JPH03185053A - ポリエーテルエステルブロック共重合体組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、特定のフェノール系酸化防止剤、コポリエス
テル系に適した光安定剤及びアミン系光安定剤の３成分
系安定剤の組合せによって優れた耐候性を持つポリエー
テルエステル弾性重合体のＭｌｌ動物関するものである
。

（従来の技術と発明が解決しようとする課題）コポリエ
ーテルエステル弾性重合体は通常シート、フィルム或い
は成形物としてホース、ベルト、スポーツ用品等、多様
な用途で使用されている。

しかし、−膜内に高分子物質がいろいろの用途にうまく
使用されるには、使用に伴う外形又は物性の変化が少な
いか或いは皆無でなければならないが、現在多くの成形
物等は空気中の酸素やオゾン、水分、紫外線、熱の作用
により劣化し、外気に露出して使用する時、着色、表面
の亀裂、強伸度及び重合度の低下等、好ましくない現象
を起こす欠点があった。

このような高分子物質について耐候性を改善する努力が
長い開存われてきたが、未だ効果的な安定剤は見出され
ていない。

従来のコポリエーテルエステル弾性重合体の耐候性改善
の為の種々の安定剤の効果に関して、特開昭５０−９１
６５２号、ヨーロッパ特許０００３８０９号で開示され
ているが、これらの方法では安定剤の使用及びその投入
量に対する配慮が不充分であって、樹脂の分解が促進さ
れ、変色または汚染の発生等その効果面において多くの
問題があった。

本発明者らは、日光による分解および安定化作用を多角
的に研究検討を重ねた結果、ポリエステル系に適する特
定の３＄、分糸安定剤を配合したものが、樹脂の特性調
整によって露光に起因する物性低下を顕著に低下させる
ことを見出し本発明を完成するに至った。

（課題を解決するための手段） 本発明の光安定化された樹脂は米国工業規格試験Ｇ−２
３による耐候性試験において、引張強度の５０％低下時
間が２００時間以上であることを特徴とする。

本発明のポリエーテルエステルブロック共重合体は１０
〜７５重量％の長鎖エステル単位体と２５〜９０重量％
の短鎖エステル単位体により構成され、全グリコール含
量中５〜２５モル％はポリアルキレンオキシドグリコー
ル、７５〜９５モル％は分子量２５０以下の短鎖ジオー
ルで構成され、短鎖ジオール含量中５０−１００モル％
は１．４−シクロヘキサンジメタノールであって、０〜
５０モル％は第３の脂肪族ジオールで構成されたＡ成分
とミ特定の３成分系光安定剤であって、立体的に阻害（
ｈｉｎｄｅｒ）されたフェノール系安定剤、コポリエス
テル樹脂に適した優れた光安定剤と下記一般式（！〉の
ような立体的に阻害されたア泉ン系の光安定剤を配合し
たＢＦＩｉ、分の組合せによる。

（但し、式中ｎは３〜３０の整数であり、Ｒ−よ水素、
Ｒ１、Ｒ２は置換又は非置換の炭素数１〜２５のアルキ
ル基、炭素数６〜２５のアリル基、炭素数１〜２５のア
ルキレン基、炭素数３〜１２のシクロアルキレン基、炭
素数１−１８のヒドロキシアルキル基とそのエステル基
、炭素数２〜１８のアルキレンカルボキシル酸とそのエ
ステルおよびアミド等の多様な置換体から独立的に選択
されたものである。）本発明によって、光安定化したコ
ポリエーテルエステル弾性重合体は日光による分解が至
極少なく、米国工業規格試験Ｇ−２３の方法で耐候性試
験を実施した結果、その物性、特に引張強度の低下率は
非常に低下して、初期引張強度が５０％低下するのにか
かる時間が２００時間以上である。

コポリエーテルエステルの酸成分では分子量が３００以
下で反応基が２個である芳香族ジカルボキシ酸が好まし
い。

長鎖エステル単位体の中長鎖グリコールは末端基がヒド
ロキシであり、分子量が４００〜４０００のポリオール
であって、酸素原子に対する炭素原子数の比が２．０〜
４．３であるポリアルキレンオキシドグリコール、例を
挙げれば、ポリ　（エチレンオキシド）グリコール、ポ
リ　（１，２−および１，３−プロピレンオキシド）グ
リコール、ポリ　（テトラメチレンオキシド）グリコー
ル、エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロック
コポリマー等がある。

