し得ることが認められ、かつ評
価されるであろう。本発明の真の精神および範囲から外
れることなく、上に記述した本発明の多くの態様を変更
することが可能である。
本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
1、アミンアランをハロゲン化有機ケイ素と反応させて
水素化有機ケイ素を形成させるることよりなるハロゲン
化有機ケイ素の水素化有機ケイ素への還元方法。
水素化有機ケイ素を形成させるることよりなるハロゲン
化有機ケイ素の水素化有機ケイ素への還元方法。
2、上記のハロゲン化有機ケイ素が一般式(R)pS
iX、、 (I )式中、 各Rは独立に、 1)24個以内の炭素原子を含有するヒドロカルビル基
、たとえばアルキル、シクロアルキル、アリール、アラ
ールキル、アルケニルもしくはアルキニル、 2)ハロゲン置換ヒドロカルビル基、たとえばハロアル
キル、ハロシクロアルキル、ハロアリール、ハロアラー
ルキル、ハロアルケニルモジくはハロアルキニル、 または、 3) (1)と(2)との組合わせであり、X は臭
素、塩素、フッ素またはヨウ素であり、 p は1ないし3の整数である により表されるものであることを特徴とする、上記の第
1項記載の方法。
iX、、 (I )式中、 各Rは独立に、 1)24個以内の炭素原子を含有するヒドロカルビル基
、たとえばアルキル、シクロアルキル、アリール、アラ
ールキル、アルケニルもしくはアルキニル、 2)ハロゲン置換ヒドロカルビル基、たとえばハロアル
キル、ハロシクロアルキル、ハロアリール、ハロアラー
ルキル、ハロアルケニルモジくはハロアルキニル、 または、 3) (1)と(2)との組合わせであり、X は臭
素、塩素、フッ素またはヨウ素であり、 p は1ないし3の整数である により表されるものであることを特徴とする、上記の第
1項記載の方法。
3、上記のハロゲン化有機ケイ素が一般式%式%
式中、
各R基は2ないし24個の炭素原子を含有するアルキル
、シクロアルキルまたはアリール基であり、 R′は1ないし24個の炭素原子を含有するヒドロカル
ビル基、たとえばアルキル、シクロアルキル、アリール
またはアラールキル基であり、 Xは臭素、塩素、フッ素またはヨウ素であり、 p は0ないし2の整数である により表されるビス−(ハロゲン化有機ケイ素)である
ことを特徴とする、上記の第1項記載の方法。
、シクロアルキルまたはアリール基であり、 R′は1ないし24個の炭素原子を含有するヒドロカル
ビル基、たとえばアルキル、シクロアルキル、アリール
またはアラールキル基であり、 Xは臭素、塩素、フッ素またはヨウ素であり、 p は0ないし2の整数である により表されるビス−(ハロゲン化有機ケイ素)である
ことを特徴とする、上記の第1項記載の方法。
4、上記のアミンアランが第3級アミンアランであるこ
とを特徴とする上記の第1−3項のいずれかに記載され
た方法。
とを特徴とする上記の第1−3項のいずれかに記載され
た方法。
5、上記の第3級アミンアランが、その各アルキル基が
12個以内の炭素原子を含有するトリアルキルアミンア
ランであることを特徴とする、24 上記の第4項記載の方法。
12個以内の炭素原子を含有するトリアルキルアミンア
ランであることを特徴とする、24 上記の第4項記載の方法。
6、上記のトリアルキルアミンアランがトリ低級アルキ
ルアミンアラン、たとえばトリメチルアミンアラン、ト
リエチルアミンアラン、N、N−ジエチルメチルアミン
アラン、トリプロピルアミンアラン、トリブチルアミン
アラン等であることを特徴とする上記の第5項記載の方
法。
ルアミンアラン、たとえばトリメチルアミンアラン、ト
リエチルアミンアラン、N、N−ジエチルメチルアミン
アラン、トリプロピルアミンアラン、トリブチルアミン
アラン等であることを特徴とする上記の第5項記載の方
法。
7、上記の反応を液体芳香族炭化水素媒体中で実施する
ことを特徴とする、上記の各項のいずれかに記載された
方法。
ことを特徴とする、上記の各項のいずれかに記載された
方法。
8、上記の液体芳香族炭化水素媒体がベンゼン、トルエ
ン、0−キシレン、m−キシレン、p−キシレンまたは
エチルベンゼンであることを特徴とする、上記の第7項
記載の方法。
ン、0−キシレン、m−キシレン、p−キシレンまたは
エチルベンゼンであることを特徴とする、上記の第7項
記載の方法。
9、上記の反応をほぼ室温で開始させることを特徴とす
る上記の各項のいずれかに記載された方法。
る上記の各項のいずれかに記載された方法。
Claims (1)
- 1、アミンアランをハロゲン化有機ケイ素と反応させて
水素化有機ケイ素を形成させることを特徴とするハロゲ
ン化有機ケイ素の水素化有機ケイ素への還元方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/420,757 US4925963A (en) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | Process for reduction of organosilicon halides |
| US420757 | 1995-04-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03184981A true JPH03184981A (ja) | 1991-08-12 |
Family
ID=23667719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2270646A Pending JPH03184981A (ja) | 1989-10-12 | 1990-10-11 | ハロゲン化有機ケイ素の還元方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4925963A (ja) |
| JP (1) | JPH03184981A (ja) |
| KR (1) | KR910007940A (ja) |