又、短鎖エステル単位体の中、短鎖ジオールは分子量が
２５０以下の低分子量ジオールを使用できる。例を挙げ
れば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１
．４−ブタンジオール、１１６−ヘキサンジオールの脂
肪族ジオールとその他のシクロジオールが使用できる。

特に本発明は、ジメチルテレフタレートと全グリコール
含量中５〜２５モル％のポリアルキレンオキシドグリコ
ール、短鎖のジオール全台量中５０〜１００モル％の１
．４−シクロヘキサンジメタノール、０〜５０モル％の
１，４−ブタンジオール或いはエチレングリコールを使
用できるが、特に長鎖ノシオールは、分子量が６００〜
２０００であるポリテトラメチレングリコール又は分子
量が１５００〜２０００でエチレンオキサイド含量１５
〜３５重量％のポリ（プロピレンオキシド）グリコール
を使用できる。

さらに光安定効果を出す組成物としては、立体的に阻害
されたフェノール系酸化防止剤を第１成分とし、一般式
（ｎ）〜（Ｖｌ）で示されるコポリエーテルエステルに
相溶性の良い光安定剤を第２成分とし、一般式（１）で
示される立体的に阻害されたアミン系光安定剤を第３成
分として組み合わせる。

本発明の第１威分であるコポリエステル系に適したフェ
ノール系の酸化防止剤は、ポリオレフィン系の立体的に
阻害された非揮発性のものが良い。

好適例としては次のようなものが挙げられる。

１、３．５−、−トリス（３，５−ジーｔａｒｔ−ブチ
ルー４−ヒドロキシベンジル＞−Ｓ−トリアジン−２゜
４．６−　　（１’、３’　　５’）　　−トリオン、
３．５−ジーｔｅｒ　ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒド
ロ桂皮酸トリエステルおよび１．３．５．−　）リス−
（２−ヒドロキシエチル）−５−トリアジン−２゜４．
６−　（１’、３’、５’）−）リオンの併用、０、０
−ジ−ｎ−オクタデシル−３，５−ｄｉＥｅｒ　ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、 オクタデシル−３，５−ジーｔｅｒ　ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシヒドロ桂皮酸アミド、 チオ−ジエチレン−ビス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチ
ルー４−ヒドロキシ）ヒドロ桂皮酸アミド、Ｎ、Ｎ’−
へキサメチレン−ビス（３，５−ジーｔｅｒ　ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシ）ヒドロ桂皮酸アミド、 １、３．５−　トリメチル−２，４，６−）リス−（３
゜５−’；−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジ
ル）ベンゼン、 ２．４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジーｔｅｒ　ｔ−ブチルアニリノ）１、
３．５−　）リアジン、 ｎ−オクタデシル−３，５−ジーｔｅｒ　ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニルアセテート、 １、３．５−　）リス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３ヒ
ドロキシ−２，６−シメチルベンジル）　−１，３゜５
−トリアジン−２，４，６−（１’、３’、５’）−ト
リオン、 ２．２゛−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ
−ブチル−フェノール）、 ４．４′−メチレン−ビス（２，６−シーｔａｒｔ−ブ
チルフェノール）、 ４．４゛−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチ
ルフェノール〉等であり、これらは“イルガノクスー１
０１０″酸化防止剤のようにチバ・ガイギー社、米国の
サイナミド社が既に商品化している。