| DE (1) | DE4032168A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5191099A (en) * | 1991-09-05 | 1993-03-02 | Regents Of The University Of Minnesota | Chemical vapor deposition of aluminum films using dimethylethylamine alane |
| DE4313130C1 (de) * | 1993-04-22 | 1994-05-26 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von Silanen bzw. Organosiliciumhydriden durch Reduktion der entsprechenden Siliciumhalogenide bzw. Organosiliciumhalogenide |
| US5329038A (en) * | 1993-12-29 | 1994-07-12 | Dow Corning Corporation | Process for hydrogenation of chlorosilane |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2567972A (en) * | 1946-12-19 | 1951-09-18 | Hermann I Schlesinger | Method of making aluminum-containing hydrides |
| US2576311A (en) * | 1947-06-03 | 1951-11-27 | Edna M Schlesinger | Method of reducing and hydrogenating chemical compounds by reacting with aluminum-containing hydrides |
| US2857414A (en) * | 1954-09-18 | 1958-10-21 | Kali Chemie Ag | Preparation of partially substittuted silanes and silane |
| DE1034174B (de) * | 1956-08-28 | 1958-07-17 | Kali Chemie Ag | Verfahren zur Alkylierung von Siliciumtetrachlorid oder Alkyl- bzw. Arylchlorsilanen |
| US3398171A (en) * | 1964-03-02 | 1968-08-20 | Ethyl Corp | Process of producing organohalosilanes |
| DE1288089B (de) * | 1965-11-15 | 1969-01-30 | Stauffer Chemical Company, New York, N.I. (V.St.A.) | Verfahren zur vollständigen Reduktion von Organosiliciumverbindungen |
| US4006095A (en) * | 1972-03-31 | 1977-02-01 | Lithium Corporation Of America | Stable hydrocarbon solutions of aluminum hydride |
| US3926833A (en) * | 1973-03-21 | 1975-12-16 | Lithium Corp | Preparation of mixed chlorohydrides of aluminum |
| JPS589809A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 水素化ケイ素の新しい製造方法 |
| US4367343A (en) * | 1981-12-31 | 1983-01-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Synthesis of tetraalkylsilanes |
| US4474743A (en) * | 1983-07-21 | 1984-10-02 | Ethyl Corporation | Preparation of silane from amine alanes |
| US4595777A (en) * | 1985-03-04 | 1986-06-17 | Gulf Research & Development Company | Silahydrocarbons from alkylchlorosilanes |
| US4665207A (en) * | 1985-10-02 | 1987-05-12 | Ethyl Corporation | Preparation of amine alane complexes |
| US4683321A (en) * | 1986-10-27 | 1987-07-28 | Ethyl Corporation | Preparation of dialkyldialkoxysilanes and related compounds |
| US4711965A (en) * | 1987-02-24 | 1987-12-08 | Ethyl Corporation | Preparation of alkyl silanes |
| US4711966A (en) * | 1987-03-19 | 1987-12-08 | Ethyl Corporation | Preparation of alkyl silanes |
-
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