第２成分である光安定剤は、−船釣にエステル系に適し
た光安定剤のうち下記の一般式で示される化合物を使用
する。

ｐ。

（但し、上記一般式（ｎ）中Ｘは水素或いは塩素であり
、Ｒ８、Ｒ４は水素、ヒドロキシ基、炭素数１〜１８の
線状或いは分枝状アルキル基、置換又は非置換のアルキ
ル或いはアルコキシ基、炭素数７〜２２のアリル基、ア
ルキレニルアリール基等から独立的に選択されたもので
あり、式（Ｉ［［）のＲ３、Ｒ＆、　Ｒｆｆは炭素数１
〜１８の線状或いは分枝状アルキル基、置換又は非置換
のアルキル基と炭素数３〜１８のアルキレン・カルボニ
ルオキシアルキル基等から独立的に選択されたものであ
り、式（ｒＶ）のＲ・、Ｒ９、Ｒ１１１、Ｒｏは水素、
炭素数１〜１８の線状或いは分枝状、置換又は非置換の
アルキル基から各々独立的に選択されたものであり、式
（Ｖ）のＸ′は水素或いはメチル基、メトキシ基であり
、Ｙ、Ｚはシアノ基、アルキルエステル基であり、Ｌｘ
は炭素数１〜１８の置換又は非置換の線状或いは分枝状
のアルキル又はアルコキシ基であり、及び式（Ｖｌ）の
Ｒ１３は水素、炭素数１〜１８の置換又は非置換の線状
或いは分枝状のアルキル又はアルコキシ基である。） 一般式（ＩＩ）から（Ｖｌ）までの光安定剤は２−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール系（ＩＩ）　、２−ヒドロキ
シベンゾフェノール系（■）、オキサニリド系（ｒＶ）
　、アクリル酸とマロン酸のエステル系（■）、サリチ
ル酸の芳香族エステル系（ＶＩ）である。例としては、
２−ヒドロキシベンゾトリアゾール系には ２−（２’−ヒドロキシ−５゛−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、 ２−（２’−ヒドロキシ−３’、　５’−ジーｔｅｒ　
ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（２’−ヒドロキシ−３’、　５’−ジーｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’、　５’−ジーｔｅｒ　
ｔ−アミールフェニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（２’−ヒドロキシ−３’　−ｔｅｒｔ−ブチル−
５”−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、 ２−（２’−ヒドロキシ−３’　−５ｅｃ−ブチル−５
゛−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、 ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６
−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール
等が挙げられる。

又、２−ヒドロキシベンゾフェノン系としては、２．４
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−ドテシルオキシベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ−４−ステアロオキシベンゾフェノン、 ２−ヒドロキシ−４−フェノキシベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゾフ
ェノン、 ２−ヒドロキシ−４−（２’−ヒドロキシ−３゛−アク
リルオキシ−プロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−（２’−ヒドロキシ−３°−メタクリルオキ
シプロポキシ）ベンゾフェノン、２．２”−ジヒドロキ
シベンゾフェノン、２．２′−ジヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン、 ２．２゛−ジヒドロキシ−４−ラウロキシベンゾフェノ
ン、 ２．２°、４，４°−テトラヒドロキシベンゾフェノン
等がある。

オキサニリド系としては２−エトキシ−２°−エチルオ
クサニリド、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−エトキシ−２
”−エチルオクサニリド等がある。

アクリル系エステルとしては、２−エチルへキシル−２
−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチ
ル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、ブ
チル−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフ
ェニル）アクリレート等がある。

サリチル酸エステルはｐ−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル
サリチレート、フェニルサリチレート、カルボキシフェ
ニルサリチレート等がある。これらはチヌビンＰ　（Ｔ
ｉｎｕｖｉｎ　Ｐ）、チヌビン３２６、チヌビン１１４
、シアソルブＵＶ　５３１　（Ｃｙａｓｏｒｂ　ＵＶ　
５３１）、シアソルブＵＶ　５４１１等で、チバガイギ
ー社と米国のサイナミド社で既に商品化されている。

立体的に阻害された上記一般式（１）で示される第３成
分であるアミン系光安定剤は、“チマソルプ（Ｃｈｉｍ
ａｓｏｒｂ）　９４４”シアソルブＵＶ　３３４６″と
して市販されている。

本発明コポリエーテルエステルの優れた耐候性は、短鎖
ジオール含量中５０〜１００モル％の１．　４−シクロ
ヘキサンジメタノールと上記３戊分系の組合せによる。

特にこの添加量は弾性体樹脂１００重量部に対して、約
０．０１〜１．０重量部の立体的に阻害されたフェノー
ル系酸化防止剤、０．０４〜５．０重量部のコポリエー
テルエステルに適した光安定剤及び０．０１〜２．０重
量部の一般式（１）で示される立体的に阻害されたアミ
ン系光安定剤に基づくので、添加量が前記範囲よりも少
ないと、その効果は小さく、また前記範囲よりも多い場
合は、投入量に伴う効果の上昇があまり大きくないので
経済性において問題がある。又、過量投入による物性の
低下及び汚染等の問題を招く、安定剤は、重合中に、或
いは重合後の溶融状態で混合するか、或いは重合後の生
成物と混合することが出来る。

添加された３成分系安定剤の諸機能は次の通りである。

第１成分である立体的に阻害されたフェノール系酸化防
止剤は、重合体内から生成され酸化を促進するラジカル
（基）と結合してラジカル反応を抑制し、構造的に立体
障害を生じさせ、酸化反応を抑制する作用があり、一般
式（ｎ）〜（Ｖｌ）で示された光安定剤は紫外線を吸収
して光分解を起こさない他の形態のエネルギー、即ち熱
になってエネルギーを分散する役割をする。

一般式（１）で示された立体的に阻害されたアミン系光
安定剤は、紫外線を吸収する機能は無いが、分解によっ
て生成する過酸化物を削減させるのでその効果は非常に
優れている。特にオリゴマー形態になっているので、揮
発性が良くなく、長い期間光安定効果を維持することが
出来る。また立体障害を起こし酸化反応の雰囲気になる
ことを抑える働きがある。

フェノール系酸化防止剤の単独添加では低い効果しか与
えないが、この３成分の組合せによって、その効果を上
げることが出来、光を吸収すると同時に光分解による過
酸化物の生成も抑えることが出来る等、種々の効果が得
られる。

（発明の効果） 本発明によるコポリエーテルエステルは、溶融強度の調
節の為、ジメチルテレフタレート１００モルに対して０
．０１モル％〜３モル％の架橋剤を使うことが出来る。

又用途によって顔料、染色剤、燐系の成形安定剤、充填
剤等を使用することも出来る。こうして安定化されたコ
ポリエーテルエステルは多様な用途及び形態に応じて押
出、ブロー押出、射出成形等が用いられ、室外でも有効
に使用することが出来る。

（実施例） 以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明する。

実施例１ フラスコの内部半径と同一の半径で底面から約３開の高
さに位置したステンレス鋼撹拌機と蒸留塔が設置された
フラスコ内に次の物質を投入した。

ポリ　（テトラメチレンオキシド）グリコール（分子量
１０００）　　　　　　　　　４６．７３重量部ジメチ
ルテレフタレート　　　　４５．３１　　〃１．４−ブ
タンジオール　　　１９．３０　　〃１．４−シクロヘ
キサンジメタノール １６．１９　　〃 （６０モル％） トリメリット酸無水物　　　　　０．４５重量部テトラ
ブチルチタン酸塩　　　　０．１〃イルガノクス−１０
１００，１〃 （添加組成量は最終物質ポリマー１００重量部に対する
重量部単位である）。

フラスコを１６０℃の油浴に入れ、５分間撹拌した後、
テトラブチルチタン酸塩／１，４−ブタンジオール溶液
を添加した。温度を１時間に亘って２５０℃まで徐々に
上げることによって反応混合物からメタノールを蒸発さ
せ、温度が２５０℃に達した時、圧力は２０分間に約２
７０Ｐａまで漸次減少させた。重合反応物質を２５０℃
で５５〜９０分間撹拌し、真空下に窒素を吹き込むこと
によって重縮合反応を停止した。得られた粘性の溶融生
成物は窒素雰囲気下にフラスコから取り出した後、冷却
した。

その結果生成した重合体は、２３０℃の温度で約２７０
０〜３０００ｐｓｉの溶融粘度を有し、１．０〜１．５
の固有粘度を有していた。このコポリエーテルエステル
弾性重合体を乾燥して粉末にした（約３０メツシユ）。

この粉末１００重量部に”イルガノクスー１０１０″０
．１重量部、′イルガフオスー１６８”０．０５重量部
、′チマソルプー９４４”　０．０５重量部、”チヌビ
ンー２３４′″０．２重量部を混合し、ブロー押出によ
って厚さ０．４ｍｍのフィルムを得た。このフィルムを
韓国工業規格試験Ｍ６５１Ｂの引張強度試験片３型に合
うように準備して、米国工業規格試験Ｇ２３のＥタイプ
の方法によって耐候試験を実施し、各時間別の引張強度
を韓国工業規格試験Ｍ６５１Ｂによって測定し、その物
性が５０％になる時間を測定した。

実施例２〜４ 実施例１の方法で重合生成されたコポリエーテルエステ
ルの重合体粉末に表１のように種々の安定剤を添加して
実施例１の方法で測定した。添加した種々の光安定剤成
分別実験結果は表■の通りである。

比較例１〜３ 安定剤成分を添加しなかった以外は、実施例１と同様に
実施して評価した。添加した各光安定剤の成分別実験結
果は表１に示す。

表１ ＊添加組成物は共重合体ｌ００部に対する重量部単位で
ある。

＊イルガフオス１６８はリン酸系、酸化防止剤（ジステ
アリルペンタエリトリロールジホスフェート、チバガイ
ギー社製品）であり、 ＊チマソルプ９４４は立体的に阻害されたアミン系光安
定剤〔ポリ（（６−（（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）アミン）　−１，３，５−トリアジン２．４−
ジイル）　（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジニル）イミノ）　−１，６−ヘキサンジイル（（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イ
ミノ））〕、チバガイギー社製品であり・ ＊チヌビン２３４は、光安定剤（２−（２’−ヒドロキ
シ−３′、５”−ジーｔｅｒ　ｔ−アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール〕、チバガイギー社製品であり・ ＊イルガノクス１０１０はフェノール系酸化防止剤〔ペ
ンタエリトリロールテトラキス（３，５−ジｔｅｒｔ−
７’チルー４−ヒドロキシヒドロシンナメイト〕、チバ
ガイギー社製品であり、 ＊レゾルシノール系安定剤は光安定剤〔３−ヒドロキシ
フェニル−４−（２−ベンゾオキサシリル）ベンゾエー
ト）〕であり、 ＊シアソルダＵＶ　３３４６は立体的に阻害されたアミ
ン系光安定剤〔ポリ（（６−（（モルホリン）−１゜３
．５−トリアジン−２，４−ジイル）　（（２，２，６
゜６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミノ）−１
，６−ヘキサンジイル（（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジニル）イミノ）〉〕、サイナミド社製
品であり、 ＊チヌビン６２２は光安定剤コハク酸とＮ−β−ヒドロ
キシエチル−２，２，６，６−ブトラメチル−４−ヒド
ロキシピペリジンのポリエステル結合物、チバガイギー
社製品であり、 ＊シアソルダＵＶ　５３１は光安定剤〔２−ヒドロキシ
−４−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゾフェノン〕、サイナミ
ド社製品である。

比較例４〜１０ 次に示す組成物を使用した以外は、実施例１の方法に準
じて弾性重合体を製造した。

ポリ　（テトラメチレンオキシド）グリコール（分子量
１０００）　　　　　　　　　４７．７１重量部ジメチ
ルテレフタレート　　　　４６．２８　−１．４−ブタ
ンジオール　　　２３．２２　　〃１．４−シクロヘキ
サンジメタノール １０．９７　　〃 （４０モル％） トリメリット酸無水物　　　　　０．４６重量部テトラ
ブチルチタン酸塩　　　　０．１〃イルガノクス−１０
１００，１〃 （添加組成物は最終物質ポリマー１００重量部に対する
重量部単位である）。

生成された溶融粘度２５００〜２７００ｐｓｉ　、固有
粘度１．０〜１．５の重合弾性体粉末を乾燥した後、安
定剤を下記表２に示す割合で投入し、０．４ｍｍ厚さの
フィルム状に押出した後、上記実施例１〜４のような方
法で耐候性実験を実施した。その結果は表２に示す。

表２ 本発明は以上の実施例のみに限定されることなく前記実
施例で評価されたように、耐候性実験後初期引張強度に
対し５０％の物性低下が起こる時間が、比較例の組成物
に比べて、はるかに長くかかることが分った。従って本
発明の３成分系組成物は優れた耐候性を持っていると言
える。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）全グリコール含量中５〜２５モル％のポリアルキ
   レンオキシドグリコールと７５〜９５モル％の低分子量
   のジオール、特に低分子量ジオール中５０〜１００モル
   ％は１，４−シクロヘキサンジメタノールで、０〜５０
   モル％は第３の脂肪族ジオールで構成されたＡ成分と、
   立体的に阻害された少なくとも１種のフェノール系の酸
   化防止剤を第１成分として、下記の一般式（II）〜（V
   I）で示される少なくとも１種以上のコポリエステル系
   に適した光安定剤を第２成分として、下記一般式（ I
   ）で示される少なくとも１種以上の立体的に阻害された
   アミン系光安定剤を第３成分として、これら３成分系の
   組合せによるＢ成分の組合せによって、溶融粘度２７０
   ０〜３０００ｐｓｉ、固有粘度１．０〜１．５であるこ
   とを特徴とするポリエーテルエステルブロック共重合体
   組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （但し、式中ｎは３〜３０の整数であり、Ｒ＿１は水素
   、Ｒ＿１、Ｒ＿２は置換又は非置換炭素数１〜２５のア
   ルキル基、炭素数６〜２５のアリール基、炭素数１〜２
   ５のアルキレン基、炭素数３〜１２のシクロアルキレン
   基、炭素数１〜１８のヒドロキシアルキル基とそのエス
   テル基、炭素数２〜１８のアルキレンカルボキシル酸と
   そのエステルおよびアミドである。） ▲数式、化学式、表等があります▼・・（II） （但し、式中Ｘは水素或いは塩素であり、Ｒ＿３、Ｒ＿
   ４は水素、ヒドロキシ基、炭素数１〜１８の線状或いは
   分枝状のアルキル基、置換又は非置換のアルキル或いは
   アルコキシ基、炭素数７〜２２のアリール基、アルキレ
   ニルアリール基から独立的に選択されたものである。） ▲数式、化学式、表等があります▼・・（III） （但し、式中Ｒ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿７は炭素数１〜１８
   の線状或いは分枝状のアルキル基、置換又は非置換のア
   ルキル基と炭素数３〜１８のアルキレンカルボニルオキ
   シアルキル基から独立的に選択されたものである。） ▲数式、化学式、表等があります▼・・（IV） （但し、式中Ｒ＿８、Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１
   は水素、炭素数１〜１８の線状或いは分枝状の置換又は
   非置換のアルキル基から独立的に選択されたものである
   。）▲数式、化学式、表等があります▼・・（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・（VI） （但し、式中Ｘ′は水素或いはメチル基、メトキシ基で
   あり、Ｙ、Ｚはシアノ基、アルキルエステル基であり、
   Ｒ＿１＿２は炭素数１〜１８の置換又は非置換の線状或
   いは分枝状のアルキル又はアルコキシ基であり、Ｒ＿１
   ＿３は水素、炭素数１〜１８の置換又は非置換の線状或
   いは分枝状のアルキル又はアルコキシ基である。）
2. （２）全グリコール含量中５〜２５モル％のポリアルキ
   レンオキシドグリコールは、分子量が６００〜２０００
   であるポリテトラメチレングリコール又は分子量が１５
   ００〜２０００であってエチレンオキシド含量が１５〜
   ３５重量部であるポリプロピレンオキシドグリコールで
   あり、７５〜９５モル％の低分子量ジオールは、５０〜
   １００モル％の１，４−シクロヘキサンジメタノール、
   ０〜５０モル％の分子量２５０以下の脂肪族ジオール、
   特にエチレングリコール又はジエチレングリコール又は
   １，４−ブタンジオールで構成されていることを特徴と
   する請求項１記載のポリエーテルエステルブロック共重
   合体組成物。
3. （３）３成分系のＢ成分が、樹脂１００重量部に対して
   立体的に阻害されたフェノール系酸化防止剤０．０１〜
   １．０重量部、立体的に阻害されたアミン系光安定剤０
   ．０１〜２．０重量部の組成比を維持することを特徴と
   する請求項１記載のポリエーテルエステルブロック共重
   合体組成物。